无锡松煜科技有限公司无锡松煜科技有限公司 2017.8.30 技术指标 成膜种类：成膜种类：Al2O3 设备温度：设备温度：250℃ 成膜厚度：成膜厚度：5-10nm可控 产能：产能：6000-7200片/h 气路系统气密性：气路系统气密性：1×10-7pa.m3/s 成膜均匀性：成膜均匀性：≤3% 真空度：真空度：10Pa 生长速率：生长速率：0.012nm/s 保养周期：保养周期：6个月保养一次 Uptime：：98%以上 TMA耗量：耗量：10g/h 氮气需求：氮气需求：优于99.9999% 技术特点： 支持多种制程，perc，双面电池 设备占地空间小； 维修方便； 保养周期长，长达半年； 设备成膜质量好，致密切均匀度良好，在2-10nm都可满足均匀性的需 求，也可以做的更厚，根据需求进行工艺调整，调整方便，只需更改 时间即可； 设备产能高，一台设备可完成200MW的产能； 设备稳定性高，尽可能的减少了运动部件，使设备的运行更加稳定可 靠； 设备对于干泵采取了必要措施的保护，使泵的维护周期更长 PERC电池工艺路线 工艺原理 工艺为85个循环10nm，可根据要 求成膜的厚度进行控制，控制的 模式为控制循环数量。
设备简介 设备简介 设备自动化： 设备占地面积小，产能高，性价比高！ 设备外形尺寸： 气路原理 TMA用量少，主要依靠饱和蒸汽压进行气体输送，降低了设备TMA源量的消耗！！！ 自动化夹具： 装卸片的设计充分考虑表面摩擦损伤！！！ 维护保养 设备维护简单，半年维护一次！！！Coo大幅降低，uptime大幅上升！！！ 设备成膜均匀： 设备气流方向原理,良好的气流设计是成膜的关键，我公司生产的 ALD设备膜厚可做到2nm以下依然保持良好的均匀性，5nm以上均匀 性可达到3%以内；同时对源的量的用量得到了有效的控制，基本可 控制在10g/h以内，设备的COO得到有效控制！ 推拉舟 工艺过程中硅片与舟都不会运动，所以设备更加稳定可靠，故 障率低，配合超长时间的保养周期，使设备的利用率达到 98%!!! 真空系统图： 谢谢大家！！！ 。