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1、TOC应用于制药设备的清洁验证 应对药品生产质量管理规范（2010修订）谷雪蔷市场及应用经理通用电气公司分析仪器2 美国GMP，中国2010修订GMP，国际规范时间时间事件事件1963USA FDA GMPs1978USA cGMP Modernization（现代化）: 21 CFR 211.671992 United States vs. Barr Labs 美国Barr Labs公司案例1993USA FDA Mid-Atlantic Inspection Guide: Cleaning Validation1993USA FDA Guide For Inspections: Clean
2、ing Validation1996United States Pharmacopeia (USP) Compendial TOC water specification USP 提出TOC水的规范3 时间时间事件事件1999European APIC Guide to Cleaning Validation at API Plants欧洲/APIC：原料药工厂清洁验证指南2000ICH Q7: Process Validation (International Conference on Harmonization) 过程验证（国际协调委员会）2004USA FDA cGMPs for th
3、e 21st Century2010中国药品生产质量管理规范（2010年修订）第一百四十三条：清洁验证2011USA FDA, Guidance for Industry, Process Validation: General Principles and Practices行业指南，过程验证：通用原理与规程美国GMP，中国2010修订GMP，国际规范4 现行的 CV 规范： CFR 211.67制造设备的清洁“在适当的时间间隔内，设备和器具必须按照官方或其他已制定的规范进行清洁、维护和消毒，以防止那些能改变药物产品的安全、特性、浓度、质量、纯度的故障或污染。”http:/ 基于HPLC的清
4、洁有效性要 点 1993年，FDA对HPLC的CV的要求清洁程序 HPLC 对化合物有特异性 特殊化合物的限度必须已制定 对棉签擦拭和漂洗，有不同的限度。每个限度必须基于可接受的科学推理，不能使用水的质量或普通的规范作为限度实验 “已经达到清洁” = 实验 “产品的质量”6 “新的” 改进的验证2011年1月质量是“被设计”到产品中去基于终端程序检测，质量不能保证过程的每一步都应该被控制过程的理解超越实验台连续的过程确认最坏情形假设（ Worst case conditions）？要 点7 cGMPsCurrent Good Mfg Practices制药工业制药工业FDA合规合规 PDAIS
5、PEAPIC Industry Organizations 行业组织行业组织 Standards Organizations 标准组织标准组织USP,JPChP,FP,DAB,ASTMFDAUSPICHGuidanceOrganizations指导性组织指导性组织Health Canada,WHO, US FDA,EU/EMEA,Chinese FDA Regulators执法人执法人FDAs483s Guide to Inspections483 检查指南检查指南法规法规制药制度框架制药制度框架Uncertainty 不确定性不确定性= Risk风险风险 (Overcompensate惩罚性
6、赔偿惩罚性赔偿)执法人执法人中中, 美美, 欧欧, 印度印度, 或日本或日本 8 1.企业的总体情况2.企业的质量管理体系3.人员4.厂房、设施和设备厂房、设施和设备5.文件6.生产7.质量控制8.发运、投诉和召回9.自检药品GMP认证申请资料要求国家食品药品监督管理局9 4. 厂房、设施和设备4.1 厂房4.1.1 空调净化系统的简要描述4.1.2 水系统的简要描述u水系统的工作原理、设计标准和运行情况及示意图4.1.3 水系统的简要描述4.2 设备4.2.1 列出生产和检验用主要仪器、设备4.2.2 清洗和消毒清洗和消毒u简述清洗、消毒与药品直接接触设备表面使用的方法简述清洗、消毒与药品直
7、接接触设备表面使用的方法及验证情况及验证情况4.2.3 与药品生产质量相关的关键计算机化系统u简述与药品生产质量相关的关键的计算机第系统的设计、使用验证情况药品GMP认证申请资料要求国家食品药品监督管理局10 第八十四条应当按照详细规定的操作规程清洁生产设备。生产设备清洁的操作规程应当规定具体而完整的清洁方法、清洁用设备或工具、清洁剂的名称和配制方法、去除前一批次标识的方法、保护已清洁设备在使用前免受污染的方法、已清洁设备最长的保存时限、使用前检查设备清洁状况的方法、使操作者能以可重现的、有效的方式对各类设备进行清洁。如需拆装设备，还应当规定设备拆装的顺序和方法；如需对设备消毒或灭菌，还应当规
