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1、光谱的产生及意义Stillwatersrundeep.流静水深流静水深,人静心深人静心深Wherethereislife,thereishope。有生命必有希望。有生命必有希望報告大綱壹：“光”的特性。貳：光譜產生的原理。參：光譜的分類。肆：吸收光譜的介紹。伍：光學光譜的介紹。陸：抗反射光譜的介紹。柒：抗反射光譜的變動。壹：“光”的特性一：粒子說（能量特性）：能量固定； 直線前進； 二：波動說（傳遞特性）：透射與反射； 繞射； 干射；頻率及振幅決定能量大小停止前進，光線即消失，能量轉成熱量；振幅相抵消，光線即減弱（消失），能量轉成熱量；圖5.1 電磁波之分類與範圍貳：光譜產生的原理參：光譜的分
2、類一：吸收光譜。二：光學光譜肆：吸收光譜的介紹一：產生原因： （一）分子內原子的相對運動所需的能量固定（E）； （二）EhhC（波長）； （三）相對運動的型態：旋轉、振動、扭曲；不同運動方式，不同能量，不同波長 光譜 二：強度決定因素： （1）成份 （2）濃度（或含量） 三：會產生吸收光譜的物質：分子結構 （1）有機物； （2）液體：水、溶劑、氨水等； （3）氣體：二氧化碳、氧氣、氮氣等；四：不會產生吸收光譜的物質： （1）金屬； （2）金屬氧化物：二氧化鈦、二氧化矽； （3）玻璃伍：光學光譜的介紹一：產生原理：光線相互“干射”形成。二：產生物質：“透光” 、“薄膜”介質“組合”三：光譜形狀及
3、光線強度決定因素： （一）介質折射率：本身特性及含量； （二）結晶型態相對折射率； （三）厚度； （四）相對折射率； （五）反射率。 反射一次干射二次干射空氣空氣SiO2TiO2玻璃玻璃干射原理一： 基本原理：干射效應效應要能發揮： 12H2 23H3（2） （：相對折射率；H：厚度）二： 的取決因素： （一）本身的結晶性。 （二）本身的純度。 （三）相對的比值。以測試波長：580nm， SIO2（1.40）厚度：180nm， TiO2 （2.89）厚度：130nm計 12 1.40；12H225229038 232.07；23H3253958041 一次干射二次干射 一次干射 （nm） 厚度
4、 （nm） 速度 （SD） 二次干射 （nm） 厚度 （nm） 速度 （TiO2） 250 180 780 540 130 325 328 80 245 328 235 250 70 110 540 385 220 157 520 510 123 300陸：抗反射光譜的介紹。一：為何需要“抗反射” ？二：需要甚麼樣的“抗反射光譜” 。三：膜層設計。四：色澤的比較。一：為何需要“抗反射” ？LCD的背光光源強度低：避免外部光 線的投影： 一：電視螢幕。 二：儀表。 三：光學系統。二：需要甚麼樣的“抗反射光譜” 白熱燈泡光波長分佈圖 日光燈管光波長分佈圖 半螺旋型省電燈泡光波長分佈圖抗反射光譜膜層
5、設計一：高折射介質優先設定：有無限多組。二：高折射介質厚度設定：4 5：變異小三：儘可能薄：降低反射（前提：製程安定）。四：不同折射率的二氧化鈦，不同厚度：附註説明：折射率低，無法有效抑制長波長（紅光）。 折射率高，反射率亦高，偏藍光。 生產方式 溶劑鍍膜 蒸鍍 水性鍍膜 折射率 2.2 2.4 2.7 設計膜厚 130 119 106四：色澤的比較 比較項目 紫紅色 深藍色 蒸鍍 溶劑型溶膠 水性溶膠 習慣性 質感 對眼睛的負荷 透光性 柒：抗反射光譜的變動變動分類： 一：鍍膜過程光譜變動（同一片）。 二：長期生產過程的變動（不同片）。 三：溶膠合成過程的變動。鍍膜過程光譜變動原因一：厚度變
6、動；二：孔隙度變動；影響（相對折射率）三：結晶型態變動。溶劑型溶膠各種成份的比重及折射率： 類別 比重 折射率 Ti(OR)4 0.97 1.03 Ti(OR)3(OH) 1.08 Ti(OR)2(OH)2 1.27 1.18 Ti(OR)(OH)3 1.56 Ti (OH)4 2.45 1.42 TiO2（A） 3.90 2.56 TiO2（R） 4.23 2.62 TiO2（B） 4.13 2.59比重變動的因素一：結晶結構的變動（D）； D（V1V2）D1V1 D2 V2二：溶劑（或水）的含量（Ds）； D（VdVs）DVd Ds VS三：孔隙度的變動（P）。 D（VdVs）PDVd D
7、s VS比重和厚度的相關性D2V2D2SH1D1V1D1SH2；（ D：密度，V：體積；H：厚度）面積不變前提下：D2H1P1D1H2P2（P：孔隙度）；D2：D1（H1P1）：（H2P2）若孔隙度不變，只有膜厚變動： 則D2：D1H1：H2D（V1V2）D1V1D2V2假設鍍膜後，溶劑（或水）含量5，則：D3.900.9510.053.755，若鍍完膜厚為120nm，則烘烤後，膜厚： H1203.7553.90115（nm）孔隙度和折射率關係（R） （0）（1-P）1P （P：孔隙度：膜層固定後結構變動造成）例如：同為TiO2，不同孔隙度，其折射率如下： 孔隙度（） 折射率 0 2.560
8、10 2.404 20 2.248（H） 30 2.092（U）孔隙度的影響一：光譜。二：光譜安定性。三：機械性能：刮傷、掉膜、亮點、黑點。鍍膜過程光譜變動整理一：A廠： 低溫烘烤：膜厚變動； 高溫燒結：結晶型態變動；孔隙度變動； 強化：孔隙度變動。二：B廠： 低溫烘烤：膜厚變動； 高溫燒結：膜厚、孔隙度、結晶型態均變動； 強化：結晶型態變動。三：水性： 低溫烘烤：膜厚變動； 高溫燒結：不變； 強化：不變。長期生產過程的變動（不同片）一：基本因素：12H2 23H3（2）12H2【 （TiO2）（1-P）P 】 H3（2）二：詳細說明： （一）結晶結構相對比率變動。 （二）粒徑變動。 （三）濃度（固含量）變動。溶膠合成過程的變動一：原料製作過程，部份水解。二：原料運送過程，部份水解。三：原料儲存過程，部份水解。四：原料儲存時間太久，部份水解。五：溶膠製作過程，部份參數偏差： 添加速度攪拌速度抽氣速度六：環境因素：溫度、濕度、換氣量： 絕對濕度。 單位時間帶入水氣量
