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1、3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理格式模板首先列出产品的杂志谱列表，比如：*产品杂质情况分析表分类名称化学结构式(CHEMDRAW)控制限度杂质来源备注1备注2药物成品目标化合物99.5%目标产物有机杂质杂质A0.1%原料引入是否基毒杂质B工艺杂质（副产物）杂质C手性异构体杂质D氧化杂质杂质E热降解杂质有机潜在杂质IMP-1起始物料IMP-2中间体IMP-3USP提到的杂质USP不同路线杂质？IMP-4IMP-5溶剂残留溶剂名称溶剂来源限度溶剂种类ICH分类种类限度二氯甲烷步骤1,2600ppm2600ppm三乙胺步骤2甲醇步骤1，3四氢呋喃步骤2,323000ppm乙酸乙酯精制步骤350
2、00ppm无机杂质1、 说明用到的无机原料和试剂，比如干燥用的硫酸镁，路易斯酸催化用的四氯化钛，加氢用的钯碳铂碳等。2、 说明这些无机杂质做或者不做常规检查的依据：物料毒性依据，去除途径。3、 对特殊重金属制定控制策略和检测策略：比如使用氧化汞造成的汞残留。4、 说明采用重金属检查法控制一般常规重金属。其他试剂类别名称去除策略控制策略催化剂二甲基吡啶水洗去除氧化剂DMP淬灭，构型转化后水洗去除脱甲基试剂三氟化硼乙醚精馏脱除反应过程的描述：1、 详细的反应方程式，包括结构式，反应温度，所有试剂，助剂，溶剂，催化剂等。2、 结合CTD资料的其他部分，对物料控制进行说明，包括起始物料、其他原料、溶剂
3、、辅料（活性炭，硅藻土，硅胶等。）。3、 起始物料说明。起始物料符合广泛、易得、质量稳定，适合保存运输等的原则；还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究，同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。比如头孢克洛，要对起始物料7-ACCA的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。4、 说明制定起始物料的质量控制策略的依据，比如头孢克洛的起始物料7-ACCA的关键杂质异构体，结合工艺和实验数据，说明杂质产生来源，分布，控制策略等。第2、3、4内容可以在CTD的其他部分，比如物料说明部分进行。但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。5、 关于ICH的杂质鉴定、报告
4、和质控限度：主要参考ICHQ3A（R2）到ICHQ3D的相关规定阈值（原料药）最大日剂量 报告阈值 鉴定阈值 界定阈值 2 克/天 0.05%0.10% 或每天摄入 1.0 mg(取阈值低者)0.15%或每天摄入 1.0 mg(取阈值低者) 2 克/天 0.03% 0.05% 0.05%结合上述反应过程对杂质谱进行分析，主要分起始物料引入杂质，反应杂质，降解杂质等。第一部分：起始物料引入的杂质分析（比如头孢克洛的起始物料7-ACCA引入的杂质）1、 无机杂质：说明引入情况和消除渠道；以及相关的控制方法和标准以及依据。比如上述列表中的钯元素控制。2、 普通有机杂质。3、 对映异构体（根据品种的情
5、况具体分析）；考察不同的对应异构体对最终产品质量的影响情况。4、 非对映异构体：比如ACCA的异构体；还包括非对应异构体自身的各种对映体。第二部分：反应的每个步骤引入的杂质：需要结合实际反应监控（HPLC，LC-MS为主）过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明。这个内容主要在工艺描述部分进行，本部分引用工艺描述内容。1、 步骤1引入的杂质。2、 步骤2引入的杂质。3、 步骤3引入的杂质。以及后续的步骤产生的杂质以及消除过程和简单的控制描述4、 精制过程引入的杂质。第三部分：结合小试中试数据汇总列表、方法适用性、实际检测结果等内容说明各个有机杂质的分布情况。第四部分：潜在杂质在成品中的检
6、测结果杂质名称杂质来源批批批IMP-1(对映体)原料引入N.D0.001%N.DN.D表示未检出IMP-2（异构体）原料引入，工艺杂质N.DN.DN.DIMP-3中间体残留N.DN.D0.002%IMP-4工艺杂质0.02%0.017%0.023%IMP-5工艺杂质N.DN.DN.D第五部分：自制原料与原研片杂质对比： 样品来源及检测项目 批号自制原料药原研片A原研片B批号批号批号对映异构体有关物质具体杂质单个未知杂质总杂质纯度对上述表格进行综述性总结。主要是用不同来源的样品的液相图谱和列表数据进行对比性说明。第六部分：制剂中的特定杂质：主要分析制剂与原料药储存过程中降解产生的杂质，以及因为辅
