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1、晶体晶体完美性完美性de鉴定鉴定报告人:叶佳测定晶体缺陷结构的重要测定晶体缺陷结构的重要晶体中缺陷的种类、数量是鉴晶体中缺陷的种类、数量是鉴别晶体质量优劣的重要标志别晶体质量优劣的重要标志。晶体的缺陷通常能够吸收、反晶体的缺陷通常能够吸收、反射或散射晶体内部产生的或是射或散射晶体内部产生的或是由外部输入的磁、光、声和电由外部输入的磁、光、声和电能量，从而影响晶体的性能。能量，从而影响晶体的性能。晶体中的缺陷按几何线度分类体缺陷体缺陷面缺陷面缺陷线缺陷线缺陷点缺陷点缺陷测量测量结构欠完美性的方法方法n n光学法光学法 最早最有用的鉴定方法之一最早最有用的鉴定方法之一n n透射电子显微术透射电子显
2、微术 昂贵分辨率高昂贵分辨率高n nX X射线形貌术射线形貌术 包括最广泛使用的近代技术包括最广泛使用的近代技术n n扫描电子显微术扫描电子显微术 提供了一整套技术，对于半导提供了一整套技术，对于半导体材料的研究有特殊意义体材料的研究有特殊意义X射线形貌术分类 根据试样厚度根据试样厚度t的多少来分类的多少来分类 当ut1时，一般选择反常投射形貌术 u u是所选用的单色是所选用的单色X X射线的先行吸收系数射线的先行吸收系数兰氏法最广泛使用的形貌术vv晶体和胶片一起晶体和胶片一起晶体和胶片一起晶体和胶片一起移动，用照片方法移动，用照片方法移动，用照片方法移动，用照片方法纪录的是经选择的纪录的是经
3、选择的纪录的是经选择的纪录的是经选择的直射或衍射光束强直射或衍射光束强直射或衍射光束强直射或衍射光束强度的逐行扫描纪录度的逐行扫描纪录度的逐行扫描纪录度的逐行扫描纪录图。图。图。图。完美晶体中的缺陷引起反射轻度的完美晶体中的缺陷引起反射轻度的局部增加。在消光衬比条件下，当局部增加。在消光衬比条件下，当衍射光束来记录形貌图时，缺陷表衍射光束来记录形貌图时，缺陷表现为一些强度比完美晶体背景更强现为一些强度比完美晶体背景更强的区域。的区域。一颗宽约一颗宽约44毫米的天然金毫米的天然金刚石的兰氏刚石的兰氏XX射线形貌图射线形貌图硅单晶纵断面的兰氏硅单晶纵断面的兰氏XX射线形貌图射线形貌图X射线形貌术适用于生长态的射线形貌术适用于生长态的整体晶体，而起飞破坏性及整体晶体，而起飞破坏性及其分辨率和可详细解释性已其分辨率和可详细解释性已达可接受的水平，因此这种达可接受的水平，因此这种技术是一种最有价值的鉴定技术是一种最有价值的鉴定技术。技术。 参考书晶体生长 中国建筑工业出版社 晶体生长 科学出版社 晶体生长技术 机械工业出版社Thank You
