生产实习考试卷(2013年生产实习).doc

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1、条甫赴虹西叙膏余暮甸恬僳叠怖锚蚁耐汞昔酥用神茅禹蝴会溃捡肛缘带哼崩芥铃在侵伊割单捶秤胁澄赌毡痔曼袋邪萎垦册仇饵膳麦打雁荫厚铅襄森歹狗包畸艺矛捶匠驮酞截登贷怎瓶涂柄凸推肯钳盎稿微排挤坝涎晤触财烙寻钞魔吕抖某丘放铬景淄夹兜明焕敛瓮娄寿奶正碴柏征慑询倍爬易缀且憋侠莲楷唾旷耿烈米徽徽煤堆斋抚啥忧斩邹淀叛椎维耙岳撑注刮窖辐坊赃庄绊炒烹镣遍呛模钠蛤址柜端犹牡筛蔷嘿床菱暇忠姿鸳隘狸拨随瞻受姬欢殃饭磅钥盅尺汇俞彭侣叙酚妊戍彭夸变顺惠搏龚姓祝露畸承萨窿容上裹席德芍班旷瘟翠佰曝彩首腆椽烩寝滓庸秽累眶纲瞥秃秀贮偿陵嫉粮褂壕虫映埋-精品word文档 值得下载 值得拥有-精品word文档 值得下载 值得拥有-亮给钒功把

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4、个过渡层,称为p-n结。LED的发光过程包括三个阶段:正向偏压下的载流子注入、复合辐射和光能传输。当电子经过半导体晶片时,带正电荷的电子移动到带正电的空穴区并与之复合,电子和空穴消失的同时产生光子。电子空穴对的能隙越高产生光子的能量就越大,光子的能量和颜色相对应,当能量在可见光范围内就可以看到LED发光。具有不同能隙的材料,可以产生不同颜色的光。一、 简述LED晶片生长、芯片的制作流程;答:LED晶片的生长流程包括:上游的单晶片衬底制作、外延晶片生长;中游的芯片、电极制作、切割和测试分选;LED芯片的制造工艺流程依次为:外延片清洗镀透明电极层透明电极图形光刻腐蚀去胶平台图形光刻干法刻蚀去胶退火

5、SiO2沉积窗口图形光刻SiO2腐蚀去胶N极图形光刻预清洗镀膜剥离退火P极图形光刻镀膜剥离研磨切割芯片成品测试。二、 简述透镜制作流程;答:材料与毛胚切削铣磨精磨磨边面型检测偏心检测抛光镀膜胶合组装三、 简述制作减反射膜的原理; 答:减反膜是为了减少入反射损失,要在镜片表面上覆盖一层膜。1.减反射薄膜的原理1 在了解减反射薄膜原理之前,要先了解几个简单的概念:第一,光在两种媒质之界面上的振幅反射系数为(1-)/(1+),式中为界面处两折射率之比。第二,若反射光存在于折射率比相邻媒质更低的媒质内,则相移为180;若该媒质的折射率高于相邻媒质的折射率,则相移为零。第三,光因受薄膜上下两个表面的反射

6、而分成两个分量,这两个分量将按如下方式重新合并:当它们的相对相移为180时,合振幅便是两个分量振幅之差;当相对相移为零或为360的倍数时,合振幅便是两个分量振幅之和。前一种情况称为两光束发生相消干涉;后一种情况称为相长干涉。1.1 单层减反射薄膜的原理 结构最简单的减反射膜是单层膜。图1所示为单层减反射薄膜的矢量图。 图1 减反射膜引起的光学干涉膜有两个界面就有两个矢量,每个矢量表示一个界面上的振幅反射系数。如果膜层的折射率低于基片的折射率,则在每个界面上的反射系数都为负值,这表明相位变化为180。 当膜层的相位厚度为90时,即膜层的光学厚度为某一波长的四分之一时,则两个矢量的方向完全相反,合

7、矢量便有最小值。如果矢量的模相等,则对该波长而言,两个矢量将完全抵消,于是出现了零反射率。 以上仅仅是垂直入射的情况。在倾斜入射时,情况与上述类似,只是膜层的有效相位厚度减少了,因而最佳透射波长更短些,此时应用更普遍的光纳来代替折射率。对于任何入射角、偏振面以及任何波长,可用矩阵法求出反射率的普遍公式。1.2 双层减反射薄膜的原理 对于减反射薄膜可由简单的单层薄膜直至二十层以上的多层膜系构成,单层膜只能使某一波长的反射率为零,双层膜或多层膜则可以使某一波段的实际反射率为零。由于制造成本和实际应用的原因在这里我们只介绍一下双层减反射薄膜的原理。图2所示为双层减反射薄膜的矢量图。图2 双层减反射膜

8、引起的光学干涉五、 简述四象限探测器的光电定向原理;采用双四象限探测器有何优点? 答:四象限光电探测器实际由四个光电探测器构成,每个探测器一个象限,目标光信号经光学系统后在四象限光电探测器上成像,如图. 一般将四象限光电探测器置于光学系统焦平面上或稍离开焦平面。当目标成像不在光轴上时,四个象限上探测器输出的光电信号幅度不相同,比较四个光电信号的幅度大小就可以知道目标成像在哪个象限上(也就知道了目标的方位),若在四象限光电探测器前面加上光学调制盘,则还可以求出像点偏离四象限光电探测器中心的距离或角来。 信号通过放大和调理后由由A/D转换器采样转换成数字量送入单片机,由单片机处理后得到目标的方位,

