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电容屏前段制程2021/6/161菱形架桥流程说明 素基板ITO镀膜微影制程ITO蚀刻剥膜微影制程(架桥)镀金属(钼-铝-钼)微影制程金属蚀刻 剥膜O/C保护层FQC前段完成交后段2021/6/162素机板2021/6/163溅渡过程DC-500V3X10-3torrAr2021/6/164ITO基板2021/6/165微影流程 投片UV清洗药洗水洗IR加热涂怖软烤露光显影收片2021/6/166微影制程12021/6/167蚀刻製程12021/6/168剥膜制程12021/6/169微影制程2(架桥)2021/6/1610镀金属(钼铝钼)2021/6/1611微影制程32021/6/1612蚀刻制程22021/6/1613剥膜制程22021/6/1614微影制程4(保护膜)2021/6/1615电容屏制程关键1.设备因素(要能稳定的控制参数,精度能达到产品的要求,不因为材料特性影响功能)2.材料因素 (玻璃,光阻,靶材,药液)3.人员因素(对设备了解,问题的判断,参数的控制)2021/6/1616 结束语结束语若有不当之处，请指正，谢谢！若有不当之处，请指正，谢谢！
