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1、反渗透和EDI水处理设备工艺选择原则对比工业生产中用到的水主要有纯水、高纯水和超纯水三种。纯 水的别名还有去离子水、纯净水，主要通过离子交换和反渗透设 备得到。高纯水是化学纯度极高的水，电阻率在10-15MQ *cm之 间，不能饮用，一般可以反渗透+EDI联用设备得到。超纯水的 定义没有明确的界限，一般将水的电阻率大于18MQ *cm的都称 为超纯水，水中导电介质几乎完全去除，通过反渗透+EDI+抛光 混床联用，制得的超纯水电阻率可达18.25MQ *cm，目前三种纯 度水的区别主要考察含盐量和电导率两个方面。要求不同，我们 选择工艺的类型也不同。反渗透纯水处理设备通过反渗透设备得到的纯水，广
2、泛应用于电子工业，制药行 业，锅炉补给、食品工业、精细化工等现代工业中，也适用于饮 用水。使用纯水，是很多行业提高产品质量，赶超世界先进水平 的重要手段。由于人工可以很好的控制纯水中的离子数，保证出 水的电阻率、病毒细菌等生化、病理指标符合生产要求，在实验 室中也经常用到。实验室或工业生产中使用去离子水可以优化过 程，使参数更接近设计或理想的数据，更好的控制实验数据和产 品质量。RO+EDI水处理设备反渗透+EDI高纯水处理设备高纯水主要应用于对水质要求极高的宇航、电力电子等领域， 这种水只能用作工业用水，不能用作饮用水。高纯水的国家标准 GB1146.1-89是参照ASTM电子级标准而制定的
3、，国标电子级水 分为五个级别：1级、II级、III级、W级和V级，该标准。高纯 水分析领域的出现的新仪器和新方法，为制水工艺的发展创造了 条件。反渗透+EDI+抛光混床超纯水处理设备超纯水的划分没有精确界限，一般将水的电阻率大于 18MQ *cm的都成为超纯水，水中导电介质几乎完全去除，通过 反渗透+EDI+抛光混床得到的超纯水电阻率可达18.25MQ *cm， 主要应用于集成电路工业中的半导体原材料和所用器皿的清洗， 光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。目前三种纯度水的 区别主要考察含盐量和电导率两个方面，指标越低，纯度越高。 要求不同，我们选择工艺的类型也不同。超纯水是水质纯度的最高界限，高纯水的纯度介于纯水和超 纯水之间，是纯水的更深级别，但还没达到超纯水的标准。三种水中只有纯水可以引用。选择适合的水处理设备，关键在于用水的纯度及各项征性指标，如电导率或电阻率，PH值，钠，重金 属，二氧化硅，溶解有机物，微粒子，以及微生物指标等，其他 的参考指标在此不一一列出。
