扫描电子显微分析

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1、扫描电子显微分析,3.5 扫描电子显微分析 3.5.1扫描电子显微镜,1扫描电子显微镜的工作原理及特点 扫描电镜是用聚焦电子束在试样表面逐点扫描成像。试样为块状或粉末颗粒，成像信号可以是二次电子、背散射电子或吸收电子。 其中二次电子是最主要的成像信号。由电子枪发射的能量为535keV的电子，以其交叉斑作为电子源，经二级聚光镜及物镜的缩小形成具有一定能量、一定束流强度和束斑直径的微细电子束，在扫描线圈驱动下，于试样表面按一定时间、空间顺序作栅网式扫描。,聚焦电子束与试样相互作用，产生二次电子发射（以及其它物理信号），二次电子发射量随试样表面形貌而变化。二次电子信号被探测器收集转换成电讯号，经视频

2、放大后输入到显像管栅极，调制与入射电子束同步扫描的显像管亮度，得到反映试样表面形貌的二次电子像。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.1扫描电子显微镜,扫描电镜具有以下的特点： （1）可以观察直径为030mm的大块试样，制样方法简单。 （2）场深大、三百倍于光学显微镜，适用于粗糙表面和断口的分析观察；图像富有立体感、真实感、易于识别和解释。 （3）放大倍数变化范围大，一般为15200000倍，最大可达10300000倍，对于多相、多组成的非均匀材料便于低倍下的普查和高倍下的观察分析。 （4）具有相当的分辨率，一般为36nm，最高可达2nm。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.1扫描电子显微镜,3

3、.5 扫描电子显微分析 3.5.1扫描电子显微镜,（5）可以通过电子学方法有效地控制和改善图像的质量。如通过调制可改善图像反差的宽容度，使图像各部分亮暗适中。采用双放大倍数装置或图像选择器，可在荧光屏上同时观察不同放大倍数的图像或不同形式的图像。 （6）可进行多种功能的分析。与X射线谱仪配接，可在观察形貌的同时进行微区成分分析；配有光学显微镜和单色仪等附件时，可观察阴极荧光图像和进行阴极荧光光谱分析等。 （7）可使用加热、冷却和拉伸等样品台进行动态试验，观察在不同环境条件下的相变及形态变化等。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.1扫描电子显微镜,2、扫描电镜的主要结构 电子光学系统 电子枪 聚

4、光镜（第一、 第二聚光镜和物 镜） 物镜光阑,扫描系统 扫描信号发生器 扫描放大控制器 扫描偏转线圈,3.5 扫描电子显微分析 3.5.1扫描电子显微镜,3.5 扫描电子显微分析 3.5.1扫描电子显微镜,信号探测放大系统 用闪烁体计数系统探测二次电子、背散射电子等电子信号。闪烁体上加10kV高压 探测二次电子，栅网加+250V 探测背散射电子，栅网加-50V 图象显示和记录系统：显象管、照相机等 真空系统：真空度高于10-4 Torr 电源系统,3、扫描电镜主要指标 放大倍数: M=L/l 分辨本领,5.5 扫描电子显微分析 5.5.1扫描电子显微镜,4扫描电镜的场深 扫描电镜的场深是指电子

5、束在试样上扫描时，可获得清晰图像的深度范围。当一束微细的电子束照射在表面粗糙的试样上时，由于电子束有一定发散度，发散半角为，除了焦平面处，电子束将展宽，设可获得清晰图像的束斑直径为d，由图中几何关系可得：,3.5 扫描电子显微分析 3.5.1扫描电子显微镜,3.5 扫描电子显微分析 3.5.1扫描电子显微镜,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,1、扫描电镜像的衬度 扫描电镜图象的衬度是信号衬度，它可定义为： 根据形成的依据，扫描电镜的衬度可分为形貌衬度、原子序数衬度和电压衬度。,形貌衬度 是由于试样表面形貌差异而形成的衬度。利用对试样表面形貌变化敏感的物理信号如二次电子

6、、背散射电子等作为显象管的调制信号，可以得到形貌衬度像。二次电子像的衬度是最典型的形貌衬度。,原子序数衬度 原子序数衬度是由于试样表面物质原子序数（或化学成分）差别而形成的衬度。利用对试样表面原子序数（或化学成分）变化敏感的物理信号作为显像管的调制信号，可以得到原子序数衬度图像。背散射电子像、吸收电子像的衬度，都包含有原子序数衬度，而特征X射线像的衬度是原子序数衬度。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,电压衬度 电压衬度是由于试样表面电位差别而形成的衬度。利用对试样表面电位状态敏感的信号，如二次电子，作为显像管的调制信号，可得到电压衬度像。,2、背散射电子像 背散射电

7、子是由样品反射出来的初次电子，其主要特点是： 能量很高，有相当部分接近入射电子能量E0，在试样中产生的范围大，像的分辨率低。 背散射电子发射系数=IB/I0随原子序数增大而增大（图2-75）。 作用体积随入射束能量增加而增大，但发射系数变化不大（图2-75）。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,当试样表面倾角增大时，作用体积改变，且显著增加发射系数。 背散射电子在试样上方有一定的角分布。垂直入射时为余弦分布： ()=0cos,当试样表面倾角增大时，由

8、于电子有向前散射的倾向，峰值前移。因此电子探测器必须放在适当的位置才能探测到较高强度的电子信号。,从上述的背散射电子特点可知，背散射电子发射系数和试样表面倾角以及试样的原子序数二者有关，背散射电子信号中包含了试样表面形貌和原子序数信息，像的衬度既有形貌衬度，也有原子序数衬度，因此，可利用背散射电子像来研究样品表面形貌和成分分布。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,背散射电子能量大，运动方向基本上不受弱电场的影响，沿直线前进。在用单个电子探测器探测时，只能探测到面向探测器的表面发射的背散射电子，如图278a，所成的像具有较重的阴影效应，使表面形貌不能得到充分显示（图27

