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1、 TiO_2薄膜论文：修正板改善薄膜厚度均匀性的研究【中文摘要】经过一百多年的发展,薄膜光学已经成为近代光学的重要分支。光学薄膜技术在理论、设计、计算和工艺方面已形成了完整的体系,一些新型微观结构的功能薄膜被不断开发出来,这些功能薄膜的相继出现,使得光学薄膜技术广泛地渗透到各个新兴的科学研究领域中。薄膜技术也逐渐成为高科技产品加工技术中的重要手段。而其制备过程中可能会存在的膜层均匀性问题,是一个非常值得注意的问题。薄膜厚度的均匀性,反映了待镀基片上所沉积的薄膜厚度依基片在真空室里所处位置的变化而变化的情况。膜厚均匀性包括两个方面：一是在同一组镀制过程中处于不同基片位置沉积的薄膜有近似的膜厚分布
2、；二是获得的每片薄膜只存在一定范围内的膜厚误差分布。前者保证产业化的镀膜效率,后者保证每个成品的性能。膜厚均匀性是衡量镀膜装置性能和薄膜质量的一项重要指标,直接影响到镀膜器件的可靠性、稳定性,以及产品的一致性。对光学、光电等器件生产的成品率影响很大。因此,需要把握膜厚的分布规律,寻求大面积、最佳膜厚均匀性的薄膜。本文介绍了制备薄膜的几种物理气相沉积方法的原理和特点：真空蒸发、溅射、离子镀。对膜厚均匀性的影响因素作了分析,包括蒸发源、基板温度、基板与蒸发源相对位置、真空.【英文摘要】Film optics has become an important branch of modern opti
3、cs after a hundred years of development. The technology of film optics has formed complete system in theory, design, calculation and preparation craft. A lot of different functional films have been produced which made optical films technology be widely used in emerging scientific research area. Film
4、 technology has gradually become a significant method in processing technology of high technology products. During the process of preparation, the uniformi.【关键词】TiO_2薄膜 电子束蒸发 膜厚均匀性 修正档板【英文关键词】TiO_2 films Electron beam evaporation Thickness uniformity Modifying mask【目录】修正板改善薄膜厚度均匀性的研究摘要4-5ABSTRACT5-6
5、第1章 绪论9-241.1 光学薄膜的发展及应用9-121.1.1 光学薄膜的研究与现状9-101.1.2 光学薄膜制备工艺的发展10-111.1.3 光学薄膜的应用11-121.2 薄膜的几种物理气相沉积制备方法12-161.2.1 真空蒸发13-141.2.2 溅射14-151.2.3 离子镀15-161.3 薄膜膜厚的均匀性及影响因素16-221.3.1 光学薄膜理论膜厚16-181.3.2 薄膜均匀性的影响因素18-221.4 本论文研究的背景、意义和内容22-24第2章 光学薄膜的制备及膜厚分布24-352.1 实验设备24-272.1.1 真空的获得25-262.1.2 电子束蒸发26-272.2 薄膜的制备27-282.2.1 膜料属性27-282.2.2 TiO2薄膜的制备工艺282.3 几种常用夹具下的膜厚分布28-332.3.1 平面转动夹具29-302.3.2 球面转动夹具30-312.3.3 行星夹具31-332.4 薄膜光学常数的计算33-35第3章 薄膜理论膜厚分布及实验验证35-393.1 球面夹具下的理论分析35-363.2 实验验证36-383.3 结果分析38-39第4章 修正档板设计39-444.1 引言394.2 论设计39-424.3 实验验证42-44第5章 全文总结44-45参考文献45-49致谢49
