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1、鈀鈀 鎳鎳 工工 站站 簡簡 介介一一,鈀鎳物質介紹鈀鎳物質介紹 1,鈀鎳合金說明鈀鎳合金說明. 2,鈀鎳物質的特性鈀鎳物質的特性二二,鈀鎳鍍液的組分與特性鈀鎳鍍液的組分與特性三三,鈀鎳鍍液的調整與保養鈀鎳鍍液的調整與保養. 1,鍍液的調整鍍液的調整. 2,鍍液保養的注意事項鍍液保養的注意事項.四四,鈀鎳槽液的異常處理鈀鎳槽液的異常處理鈀鎳合金說明鈀鎳合金說明: 1,電子連接制造工業對元件接觸區鍍鈀鎳的膜厚電子連接制造工業對元件接觸區鍍鈀鎳的膜厚,延展性延展性,光亮光亮度度,耐磨耐磨,耐振動等功能性耐振動等功能性,都已得到可靠的信賴度都已得到可靠的信賴度.(同時金价比鈀鎳同時金价比鈀鎳成本要高
2、成本要高.使用鈀鎳制程有利于制造成本的降低使用鈀鎳制程有利于制造成本的降低.) 2,鈀鎳合金鍍層比鈀鍍層當作接觸物質使用在電子工業上是鈀鎳合金鍍層比鈀鍍層當作接觸物質使用在電子工業上是更有效率更有效率,適當量的鎳進入鈀結晶格子內共組成后會降低發生氫適當量的鎳進入鈀結晶格子內共組成后會降低發生氫裂解裂解的傾向的傾向,并提供更高的并提供更高的硬硬度度,延展性延展性,表面光亮度表面光亮度,.除此外除此外,并強調并強調鈀鎳合金是非觸媒作用所引起鈀鎳合金是非觸媒作用所引起,而是傾向于磨擦合作用所引起的而是傾向于磨擦合作用所引起的所以比金或鍍鈀有較低的孔性及較好的耐磨阻抗所以比金或鍍鈀有較低的孔性及較好的
3、耐磨阻抗,.所以鈀鎳合所以鈀鎳合金是很好的電器元件接觸物質金是很好的電器元件接觸物質.鈀鎳物質的特性鈀鎳物質的特性; ; 1,1,穩定的組成穩定的組成, ,鎳變化從鎳變化從10-50% W10-50% W 2, 2,明亮如鏡子般的外觀明亮如鏡子般的外觀. . 3, 3,高硬度高硬度. . 4, 4,高延展性高延展性. . 5, 5,可接受的孔性可接受的孔性. . 6, 6,可接受較高的電鍍厚度可接受較高的電鍍厚度. . 7, 7,簡單的化學成形簡單的化學成形. . 8, 8,鍍浴容易控制鍍浴容易控制. . 9, 9,鍍浴壽命長鍍浴壽命長. . 10, 10,陰極效率高陰極效率高. . 11,
4、11,對非貴金屬素材物質應減低浸蝕對非貴金屬素材物質應減低浸蝕. .鈀鎳的組分與特性鈀鎳的組分與特性1,氯化氨鈀氯化氨鈀: 主鹽主鹽,驗用于提供電鍍所需的鈀驗用于提供電鍍所需的鈀,提升鍍液鈀鹽濃度可提供提升鍍液鈀鹽濃度可提供鍍層中鈀含量鍍層中鈀含量,鍍液中鈀濃度一般控制在鍍液中鈀濃度一般控制在:18-22g/L.2,鎳補充劑鎳補充劑: 主鹽主鹽,供給電鍍所需的鎳供給電鍍所需的鎳,提升鍍液中鎳濃度可輕微提升鍍提升鍍液中鎳濃度可輕微提升鍍層中鎳含量層中鎳含量,但影響遠比鈀小但影響遠比鈀小,一般濃鍍控制在一般濃鍍控制在:13-17g/L.3,Brightener NO. 1(侵用于高氨系統侵用于高氨