9、9）。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,加之背散射电子像分辨率低，因此一般不用它来观察表面形貌，而主要用来初步判断试样表面不同原子序数成分的分布状况。 采用背散射电子信号分离观察的方法，可分别得到只反映表面形貌的形貌像和只反映成分分布状况的成分像。如图2-80所示。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,3、二次电子像 二次电子是被入射电子轰出的试样原子的核外电子，其主要特点是： （l）能量小于50eV，主要反映试样表面10n

10、m层内的状态，成像分辨率高。 （2）二次电子发射系数与入射束的能量有关。随着入射束能量增加，二次电子发射系数减小，见表26。 （3） 二次电子发射系数和试样表面倾角有如下关系： ()=0/cos （4）二次电子在试样上方的角分布也服从余弦分布，但与背散射电子不同的是二次电子在试样倾斜时仍为余弦分布，见图2-83。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,根据二次电子的上述特点，二次电子像主要反映试样表面的形貌特征。像的衬度是形貌衬度，衬度形成主要决定于试样表面相对于入射电子束的倾角。试样表面光滑平整（无形貌特征），

11、倾斜放置时的二次电子发射电流比水平放置时大（见图283b、a），但仅增加像的亮度而不形成衬度；,而对于表面有一定形貌的试样（图284），其形貌可看成由许多不同倾斜程度的面构成的凸尖、台阶、凹坑等细节组成，这些细节的不同部位发射的二次电子数也不同，从而产生衬度。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,由于二次电子能量小，用闪烁体探测器探测时，只要在收集极上加250V正电压，即可把二次电子吸引过来，见图278b，所以二次电子像没有明显的阴影效应。 从图中可以看出，当探测器置于试样上方时，探测器也能接收一部分背散射电子

12、，在这种情况下，二次电子像中也包含一部分背散射电子信息。 图285为与图279同一区域的二次电子像。二次电子像分辨率高、无明显阴影效应、场深大、立体感强，是扫描电镜的主要成像方式，它特别适用于粗糙表面及断口的形貌观察，在材料科学中得到广泛的应用。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,4吸收电子像 当电子束照射在试样上时，如果不存在试样表面的电荷积累，则进入试样的电流应等于离开试样的电流。进入试样的电流为入射电子电流I0，离开试样的电流为背散射电子电流IB，二次电子电流IS，透射电子电流IT，和吸收电子电流（吸收电流或称试样电流）IA（式235）。对于厚试样，IT0，则有

13、： I0= IB + IS + IA 在相同条件下，背散射电子发射系数比二次电子发射系数大得多，现假设二次电子电流I0C为一常数，则吸收电流与背散射电子电流存在互补关系，即： IA = （I0 ）IB。因此可以说吸收电子和背散射电子反映试样相同的信息。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜图象及其衬度,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜试样制备,1对试样的要求 试样可以是块状或粉末颗粒，在真空中能保持稳定，含有水分的试样应先烘干除去水分。表面受到污染的试样，要在不破坏试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干。 新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免破坏断口或表面的

14、结构状态。有些试样的表面、断口需要进行适当的侵蚀，才能暴露某些结构细节，则在侵蚀后应将表面或断口清洗干净，然后烘干。 对磁性试样要预先去磁，以免观察时电子束受到磁场的影响。,2块状试样 扫描电镜的试样制备是比较简便的。对于块状导电材料，除了大小要适合仪器样品座尺寸外，基本上不需要进行什么制备，用导电胶把试样粘结在样品座上，即可放在扫描电镜中观察。对于块状的非导电或导电性较差的材料，要先进行镀膜处理，在材料表面形成一层导电膜。以避免电荷积累，影响图象质量。并可防止试样的热损伤。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜试样制备,试样大小要适合仪器专用样品座的尺寸，不能过大，样品座尺寸各仪器

15、不均相同，一般小的样品座为35mm，大的样品座为3050mm，以分别用来放置不同大小的试样，样品的高度也有一定的限制，一般在 510mm左右。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜试样制备,3、粉末试样的制备 先将导电胶或双面胶纸粘结在样品座上，再均匀地把粉末样撒在上面，用洗耳球吹去未粘住的粉末，再镀上一层导电膜，即可上电镜观察。,4、镀膜 镀膜的方法有两种，一是真空镀膜，另一种是离子溅射镀膜。离子溅射镀膜的原理是：在低气压系统中，气体分子在相隔一定距离的阳极和阴极之间的强电场作用下电离成正离子和电子，正离子飞向阴极，电子飞向阳极，二电极间形成辉光放电，在辉光放电过程中，具有一定动量的正离子撞击阴极，使阴极表面的原子被逐出，称为溅射，如果阴极表面为用来镀膜的材料（靶材），需要镀膜的样品放在作为阳极的样品台上，则被正离子轰击而溅射出来的靶材原子沉积在试样上，形成一定厚度的镀膜层。,离子溅射镀膜优点是： （1）装置结构简单，使用方便，溅射一次只需几分钟，而真空镀膜则要半个小时以上。 （2）消耗贵金属少，每次仅约几毫克。 （3）对同一种镀膜材料，离子溅射镀膜质量较好，能形成颗粒更细、更致密、更均匀、附着力更强的膜。,3.5 扫描电子显微分析 3.5.2 扫描电镜试样制备,