药物制剂工程技术与设备 第二版课件 教学课件 ppt 作者 张洪斌 主编 汤青 郑鹏武 副主编2-4 GMP与卫生

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1、第四节 GMP与车间卫生要求,一、车间卫生的基本概念,1、卫生(Hygiene),WHO对其所下的定义是“身体、精神与社会处于完全良好的状态”。 在“GMP” 中,主要的是指环境卫生、工艺卫生、厂房卫生与人员卫生等。 2、污染定义:当某物与不洁净的或腐坏物接触或混合在一起从而使该物变得不纯净或不适用时即污染。也就是当一 个产品中存在不需要的物质时,它即受到污染,药品生产中最常见的污染形式就是尘粒的污染和微生物污染。,(1)尘粒污染:,几乎任何物料都能转变成尘粒形式并且通过空气流传播至整个药厂。药厂中可能存在一些典型尘粒如下:泥土、头发皮肤、尘、油、沙、香烟烟雾、棉绒、金属、微粒、衣服纤维、喷嚏

2、和咳嗽排出物。 一个典型的制药企业的环境中,每立方英尺(1英尺=0.3048米)空气中可能含有20万至1千万尘粒。,表2-10 部分地区大气含尘浓度平均值(大于或等于 0.5m,Pc/L),(2)微生物污染:,微生物是日常生活的一个正常部份,存在于空气、水、土壤中,据科学测试1g肥沃的花园土壤中通常有几百万的细菌。,通常一个细菌在有适宜的养料、水份、温度条件下,仅仅24小时可产生出281兆个细菌。 表2-11 某城市大气中的含菌浓度(P28),二、洁净厂房污染来源分析,1、洁净室微粒来源分析 (表2-12 ),发生源 占百分比(%),从空气中漏入 7,从原料中带入 8,从设备运转中产生 25,

3、从生产过程中产生 25,由人员因素造成 35,2、人是洁净室中最大的污染源,人在新陈代谢过程中会释放或挥发污染物,每天脱落的皮屑量可达1000万颗,打一次喷嚏能使周围空气微粒增加5-20倍,释放5-6万个细菌。 人体表面、衣服能沾染污染物。人体部位携带的细菌数:手102-3个/cm2,额头103-5个/cm2,头皮约100万个/cm2 人在洁净室内的各种动作也会产生微粒和微生物。坐着时发尘数为10-250万个/人分,走动发尘数500-1000万个/人分,发菌700-5000个/个分。 表2-13 不同衣着、不同动作时的人体产尘量 (P29),三、GMP与车间卫生的处理措施,1、空气处理措施,(

4、1)选址及总体规划、环境卫生;(参见本章第三节内容),(2)洁净室空气净化。(空气洁净度级别见表2-2,2-3),A、净化空调系统的基本流程:,新风,粗效过滤器,冷 却 器,加 热 器,加 湿 器,中效过滤器,高效 过滤器,洁 净 室,B、空气过滤器的组合示例,高效空气净化系统,新风,粗效过滤器,中效过滤器,高效过滤器,洁 净 室,排风,回风,空气净化系统的一般性流程图2-3:,(3)洁净室的重要控制参数,a、温度:18-260C b、相对湿度:45-65%(有特殊要求的产品除外) c、洁净室压力:洁净室与室外至少保持10Pa的正压;洁净级别高的房间对洁净级别低的房间保持不小于5Pa的正压。

5、d、新风量的确定 按下述方法计算后取最大值: 非单向流洁净室总送风量的10%-30%,单向流洁净室总送风量的2%-4%; 保证供给洁净室内每人不小于 40m3 /h; 维持室内正压所需风量及补偿室内排风风量之和。 e、气流组织和换气次数的选择见表2-14,2、人员 处理措施,(1)人员卫生管理 建立健康档案 养成良好卫生习惯:勤洗手、洗澡、剪指甲、理发,勤换衣,严禁吸烟等,(2)人员净化 进入洁净工作室的人员必须经过一系列的净化程序,(A)非无菌产品、可灭菌产品生产区人员净化程序,进,换 鞋,脱外衣,洗手,穿工洁作净服,手消毒,气闸,非品无生菌产产区,出,厕所,浴池,穿工洁作净服,脱外衣,换

6、鞋,(B)不可灭菌产品生产区人员净化程序,换 鞋,脱 外 衣,洗手脸,穿无菌内衣,手消毒,气 闸 室,不可灭菌生产区,厕所,沐 浴,穿无菌内衣,脱 外 衣,换 鞋,脱 内 衣,脱 内 衣,穿无菌外衣,穿无菌外衣,手消毒,换 无菌鞋,换 无菌鞋,进,出,3、原辅料处理措施,(1)GMP规范对生产药品的原辅料,包装材料均作了相 应的规范要求,如生产无菌分装的原料其精烘包车 间必须在有相应净化级别的条件下进行。,(2)进出洁净区的原辅料及包装材料必须设有净化措施。 如:利用联锁式传递窗(柜)传递物料。(图2-4),洁 净 室,物料,吸尘,脱外包,如:利用双扉式灭菌柜传递物流,传送带不能直接进入洁净区,必须切换 。图2-6示意:,洁 净 室,瓶子,粗洗,精洗,洁 净 室,传送带,风幕,图2-5 气闸式传递窗结构,(3)工艺用水,纯水的水源应符合药典规定,其贮藏和输送管 道所用材料应无毒、耐腐蚀。 生物制品生产用的注射用水在制备后6h内使用或4h内灭菌。 注射用水应密闭贮存,用80以上保温或65保温循环,贮存时间不超过12小时。,4、对设备要求详见下节,

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