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多晶硅基础知识点

des****85
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多晶硅基础知识点_第1页
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精选优质文档-----倾情为你奉上1. 块状硅多晶具有无规则的形状和随机尺寸分布,其线性尺寸最小为(6mm)最大为(100mm).2. 探针绝缘性,一探针(包括连接弹簧和外部引线)与任何其他探针或装置任一部分之间绝缘电阻大于(109Ω)3. 对于P型单晶,在(6)倍熔区处读取电阻率值,该值即为样品的基硼电阻率值4. 对于N型单晶,在(8)倍熔区处读取电阻率值,该值即为样品的基磷电阻率值5. 热探笔上所用的电阻丝的功率一般只需(10~15W).6. 冷热探笔法一般适用于室温电阻率在(1000Ω.Cm)以下的硅单晶7. 整流法一般适用于室温电阻率在(1~1000Ω.Cm)的硅单晶8. 单晶在测试过程中应保证环境温度(23±2℃),温度(≤65%),(电磁屏蔽,无强光照射)9. 四探针恒流源的光流范围为(10-1~10-6A),稳定度优于(±0.05%)四、简答题1.国标中太阳能级与电子级产品等级的划分基磷电阻率(Ω.cm)基硼电阻率(Ω.cm)N型少数载流子寿命(μs)国标电子级一级≥500≥3000≥500国标电子级二级≥300≥2000≥300国标电子级三级≥200≥1000≥100太阳能级一级≥100≥500≥100太阳能级二级≥40≥200≥50太阳能级三级≥20≥100≥302. 物理性能检测中样品制备的事故判断处理及预防 1.为避免机械对人造成伤害,上班前,按规定穿戴好劳保用品,使用酸碱时,穿戴好防护用品,在通风良好的条件下操作。

2.若发现机器电机转动声音异常,应立即停止进行检查,正常后即可投入使用3.若酸碱液溅在皮肤上,立即用大量清水冲洗4.使用耐酸手套前要检查是否完好5.钻取样品时,若出现松动,应立即停机,紧固后方可进行加工,手动进刀时,一般按照均匀进给的原则进行,以免用力过猛造成事故3. 物理性能检测中区熔制备硅单晶的控制要点1.在装炉时,原料棒及籽晶要做到安放平整、对中、稳定可靠2.在对磷检炉操作过程中,通入氩气时要控制号氩气的阀门,流量由小到大,逐步接近工艺规定值3.熔接时,要选择合适的功率,升温不能过急,注意熔区在感应线圈中的位置是否得当4.初始拉速不能由零突越至拉制速度,应缓慢增大5.选择适当的供料速度,确保熔区体积不变,熔区稍微饱满为好6.在单晶生长过程中,要控制好硅熔区,避免熔区流垮,同时尽力保持拉制棒材直径的均匀性7.在进行收尾工作时,控制好速度,不能过快,以免产生位错4. 简述物理性能检测的工艺流程图用大型切断机切取温圈氧化夹层片(线1)用大型切断机对样品进行切断(线2)产品取样 样品退火 线1 腐蚀清洗 送检测岗位检测线2 用大型切断机对样棒进行去应力切割 取硅芯层和生长层棒样 腐蚀清洗 区熔 检测导电类型 检测样品电阻率检测样品少子寿命 对单晶棒样进行红外样片切割 对切割片样进行研磨抛光、制备成红外样 将红外样片送质监进行后续检测5.单晶硅中间隙氧样品要求:(1)样品的厚度范围为0.04 cm~0.4 cm;(2)单晶硅样片,样片经双面研磨抛光。

3)加工后样片的两个面应尽可能平行,所成角度小于1°(4)其厚度差应小于等于0.5%,(5)表面平整度应小于所测杂质谱带最大吸收处波长的1/4样品表面不应有氧化层5.四探针法测量电阻率的测准条件有哪些?(1)样品的几何尺寸必须近似满足半无限大,具体的说即样品的厚度必须大于3倍针距,探针头中任一探针离样品边缘的最近距离不得小于3倍针距(纵向、横断面电阻率测试的选择均由此而来)2)测量区域的电阻率应是均匀的,为此针距不宜过大,一般采用1~2mm左右的针距较适宜3)四根探针应处于同一平面的同一直线上,为此要求四根探针严格的排成一直线,还要求样品表面平整4)四探针与试样应有良好的欧姆接触,为此探针应当比较尖,与样品的接触点应是半球形,使电流成放射状发散(或汇拢),且接触半径应远远小于针距,一般要求接触半径不大于50微米左右,针头应有一定压力,一般取2×9.8N较适宜5)电流通过样品不应引起样品的电导率发生变化干扰因素:1)陷阱效应影响:室温下的硅和低温下的锗,载流子陷阱会产生影响如果试样中存在电子或空穴陷阱,脉冲光停止后,非平衡少数载流子将保持较高浓度并维持相当长时间,光电导衰减曲线会出现一条长长的尾巴。

在这段衰减曲线上进行测量将错误的导致寿命值增大2)表面复合影响:表面如果处理不好,会影响少子寿命3)注入量的影响:测量时试样电导率条幅必须很小,这样试样上电势差的衰减才等价于光生载流子的衰减4)光生伏特效应的影响:试样电阻率不均匀会产生衰减信号扭曲的光电压——光生伏特效应5)光源波长的影响:光生载流子大幅度衰减会影响曲线的形状,尤其在衰减初期使用脉冲光时,这种现象会更为显著6)电场的影响:如果少数载流子被电流产生的电场扫描出试样的一端,少数载流子就不会形成衰减曲线7)温度的影响:半导体中杂质的复合特性受温度强烈影响,控制测量时的温度非常重要,在相同的温度下进行测量才能进行比较8)杂质复合中心的影响:不同的杂质中心具有不同的复合特性,当试样中存在一种以上类型的复合中心时,观察到的衰减曲线可能 包含两个或多个具有不同时间常数的指数曲线,曲线合成结果不成指数规律,测量不能得出单一的寿命值9)滤光片的影响:滤光片本身有信号,它和试样信号叠加产生测试误差专心---专注---专业。

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