8、定消毒或灭菌的具体方法、消毒剂的名称和配制方法。必要时，还应当规定设备生产结束至清洁前所允许的最长间隔时限。第八十五条已清洁的生产设备应当在清洁、干燥的条件下存放。第五章 设 备 第四节 使用和清洁药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）11 第九十三条衡器、量具、仪表、用于记录和控制的设备以及仪器应当有明显的标识，标明其校准有效期。第九十四条不得使用未经校准、超过校准有效期、失准的衡器、量具、仪表以及用于记录和控制的设备、仪器。第九十五条在生产、包装、仓储过程中使用自动或电子设备的，应当按照操作规程定期进行校准和检查，确保其操作功能正常。校准和检查应当有相应的记录
9、。第五章 设 备 第五节 校准药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）12 第九十九条纯化水、注射用水的制备、贮存和分配应当能够防止微生物的滋生。纯化水可采用循环，注射用水可采用70以上保温循环。第五章 设 备 第六节 制药用水药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）在旧版GMP第四章第三十四条基础上修改而成。原文为：注射用水的储存可采用80以上保温、 65以上保温循环或4以下存放。13 第一百三十九条企业的厂房、设施、设备和检验仪器应当经过确认，应当采用经过验证的生产工艺、操作规程和检验方法进行生产、操作和检验，并保持持续的验证状态。第
10、一百四十条应当建立确认与验证的文件和记录，并能以文件和记录证明达到以下预定的目标：（一）设计确认应当证明厂房、设施、设备的设计符合预定用途和本规范要求；（二）安装确认应当证明厂房、设施、设备的建造和安装符合设计标准；（三）运行确认应当证明厂房、设施、设备的运行符合设计标准；（四）性能确认应当证明厂房、设施、设备在正常操作方法和工艺条件下能够持续符合标准；（五）工艺验证应当证明一个生产工艺按照规定的工艺参数能够持续生产出符合预定用途和注册要求的产品。第七章 确认与验证 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）DQ、IQ、OQ、PQ之后，需要工艺验证14 第一百四十三条
11、清洁方法应当经过验证，证实其清洁的效果，以有效防止污染和交叉污染。清洁验证应当综合考虑设备使用情况、所使用的清洁剂和消毒剂、取样方法和位置以及相应的取样回收率、残留物的性质和限度、残留物检验方法的灵敏度等因素。清洁验证本条为新增。新版GMP明确规定清洁方法应当经过验证，并明确了清洁方法验证的目的、内容。将清洁方法纳入验证范围，说明药品监督管理部门更加重视清洁工作的过程、环节和结果。欧盟GMP对清洁验证的解释是有文件和记录证明所批准的清洁规程肯定能使设备符合药品生产要求的试验及相关活动。为确认清洁规程的效力，应进行清洁验证。应根据所涉及的物料，合理地确定产品残留，合理地确定产品残留、清洁剂和微生
12、物污染的限度标准。药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）第七章 确认与验证 15 第一百四十四条确认和验证不是一次性的行为。首次确认或验证后，应当根据产品质量回顾分析情况进行再确认或再验证。关键的生产工艺和操作规程应当定期进行再验证，确保其能够达到预期结果。第一百四十五条企业应当制定验证总计划，以文件形式说明确认与验证工作的关键信息。第一百四十六条验证总计划或其他相关文件中应当作出规定，确保厂房、设施、设备、检验仪器、生产工艺、操作规程和检验方法等能够保持持续稳定。药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）第七章 确认与验证 16 第一百
13、四十九条应当根据验证的结果确认工艺规程和操作规程。药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）第七章 确认与验证 第一百四十九条为新增。本条规定药品生产工艺规程和操作规程的确认要以验证的结果为依据。新版GMP对工艺规程和操作规程的解释如下： 工艺规程：为生产特定数量的成品而制定的一个或一套文件，包括生产处方、生产操作要求和包装操作要求，规定原辅料和包装材料的数量、工艺参数和条件、加工说明（包括中间控制）、注意事项等内容。 操作操作规程程：经批准用来指导设备操作、维护与清洁、验证、环境控制、取样和检验等药品生产活动的通用性文件，也称标准操作准操作规程程。17 第一百九十七