5、系統) 基本光澤劑基本光澤劑,鍍液中含量一般過剩鍍液中含量一般過剩,消耗量低消耗量低,依哈氏片或依哈氏片或廠商技朮人員建議添補廠商技朮人員建議添補.4,Pallnic Additive (侵用于高氨系統侵用于高氨系統) 依廠商技朮人員建議添補依廠商技朮人員建議添補.5,Wetting Agent (侵用于高氨系統侵用于高氨系統)6,Conducting Sait. 導電鹽導電鹽,用于增強鍍液導電能力用于增強鍍液導電能力.7,NH3H2O(氨水氨水) 用于調整鍍液用于調整鍍液PH值值, PH值一般控制在值一般控制在7.5-8.5.8,氫氧化鉀氫氧化鉀.(侵用于低氨系統侵用于低氨系統) 用于調節鍍
6、液用于調節鍍液PH值值, PH值一般控制在值一般控制在7.5-8.5,建議按建議按:氨水氨水:氫氧化鉀以氫氧化鉀以1:2的比例添加的比例添加.9,Pallnic. 80 Deposit Modifier(侵用于低氨系統侵用于低氨系統) 依廠商技朮人員建議添補依廠商技朮人員建議添補.鍍液調整與保養鍍液調整與保養1,鈀鹽鈀鹽: 濃度范圍濃度范圍:18-22g/l 目標值目標值:20g/l添加量添加量(g)=(20-分析值分析值)*V槽槽*:每瓶鈀鹽含量為每瓶鈀鹽含量為100gor50g.(每安培小時的消耗每安培小時的消耗,應補充應補充40%的鈀鹽的鈀鹽4g)2,鎳鹽鎳鹽: 濃度范圍濃度范圍:13-
7、17g/l 目標值目標值:15g/l*鎳補充劑含量鎳補充劑含量100g/l.(每安培小時的消耗每安培小時的消耗,應補充應補充100g/1NI濃濃度度2ML)3,PH值值. 范圍范圍:7.8-8.5 目標值目標值:8.0*PH使用電位計量測使用電位計量測,并用并用50%氨水或氨水或20%H2SO4來降低來降低PH值值.鍍液調整時注意事項鍍液調整時注意事項一一,葯品調整葯品調整:1,固体葯品一般溶解后添加固体葯品一般溶解后添加.2,液体葯品一般應稀釋后添加液体葯品一般應稀釋后添加.3,加水稀釋時要防止槽液溫度下降加水稀釋時要防止槽液溫度下降.4,合金鍍液中要注意合金濃度比例合金鍍液中要注意合金濃度
8、比例.5,稀釋某一成分時應同時考慮對鍍液中其它成分的影稀釋某一成分時應同時考慮對鍍液中其它成分的影響響.二二,液位調整液位調整: 1,為了確保分析數据的可靠性及代表性為了確保分析數据的可靠性及代表性,生產人員須提生產人員須提前半小時調整好液面高度前半小時調整好液面高度.加熱的槽液補水方式應以少加熱的槽液補水方式應以少加勤加為原則加勤加為原則.鍍液的保養鍍液的保養1,當鍍液中各種有机雜質含量較高時當鍍液中各種有机雜質含量較高時,用活性碳濾芯用活性碳濾芯過濾過濾.2,當鍍液中有較大顆粒雜質時當鍍液中有較大顆粒雜質時,用用10U”或或1U”濾芯過濾芯過濾濾.3,鎳鎳,鈀鎳槽中的金屬雜質應用弱電解除去
9、鈀鎳槽中的金屬雜質應用弱電解除去.4,目前槽外過濾保養計划是目前槽外過濾保養計划是1次次/2個月個月.5,弱電解板打磨為弱電解板打磨為1次次/3日日.6,每周活性碳過濾每周活性碳過濾3-4小時小時.7,PH檢測檢測1次次/2小時小時.鈀鎳槽液的異常現象及處理鈀鎳槽液的異常現象及處理A:鈀鎳污染問題解決方法鈀鎳污染問題解決方法: ,污染問題通常會在生產線上污染問題通常會在生產線上,低電流密度鍍層區產生模糊低電流密度鍍層區產生模糊,無光澤無光澤,晦暗的現象晦暗的現象,為了決定問題根源為了決定問題根源,采取兩個步驟采取兩個步驟: 1,取金屬污染溶液取金屬污染溶液,作原子吸收光譜分析作原子吸收光譜分析
