芯片制作流程

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1、1.芯片的设计流程,FPGA (3-4个月)Design (tape out ) TestMask(2周) PKG Process(1-3个月) wafer,die,1.芯片的设计流程,FPGA的理解 FPGA是英文Field Programmable Gate Array的缩写,即现场可编程门阵列,它是在PAL、GAL、EPLD等可编程器件的基础上进一步发展的产物。它是作为专用集成电路(ASIC)领域中的一种半定制电路而出现的,既解决了定制电路的不足,又克服了原有可编程器件门电路数有限的缺点。 FPGA采用了逻辑单元阵列LCA(Logic Cell Array)这样一个新概念,内部包括可配置

2、逻辑模块CLB(Configurable Logic Block)、输出输入模块IOB(Input Output Block)和内部连线(Interconnect)三个部分。,1.芯片的设计流程,FPGA的基本特点主要有:1)采用FPGA设计ASIC电路,用户不需要投片生产,就能得到合用的芯片。 2)FPGA可做其它全定制或半定制ASIC电路的中试样片。3)FPGA内部有丰富的触发器和IO引脚。4)FPGA是ASIC电路中设计周期最短、开发费用最低、风险最小的器件之一。5) FPGA采用高速CHMOS工艺,功耗低,可以与CMOS、TTL电平兼容。可以说,FPGA芯片是小批量系统提高系统集成度、

3、可靠性的最佳选择之一。目前FPGA的品种很多,有XILINX的XC系列、TI公司的TPC系列、ALTERA公司的FIEX系列等。,1.芯片的设计流程,FPGA的设计流程就是利用EDA开发软件和编程工具对FPGA芯片进行开发的过程。FPGA的开发流程一般如右图所示,包括电路设计、设计输入、功能仿真、综合优化、综合后仿真、实现、布线后仿真、板级仿真以及芯片编程与调试等主要步骤。,1.芯片的设计流程,1.电路功能设计 在系统设计之前,首先要进行的是方案论证、系统设计和FPGA芯片选择等准备工作。系统工程师根据任务要求,如系统的指标和复杂度,对工作速度和芯片本身的各种资源、成本等方面进行权衡,选择合理

4、的设计方案和合适的器件类型。一般都采用自顶向下的设计方法,把系统分成若干个基本单元,然后再把每个基本单元划分为下一层次的基本单元,一直这样做下去,直到可以直接使用EDA元件库为止。2 设计输入 设计输入是将所设计的系统或电路以开发软件要求的某种形式表示出来,并输入给EDA工具的过程。常用的方法有硬件描述语言(HDL)和原理图输入方法等。原理图输入方式是一种最直接的描述方式,在可编程芯片发展的早期应用比较广泛,它将所需的器件从元件库中调出来,画出原理图。这种方法虽然直观并易于仿真,但效率很低,且不易维护,不利于模块构造和重用。更主要的缺点是可移植性差,当芯片升级后,所有的原理图都需要作一定的改动

5、。目前,在实际开发中应用最广的就是HDL语言输入法,利用文本描述设计,可以分为普通HDL和行为HDL。普通HDL有ABEL、CUR等,支持逻辑方程、真值表和状态机等表达方式,主要用于简单的小型设计。而在中大型工程中,主要使用行为HDL,其主流语言是Verilog HDL和VHDL。这两种语言都是美国电气与电子工程师协会(IEEE)的标准,其共同的突出特点有:语言与芯片工艺无关,利于自顶向下设计,便于模块的划分与移植,可移植性好,具有很强的逻辑描述和仿真功能,而且输入效率很高。3 功能仿真 功能仿真,也称为前仿真,是在编译之前对用户所设计的电路进行逻辑功能验证,此时的仿真没有延迟信息,仅对初步的

6、功能进行检测。仿真前,要先利用波形编辑器和HDL等建立波形文件和测试向量(即将所关心的输入信号组合成序列),仿真结果将会生成报告文件和输出信号波形,从中便可以观察各个节点信号的变化。如果发现错误,则返回设计修改逻辑设计。常用的工具有Model Tech公司的ModelSim、Sysnopsys公司的VCS和Cadence公司的NC-Verilog以及NC-VHDL等软件。虽然功能仿真不是FPGA开发过程中的必需步骤,但却是系统设计中最关键的一步。,1.芯片的设计流程,4 综合 所谓综合就是将较高级抽象层次的描述转化成较低层次的描述。综合优化根据目标与要求优化所生成的逻辑连接,使层次设计平面化,