14、条生产过程中应当尽可能采取措施，防止污染和交叉污染，如：（六）采用经过验证或已知有效的清洁和去污染操作规程进行设备清洁；必要时，应当对与物料直接接触的设备表面的残留物进行检测；（九）生产和清洁过程中应当避免使用易碎、易脱屑、易发霉器具；使用筛网时，应当有防止因筛网断裂而造成污染的措施；药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）第七章 生产管理第一节 原 则 不是一定要用擦拭取样法必要时，需要用擦拭取样法擦拭的棉签等工具，不能掉渣18 第二百二十一条质量控制实验室的文件应当符合第八章的原则，并符合下列要求：（一）质量控制实验室应当至少有下列详细文件：1.质量标准；2.取
15、样操作规程和记录；3.检验操作规程和记录（包括检验记录或实验室工作记事簿）；4.检验报告或证书；5.必要的环境监测操作规程、记录和报告；6.必要的检验方法验证报告和记录；7.仪器校准和设备使用、清洁、维护的操作规程及记录。（二）每批药品的检验记录应当包括中间产品、待包装产品和成品的质量检验记录，可追溯该批药品所有相关的质量检验情况；（三）宜采用便于趋势分析的方法保存某些数据（如检验数据、环境监测数据、制药用水的微生物监测数据）；（四）除与批记录相关的资料信息外，还应当保存其他原始资料或记录，以方便查阅。药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）第十章 质量控制与质量保
16、证 19 第二百二十二条取样应当至少符合以下要求：（一）质量管理部门的人员有权进入生产区和仓储区进行取样及调查；（二）应当按照经批准的操作规程取样，操作规程应当详细规定：1. 经授权的取样人；2. 取样方法；3. 所用器具；4. 样品量；5. 分样的方法；6. 存放样品容器的类型和状态；7. 取样后剩余部分及样品的处置和标识；8. 取样注意事项，包括为降低取样过程产生的各种风险所采取的预防措施，尤其是无菌或有害物料的取样以及防止取样过程中污染和交叉污染的注意事项；9. 贮存条件；10.取样器具的清洁方法和贮存要求。药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）第十章 质量
17、控制与质量保证 20 （三）取样方法应当科学、合理，以保证样品的代表性；（四）留样应当能够代表被取样批次的产品或物料，也可抽取其他样品来监控生产过程中最重要的环节（如生产的开始或结束）；（五）样品的容器应当贴有标签，注明样品名称、批号、取样日期、取自哪一包装容器、取样人等信息；（六）样品应当按照规定的贮存要求保存。药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）第十章 质量控制与质量保证 21 22 口服固体制剂 Oral Solid Dosage Forms原料药 API，Active Pharmaceutical Ingredients无菌药品 Sterile Prod
18、ucts清洁的要求从低到高清洁验证药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）23 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）口服固体制剂 7.3 清洁验证24 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）口服固体制剂 7.3 清洁验证25 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）口服固体制剂 7.3 清洁验证专属性分析方法（如HPLC），是否对单独清洁剂残留测定？非专属性分析方法（如TOC），直接将清洁剂归为目标化合物，无需单独测定。26 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010
19、年修订）年修订）口服固体制剂 7.3 清洁验证27 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）口服固体制剂 7.3 清洁验证考虑活性成分的含量考虑活性成分的含量下批产品的生产批量下批产品的生产批量要转化到活性成分要转化到活性成分28 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）口服固体制剂 7.3 清洁验证不考虑活性成分的含量，只看不考虑活性成分的含量，只看下批产品的生产批量下批产品的生产批量29 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）口服固体制剂 7.3 清洁验证30 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（