10、.(A.A) 2,作哈氏片試片作哈氏片試片,確認問題的根源確認問題的根源,并決定在使用前并決定在使用前,如何做如何做最有效的補救處理之道最有效的補救處理之道.B:常見的金屬污染常見的金屬污染. 1,銅污染銅污染:小于小于30PPM的低污染的低污染,哈氏片試片在高電流區哈氏片試片在高電流區,產生產生灰灰色鍍層色鍍層,在在30-100PPM之間的銅污染下之間的銅污染下,低電流密度區會看見間斷低電流密度區會看見間斷性銅顏色的污染性銅顏色的污染.隨著污染程度的增加隨著污染程度的增加,漸漸擴及高電流密度區漸漸擴及高電流密度區.范圍擴大范圍擴大,銅顏色污染也增加銅顏色污染也增加.在超過在超過500PPM下
11、下,哈氏片試片從高哈氏片試片從高電流到低電流密度區電流到低電流密度區.一半會出現銅顏色一半會出現銅顏色,剩餘會出現白灰剩餘會出現白灰,混濁混濁的現象的現象.此不良現象將直接影響鍍層結晶此不良現象將直接影響鍍層結晶,造成脫皮造成脫皮.鉛污染鉛污染: 鈀鎳顯然可忍受高含量的鉛污染鈀鎳顯然可忍受高含量的鉛污染,在在100PPM以下以下,低電流密度區會產生藍色或黑色的沾污低電流密度區會產生藍色或黑色的沾污.鐵污染鐵污染: 鐵污染從哈氏片試片中觀察的不是很明顯鐵污染從哈氏片試片中觀察的不是很明顯,將傾向于將傾向于增加鍍層的內應力增加鍍層的內應力.以上污染槽液的處理對策以上污染槽液的處理對策:用低電流用低
12、電流(0.025-0.05A)密度密度電鍍出雜質金屬離子是最有效的辦法電鍍出雜質金屬離子是最有效的辦法.(例如例如:弱電解板弱電解板)有机污染有机污染: 假如原子吸收光譜証明金屬污染不是很明顯假如原子吸收光譜証明金屬污染不是很明顯,那問題可能那問題可能 出現在有机污染出現在有机污染,哈氏片試片在任何電流密度會發生鍍層模糊哈氏片試片在任何電流密度會發生鍍層模糊,顏色改變顏色改變,晦暗的現象晦暗的現象.金屬污染傾向于高電流密度下產生金屬污染傾向于高電流密度下產生,一一些有机污染能被活性碳處理去除掉些有机污染能被活性碳處理去除掉,可從工作浴中取樣品可從工作浴中取樣品,每升每升用用2g活性碳活性碳,并
13、加熱并加熱60度過濾去除掉并作哈氏片度過濾去除掉并作哈氏片.如活性碳處理很有效的制程如下如活性碳處理很有效的制程如下: 1,用泵浦將溶液抽入一適當的槽子用泵浦將溶液抽入一適當的槽子,假如需要加熱至假如需要加熱至60度度. 2,每升加每升加2g的活性碳的活性碳. 3,激烈攪拌激烈攪拌30分鐘分鐘. 4,槽液靜置槽液靜置30分鐘分鐘. 5,過濾溶液直到所有活性碳完全去除為止過濾溶液直到所有活性碳完全去除為止. 6,作哈氏片檢查處理后的效果作哈氏片檢查處理后的效果. 7,假如要使用分析光澤劑假如要使用分析光澤劑NO.1和濕潤劑補充至所需和濕潤劑補充至所需. 8,將處理好的槽液抽回原母槽將處理好的槽液抽回原母槽.