7、供FPGA布局布线软件进行实现。就目前的层次来看,综合优化(Synthesis)是指将设计输入编译成由与门、或门、非门、RAM、触发器等基本逻辑单元组成的逻辑连接网表,而并非真实的门级电路。真实具体的门级电路需要利用FPGA制造商的布局布线功能,根据综合后生成的标准门级结构网表来产生。为了能转换成标准的门级结构网表,HDL程序的编写必须符合特定综合器所要求的风格。由于门级结构、RTL级的HDL程序的综合是很成熟的技术,所有的综合器都可以支持到这一级别的综合。常用的综合工具有Synplicity公司的Synplify/Synplify Pro软件以及各个FPGA厂家自己推出的综合开发工具。5 综

8、合后仿真 综合后仿真检查综合结果是否和原设计一致。在仿真时,把综合生成的标准延时文件反标注到综合仿真模型中去,可估计门延时带来的影响。但这一步骤不能估计线延时,因此和布线后的实际情况还有一定的差距,并不十分准确。目前的综合工具较为成熟,对于一般的设计可以省略这一步,但如果在布局布线后发现电路结构和设计意图不符,则需要回溯到综合后仿真来确认问题之所在。在功能仿真中介绍的软件工具一般都支持综合后仿真。6 实现与布局布线 实现是将综合生成的逻辑网表配置到具体的FPGA芯片上,布局布线是其中最重要的过程。布局将逻辑网表中的硬件原语和底层单元合理地配置到芯片内部的固有硬件结构上,并且往往需要在速度最优和

9、面积最优之间作出选择。布线根据布局的拓扑结构,利用芯片内部的各种连线资源,合理正确地连接各个元件。目前,FPGA的结构非常复杂,特别是在有时序约束条件时,需要利用时序驱动的引擎进行布局布线。布线结束后,软件工具会自动生成报告,提供有关设计中各部分资源的使用情况。由于只有FPGA芯片生产商对芯片结构最为了解,所以布局布线必须选择芯片开发商提供的工具。,1.芯片的设计流程,7 时序仿真与验证 时序仿真,也称为后仿真,是指将布局布线的延时信息反标注到设计网表中来检测有无时序违规(即不满足时序约束条件或器件固有的时序规则,如建立时间、保持时间等)现象。时序仿真包含的延迟信息最全,也最精确,能较好地反映

10、芯片的实际工作情况。由于不同芯片的内部延时不一样,不同的布局布线方案也给延时带来不同的影响。因此在布局布线后,通过对系统和各个模块进行时序仿真,分析其时序关系,估计系统性能,以及检查和消除竞争冒险是非常有必要的。在功能仿真中介绍的软件工具一般都支持综合后仿真。8 板级仿真与验证 板级仿真主要应用于高速电路设计中,对高速系统的信号完整性、电磁干扰等特征进行分析,一般都以第三方工具进行仿真和验证。9 芯片编程与调试 设计的最后一步就是芯片编程与调试。芯片编程是指产生使用的数据文件(位数据流文件,Bitstream Generation),然后将编程数据下载到FPGA芯片中。其中,芯片编程需要满足一

11、定的条件,如编程电压、编程时序和编程算法等方面。逻辑分析仪(Logic Analyzer,LA)是FPGA设计的主要调试工具,但需要引出大量的测试管脚,且LA价格昂贵。目前,主流的FPGA芯片生产商都提供了内嵌的在线逻辑分析仪(如Xilinx ISE中的ChipScope、Altera QuartusII中的SignalTapII以及SignalProb)来解决上述矛盾,它们只需要占用芯片少量的逻辑资源,具有很高的实用价值。,1.芯片的设计流程,Tapeout简单说来,一颗芯片的诞生可以分成设计和制造。当设计结束的时候,设计方会把设计数据送给制造方。这个转交设计数据的动作就叫 Tapeout