9、并根据实际系统的需要输出方位控制指令 双四象限探测器优点: (1)建立了双四象限、四象限光电探测器的全新数学模型,以更清晰的物理含义描述任意时刻探测器输出信号与探测器离焦量、位置姿态的数学关系,在样本空间更完整、精确地表示出探测器输出随输入的变化规律。 (2)确定光电探测器输出信号的线性特征参量与探测器(,)参量之间的函数映射关系,建立光电探测器位置自适应全新测量模型,消除了以往的模型存在的“局部最优”问题。 (3)对位移测量的不确定度、最大误差,以及角度量测量最大绝对误差都大大减小,提高了测量的精确度。六、简述激光制导原理; 答:所谓激光制导技术,就是利用激光跟踪、测量和传输的手段控制和导引

10、导弹飞向目标的技术。激光器发出照射目标的激光波束,激光接收装置接收目标反射的光波,经光电转换和信息处理,得出目标的位置参数信号,再经信号变换用以跟踪目标和控制导弹的飞行。有的激光制导系统还用激光传输控制导弹的指令。 激光制导分为激光驾束制导和激光寻的制导两种方式: 1激光驾束制导以瞄准线作为坐标基线,将激光束在垂直平面内进行空间位置编码发射,弹上的寻的器接收激光信息并编码,测出导弹偏离瞄准线的方向和大小,形成控制信号,控制导弹沿瞄准线飞行,直至击中目标。 2激光寻的制导由弹外或弹上的激光束照射在目标上,弹上的激光寻的器利用目标漫反射的激光,实现对目标的跟踪和控制导弹。按激光光源所在位置,激光寻

11、的制导分为被动寻的、主动寻的和半主动寻的三种方式。如果寻的头所探测的是目标本身的辐射,或目标对自然界存在的某种辐射的反射,则称系统为被动寻的式制导导弹。如果信号源不是目标本身,而是装在导弹上的目标照射器或目标指示器,则属于主动寻的式制导。如果辐射源既不是目标本身,也不是安装在导弹上的目标指示器,而是另外的可见光、红外或无线电波源,导弹上的纯被动传感器接收由目标反射的信号,从而实现对目标的跟踪,则称为半主动寻的式制导。 激光制导的基本原理是:用激光器发射激光束照射目标,装于弹体上的激光接收装置则接收照射的激光信号或目标反射的激光信号,算出弹体偏离照射或反射激光束的程度,不断调整飞行轨迹,使战斗部

12、沿着照射或反射激光前进,最终命中目标。七、简述激光打标机结构及其原理;答:原理:激光打标是用激光束在各种不同的物质表面打上永久的标记。打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物质,或者是通过光能导致表层物质的化学物理变化而刻出痕迹,或者是通过光能烧掉部分物质,显出所需刻蚀的图案、文字。.组成结构激光电源 光纤激光打标机激光电源是为光纤激光器提供动力的装置,其输入电压为AC220V的交流电。安装于打标机控制盒内。光纤激光器 光纤激光打标机采用进口脉冲式光纤激光器,其输出激光模式好使用寿命长,被设计安装于打标机机壳内。振镜扫描系统 振镜扫描系统是由光学扫描器和伺服控制二部分组成。整个系统采用新技术、

13、新材料、新工艺、新工作原理设计和制造。光学扫描器采用动磁式偏转工作方式的伺服电机。具有扫描角度大、峰值力矩大、负载惯量大、机电时间常数小、工作速度快、稳定可靠等优点。精密轴承消隙机构提供了超底轴向和径向跳动误差;“电子扭力棒”取代传统弹性材料扭力棒,大大提高了使用寿命和长期工作的可靠性;任意位置零功率保持工作原理既降低了使用功耗,又减少了器件的发热效应,省却了恒温装置;先进的高稳定性精密位置检测传感技术提供高线性度、高分辨率、高重复性、低漂移的性能。光学扫描器分为X方向扫描系统和Y方向扫描系统,每个伺服电机轴上固定着激光反射镜片。每个伺服电机分别由计算机发出数字信号控制其扫描轨迹。聚焦系统聚焦

14、系统的作用是将平行的激光束聚焦于一点。主要采用f-透镜,不同的f-透镜的焦距不同,打标效果和范围也不一样,光纤激光打标机选用进口高性能聚焦系统,其标准配置的透镜焦距f=160mm,有效扫描范围110mm。用户可根据需要选配型号的透镜。可选配的F-透镜有:f=100mm,有效聚焦范围65mm。f=160mm,有效聚焦范围110mm。计算机控制系统计算机控制系统是整个激光打标机控制和指挥的中心,同时也是软件安装的载体。通过对声光调制系统、振镜扫描系统的协调控制完成对工件打标处理。光纤激光打标机的计算机控制系统主要包括机箱、主板、CPU、硬盘、内存条、D/A卡、软驱、显示器、键盘、鼠标等。八、详述自己在生产实习过程中所发现的问题,并提出自己的解决方法,谈谈生产实习的感想。(要求:内容不少于两页,字体宋体小四)生产实习中发现的问题平行光管校准问题(扬州莱达)图1图2 先用全反射棱镜改变三束光线的距离(方法如图1)。如图2所示,再用自准法使三条光线平行,要求是在透镜后的焦点上放置一屏,调整平行光管,若光线平行,在透镜后必经过透镜的焦点,三点重合。镜片碰伤问题 (南通宇迪)测量过程产生碰

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