7、料和原料药相容性而产生的特定杂质：比如纤维素类的曼德拉反应产生的杂质等。储存降解产生的杂质包括酸碱氧热光降解杂质，空气中水分造成的水解杂质，或者跟空气中二氧化碳反应产生的杂质。1. 说明各杂质的限度：*杂质阈值（举例）每日最大剂量报告限度鉴定限度质控限度2g/天0.05%0.10%0.15%备注每日最大剂量由本品说明书用法用量获得2. 3.2.P.5.5.1潜在杂质的推测由*公司提供*原料药简单工艺路线，分析整理本品的杂质见下表。表3.2.P.* ，-潜在杂质推测杂质名称杂质结构杂质来源其他信息降解产物降解产物反应副产物3. 潜在杂质特征的鉴定a) 原料合成过程带入的相关杂质特征的鉴定由厂家提
8、供的原料药合成过程中所用的起始原料及各步中间产物的色谱行为和紫外光谱特征进行汇总分析，初步鉴定注射用头孢地嗪钠成品中原料合成过程中带入的杂质。起始原料及各步中间产物鉴定特征如下表：表3.2.P.5-X *原料合成过程相关杂质特征鉴定名称色谱行为特征紫外光谱特征（nm）峰号保留时间（min）相对保留时间与前峰分离度纯度指数最大吸收最小吸收2.681801.0003192653.316751.0002642184.963621.00027122313.493401.000228、246219、2623#2.647100.1951.0003192654#3.305200.2441.2031.0002
9、642185#4.937650.3642.3751.0002712236#13.563831.0004.3321.000228、262219、246b) 注射用头孢地嗪钠强制降解试验中杂质的特征鉴定试品与对照品强制降解试验表3.2.P.* 热破坏试验主要降解产物色谱信息名称杂质个数色谱行为特征紫外光谱特征（nm）峰号保留时间（min）相对保留时间与前峰分离度纯度指数最大吸收最小吸收自制31#1.725250.1241.0002121954#2.557100.1841.5420.8573192676#4.685580.3371.7790.99923221611#13.904451.0001.58
10、71.000228、262219、246对照31#1.724650.1240.9992111964#2.556970.1841.3850.8773192676#4.684650.3361.7501.00023221611#13.927981.0001.5431.000228、262219、246备注表3.2.P.5-50 酸破坏试验主要降解产物色谱信息名称杂质个数色谱行为特征紫外光谱特征（nm）峰号保留时间（min）相对保留时间与前峰分离度纯度指数最大吸收最小吸收自制41#2.540250.1891.0003192654#4.593870.3421.5050.9882282177#11.059
11、380.8233.9530.9992942798#13.442371.0001.7031.000228、262219、2469#25.252921.8796.8971.000234220对照41#2.52610.1891.0003192654#4.593950.3441.1430.9882282178#11.064631.0005.0310.9992922779#13.368221.0001.6171.000228、262219、2461025.331231.8956.8240.999234217备注表3.2.P.5-51 碱破坏试验主要降解产物色谱信息名称杂质个数色谱行为特征紫外光谱特征（n
12、m）峰号保留时间（min）相对保留时间与前峰分离度纯度指数最大吸收最小吸收自制51#2.178150.1580.9822228、2882724#2.544670.1851.5761.0003192667#7.347450.5332.5211.000226、289219、2768#13.773451.0001.9411.000228、262219、2469#23.966501.7405.3810.99929627210#31.875322.3143.5980.999229、263217、242对照61#2.638070.1840.9993192664#4.787530.3342.3501.0002332167#7.69557