12、。tapeout 是集成电路设计中一个重要的阶段性成果,等待制造完的芯片回来做检测,看是不是符合设计要求,是否有什么严重的问题等等。就算没有问题,到正式上市还需要经过一系列严格的质量检测。这个过程视芯片本身规模和应用要求不同,从数周到数月不等。,1.芯片的设计流程,掩模版(mask),通常是实际芯片的510倍,上面的图案使用一种金属如铬来形成。我猜这个大概最终是用机械加工的吧。之后就要进行光刻。光刻就是把电路版图信息转移到晶片上的第一步。出于制造的目的,我们把版图分解成很多层(这样就把三维的结构抽象成二维了)。这些层都要在晶片上以很高的精度加工出来。注意,这里的加工主要是依靠光学和化学的加工,

13、和机械的关系不是特别大。光刻需要掩模版,光刻胶和紫外线,原理与照相差不多,和制造印刷电路板的工艺相同,但是允许的分辨率很小,就是大家知道0.25um,0.13um,90nm,65nm等等,2.芯片的制作流程,芯片的制造过程可概分为: 芯片制造的准备阶段 光刻蚀 掺杂 晶圆处理工序(Wafer Fabrication)、 晶圆针测工序(Wafer Probe)、 构装工序(Packaging)、 测试工序(Initial Test and Final Test)其中晶圆处理工序和晶圆针测工序为前(Front End)工序,而构装工序、测试工序为后段(Back End)工序。,2.芯片的制作流程,

14、芯片制造的准备阶段 首先,硅原料要进行化学提纯,这一步骤使其达到可供半导体工业使用的原料级别。为了使这些硅原料能够满足集成电路制造的加工需要,还必须将其整形,这一步是通过溶化硅原料,然后将液态硅注入大型高温石英容器来完成的。 而后,将原料进行高温溶化为了达到高性能处理器的要求,整块硅原料必须高度纯净,及单晶硅。然后从高温容器中采用旋转拉伸的方式将硅原料取出,此时一个圆柱体的硅锭就产生了。 下一个步骤就是将这个圆柱体硅锭切片,切片越薄,用料越省,自然可以生产的处理器芯片就更多。新的切片中要掺入一些物质,使之成为真正的半导体材料,然后在其上刻划代表着各种逻辑功能的晶体管电路。掺入的物质原子进入硅原

15、子之间的空隙,彼此之间发生原子力的作用,从而使得硅原料具有半导体的特性。,2.芯片的制作流程,光刻蚀光刻蚀过程就是使用一定波长的光在感光层中刻出相应的刻痕,由此改变该处材料的化学特性。这项技术对于所用光的波长要求极为严格,需要使用短波长的紫外线和大曲率的透镜。刻蚀过程还会受到晶圆上的污点的影响。每一步刻蚀都是一个复杂精细的过程。设计每一步过程的所需要的数据量都可以用10GB的单位来计量,而且制造每块处理器所需要的刻蚀步骤都超过20步(每一步进行一层刻蚀)。当这些刻蚀工作全部完成之后,晶圆被翻转过来。短波长光线透过石英模板上镂空的刻痕照射到晶圆的感光层上,然后撤掉光线和模板。通过化学方法除去暴露

16、在外边的感光层物质,二氧化硅马上在陋空位置的下方生成。,2.芯片的制作流程,掺杂在残留的感光层物质被去除之后,剩下的就是充满的沟壑的二氧化硅层以及暴露出来的在该层下方的硅层。这一步之后,另一个二氧化硅层制作完成。然后,加入另一个带有感光层的多晶硅层。多晶硅是门电路的另一种类型。由于此处使用到了金属原料(因此称作金属氧化物半导体),多晶硅允许在晶体管队列端口电压起作用之前建立门电路。感光层同时还要被短波长光线透过掩模刻蚀。再经过一部刻蚀,所需的全部门电路就已经基本成型了。然后,要对暴露在外的硅层通过化学方式进行离子轰击,此处的目的是生成N沟道或P沟道。这个掺杂过程创建了全部的晶体管及彼此间的电路连接,没个晶体管都有输入端和输出端,两端之间被称作端口。,1.芯片的制作流程,构装工序:就是将单个的晶粒固定在塑胶或陶瓷制的芯片基座上,并把晶粒上蚀刻出的一些引接线端与基座底部伸出的插脚连接,以作为与外界电路板连接之用,最后盖上塑胶盖板,用胶水封死。其目的是用以保护晶粒避免受到机械刮伤或高温破坏。到此才算制成了一块集成电路芯片(即我们在电脑里可以看到的那些黑色或褐色,两边或四边带有许多插脚或引线的矩形小块),

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