20、2010年修订）年修订）口服固体制剂 7.3 清洁验证TOC是清洁验证非常适用的监控方法是清洁验证非常适用的监控方法灵敏度高灵敏度高快快速速非专属非专属聪明的设计：聪明的设计：TOC直接作为清洁验证的分析方法直接作为清洁验证的分析方法免免去其他分析方法的工作，如去其他分析方法的工作，如HPLC分分析方法与监控方法，合二为一析方法与监控方法，合二为一31 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）口服固体制剂 7.3 清洁验证32 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）口服固体制剂 7.3 清洁验证淋洗水法的限值淋洗水法的限值最后一次洗水中
21、的最后一次洗水中的a残留总量残留总量33 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）口服固体制剂 7.3 清洁验证34 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）口服固体制剂 7.3 清洁验证35 药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）口服固体制剂 7.3 清洁验证淋洗水法的限值淋洗水法的限值最后一次洗水中的最后一次洗水中的A残留总量残留总量36 原料药API12.4 清洁验证药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）37 原料药API12.4 清洁验证药品生产质量管理药品生产质量管理规
22、范（规范（2010年修订）年修订）38 原料药API12.4 清洁验证药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）39 原料药API12.4 清洁验证药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）HPLC可以考虑更换溶剂，可以考虑更换溶剂，TOC不可以不可以TOC的溶剂一定是水的溶剂一定是水40 原料药API清洁验证检测经过验证的分析方法常见方法：高效液相色谱HPLC薄层色谱TLC总有机碳（TOC）紫外分光光度（UV）药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）41 无菌药品13 清洁与消毒药品生产质量管理药品生产质量管理规
23、范（规范（2010年修订）年修订）42 三步消毒法第一步：清洁第二步：消毒第三步：清除残留清洁验证消毒验证药品生产质量管理药品生产质量管理规范（规范（2010年修订）年修订）无菌药品13 清洁与消毒43 分析方法的验证44 分析方法的验证只有在分析方法是可靠的和可重复的时，验证才可通过USP 与 ICH Q2（R1）阐述了分析方法验证程序验证USP ICH Q2(R1)质量控制检查样品系统适用性试验分析方法验证分析仪器验证45 ICH Q2（R1）中分析方法的验证要点专属性 （% 碳）线性度 5 点范围 最高和最低值之间的浓度覆盖域准确度（总有机碳）精确度 %RSD百分标准偏差最低检测限（LO
24、D）、最低定量限（LOQ）可靠性 在不同的使用条件46 分析方法专属性 HPLC，IMS非专属性 TOC，电导率，pH47 专属性 -分析方法的验证中的要点 专属性 “专属性是能非常准确地确定所存在的被测物质” ICH Q2(R1)如能对目标物质进行准确的定量检测 有机碳，就显示出这分析方法对有机碳具有专属性。这可通过检测具有代表性的一些有机物，可选一些含有除碳、氢、氧以外元素的有机物。比如，含有氯、硫、氮或磷的有机物。48 GE全面支持方法验证专属性与耐用性测试甲醇甲醇烟酰胺烟酰胺邻苯二甲酸氢钾邻苯二甲酸氢钾您已经验证了分析方法，取样过程 现在您如何“确认”清洁过程？50 让我们看一下使用T
25、OC方法优化清洁过程的案例研究口服固体制剂OSD 生产厂使用三种形式的 TOC 检测（实验室、at-line、与 on-line），希望您帮助确定清洁过程中的高风险的机会与转换（变化）到连续的确认过程 51 这是工艺过程原料药加入IBC，粒内初混润滑滚筒压实粒外添加，混合与润滑最后混合压片成粒包衣52 这是整个工艺的限度1.0 ppm CTOC 值53 这是他们的TOC数据1.0 ppm C磨碎颗粒化 & 混合高低杂质的连续性= TOC 擦拭结果= TOC 淋洗结果TOC 值压片成粒包衣54 优化的区域？1.0 ppm C看这里，问为什么？磨碎压片颗粒化 & 混合成粒包衣= TOC 擦拭结果=
26、 TOC 淋洗结果TOC 值55 优化的区域？1.0 ppm C看这里，问为什么？磨碎压片颗粒化 & 混合成粒包衣= TOC 擦拭结果= TOC 淋洗结果TOC 值不在这里!56 风险的可能在哪里？1.0 ppm C磨碎颗粒化 & 混合高高低低杂质的连续性杂质的连续性= TOC 擦拭结果= TOC 淋洗结果TOC 值压片成粒包衣57 1.0 ppm C磨碎压片颗粒化 & 混合成粒包衣= TOC 擦拭结果= TOC 淋洗结果TOC 值风险的可能在哪里？高高低低杂质的连续性杂质的连续性58 1.0 ppm C你应该质疑磨碎压片颗粒化 & 混合成粒包衣= TOC 擦拭结果= TOC 淋洗结果TOC
27、值高高低低杂质的连续性杂质的连续性59 1.0 ppm C残余物是什么？溶解性的问题？清洁的问题？关键的工艺？我们能改进吗？高高低低杂质的连续性杂质的连续性磨碎颗粒化 & 混合= TOC 擦拭结果= TOC 淋洗结果TOC 值压片成粒包衣你应该质疑60 把你所了解的转化为风险评估，以改进 工艺工艺潜在的潜在的风险模式风险模式对病人的潜在风险对病人的潜在风险（基于（基于S,O,D）严重性严重性发生几发生几率率可探测性可探测性PIRN磨碎颗粒化 & 混合压片切段包衣PIRN = 产品/过程影响风险分值Product/Process Impact Risk Number61 风险分析1.0 ppm
28、C磨碎压片颗粒化 & 混合成粒包衣= TOC 擦拭结果= TOC 淋洗结果TOC 值高高低低杂质的连续性杂质的连续性62 把你所了解的转化为风险评估，以改进 工艺工艺潜在的潜在的风险模式风险模式对病人的潜在风险对病人的潜在风险（基于（基于S,O,D）严重性严重性发生性发生性可探测可探测性性PIRN磨碎不彻底的清洗潜在的夹带基于TOC擦拭与淋洗，不易于发生颗粒化 & 混合不彻底的清洗高的潜在夹带，小的零件与所用的有机物TOC擦拭与淋洗法之间有偏差压片不彻底的清洗很关键的过程，小的零件，难于清洗中等的TOC值切段不彻底的清洗产品夹带的可能性低目视检测应该足够手动清洁过程包衣不彻底的清洗产品夹带的可
29、能性低自动清洗过程PIRN = 产品/过程影响风险分值Product/Process Impact Risk Number63 严重性标准失败的后果10 极高: Predicted to cause severe impact to quality, process or product7 高:Predicted to cause significant impact to quality, process or product (Schedule slip, significant downtime)3 中等:Predicted to cause minor impact to qualit
30、y, process or product (Non system failure, sample error)1 低:Predicted to have no impact to quality, process or product (event or alarm)引用自引用自: Dr. Gary Harbour, Pfizer辉瑞辉瑞64 发生性失败的可能性10 常规性失败: TOC sampling process failures (OOS) are expected to happen regularly at a specific cleaning process.7 重复性失败
31、:TOC sampling process failures (OOS) are expected to happen with a low frequency of failure.3 偶尔失败:There are occasional failures (OOS) at random points of use on cleaning process that happen infrequently.1 不易失败:OOS unlikely to happen during verification.引用自引用自: Dr. Gary Harbour, Pfizer辉瑞辉瑞65 可探测性标准发
32、现失败的能力10 通常不被发现: A TOC OOS is very likely to be overlooked or not detected.7 容易不被发现:A TOC failure (OOS) may be overlooked due to frequency of checks.3 常规被发现:A TOC failure (OOS) is most likely detected with routine.1 总是被发现:A TOC failure (OOS) or system breach will be detected in all cases.引用自引用自: Dr.
33、 Gary Harbour, Pfizer辉瑞辉瑞66 把你所了解的转化为风险评估，以改进 工艺工艺潜在的潜在的风险模式风险模式对病人的潜在风险对病人的潜在风险（基于（基于S,O,D）严重性严重性发生性发生性可探测可探测性性PIRN磨碎不彻底的清洗潜在的夹带基于TOC擦拭与淋洗，不易于发生3319颗粒化 & 混合不彻底的清洗高的潜在夹带，小的零件与所用的有机物TOC擦拭与淋洗法之间有偏差737147压片不彻底的清洗很关键的过程，小的零件，难于清洗中等的TOC值103390切段不彻底的清洗产品夹带的可能性低目视检测应该足够手动清洁过程1111包衣不彻底的清洗产品夹带的可能性低自动清洗过程3319
34、PIRN = 产品/过程影响风险分值Product/Process Impact Risk Number67 工艺工艺潜在的潜在的风险模式风险模式对病人的潜在风险对病人的潜在风险（基于（基于S,O,D）严重性严重性发生性发生性可探测性可探测性PIRN磨碎不彻底的清洗潜在的夹带基于TOC擦拭与淋洗，不易于发生3319颗粒化 & 混合不彻底的清洗高的潜在夹带，小的零件与所用的有机物TOC擦拭与淋洗法之间有偏差737147压片不彻底的清洗很关键的过程，小的零件，难于清洗中等的TOC值103390切段不彻底的清洗产品夹带的可能性低目视检测应该足够手动清洁过程1111包衣不彻底的清洗产品夹带的可能性低自
35、动清洗过程3319把你所了解的转化为风险评估，以改进 PIRN = 产品/过程影响风险分值Product/Process Impact Risk Number68 回到工艺中高的擦拭结果低的淋洗结果评价目标化合物的清洁参数与清洁能力推理：表面残留产生高的TOC结果，淋洗样品很低的TOC（溶解性）建议变更建议变更 ：对CIP过程评价温度与化学处理后的TOC值原料药加入IBC，粒内初混润滑滚筒压实粒外添加，混合与润滑最后混合压片成粒包衣69 TOC 值 （ppb C）变更以后TOC值基于10轮清洁的TOC值70 变更以后评估风险工艺工艺潜在的潜在的风险模式风险模式对病人的潜在风险对病人的潜在风险（
36、基于（基于S,O,D）严重性严重性发生性发生性可探测性可探测性PIRN磨碎不彻底的清洗潜在的夹带基于TOC擦拭与淋洗，不易于发生3319颗粒化 & 混合不彻底的清洗高的潜在夹带，小的零件与所用的有机物TOC擦拭与淋洗法之间有偏差73121压片不彻底的清洗很关键的过程，小的零件，难于清洗中等的TOC值103390切段不彻底的清洗产品夹带的可能性低目视检测应该足够手动清洁过程1111包衣不彻底的清洗产品夹带的可能性低自动清洗过程3319PIRN = Product/Process Impact Risk Number71 我们为什么要从工艺的角度讨论清洁验证？“工艺的知识与理解是对每一个单元操作与
37、整体工艺建立方法的基础。过程控制的策略可以设计，以降低输入的波动。”过程控制处理可变性，确定产品的质量。根据CFR 211.110(c)，在重要的工艺点，控制可以由物料分析与设备监测组成。关于工艺控制的类型与限度的决定，可以由风险评估来帮助确定，然后随着获得的工艺经验，来加强与改进。 - FDA Guidance For Industry Process Validation: General Principles and Practices. Establishing a Strategy for Process Control, page 9.让清洁验证变得简单! 你在测量什么？你在哪里测定？你如何响应？73 74 连续的快速测量!4秒钟分析时间从采样捕获到最后的冲洗动态范围达到 10ppm C适应热水，水样温度可达95试剂化学控制对水样电导率没有实际的限制 在线和便携式仪器都有 Turbo模式支持3Q验证IQ/OQ/PQ 在线清洁验证的经验和技术支持TOC 900 Turbo 模式被推荐用于在线清洁验证75 GE Analytical Instruments, Inc.Boulder, Colorado
