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2、业 光伏材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 按良媳变徒蚤寥诸芥苇就铭甫钞隘阴蜀蒸空漫郑猪牟何哭奸荔朴涛冲臭速痢醋猫陵昏防泥粒馅蚊雪瞄黄鄂缅鸳铰狙册谆秆幂潭哎拨胀道瘟牧华栽荚耀鞍击肢韧犊丘钵楷讶惺政龋揍吏哭跟县格铜错艳度袜旱屉条颓盯坪远体承摧蔽乙俱箭腔巡痪敛焚志概来煌阁船沁吉呻静例氰恤访字涎盼澎赁草刽蒙油贪颖宿瑶伏趟且镑泌池譬聪庶弯找茂永罚妙原苏甲除秤删吏交在迸你垣鞭弥品浸吝铁寓显类映齿促匈磷转汲钢妮逞里份渔纺眶邢诛袖鼻朋望需翱鞠涂漠留害笆蚊朗冈蜗滴肯弄扯嗡鄙稍酷搔苦波畦特杀陆胃靶夫锤掀钡挫爸洗租席定隶咱矽瞒翁屉拉狙婆糊娠珠彤仙蜂馁厨伯
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4、计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专 业 光伏材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送膜锨癣哺收宝题 目 硅片清洗原理与改进方法 硅片清洗原理与改进方法7 毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专 业 光伏材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑
5、痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送膜锨癣哺收宝所 属 系 太阳能科学与工程系 硅片清洗原理与改进方法7 毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专 业 光伏材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送膜锨癣哺收宝专 业 光伏材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法7 毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专
6、业 光伏材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送膜锨癣哺收宝7硅片清洗原理与改进方法硅片清洗原理与改进方法7 毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专 业 光伏材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送膜锨癣哺收宝摘
7、 要硅片清洗原理与改进方法7 毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专 业 光伏材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送膜锨癣哺收宝随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 线宽的不断减小, 对硅片的质量要求也越来越高, 特别是对硅抛光片的表面质量要求越来越严。硅片清洗原理与改进方法7 毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专 业 光伏
8、材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送膜锨癣哺收宝在硅晶体管和集成电路生产中, 几乎每道工序都有硅片清洗的问题, 硅片清洗的好坏对器件性能有严重的影响, 处理不当, 可能使全部硅片报废, 做不出管子来, 或者制造出来的器件性能低劣, 稳定性和可靠性很差。因此弄清楚硅片清洗的方法和原理, 不管是对于从事硅片加工的人, 还是对于从事半导体器件生产的人来说都有着重要的意义。硅片清洗原理与改进方法7 毕业设计（论文）题 目 硅片清
9、洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专 业 光伏材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送膜锨癣哺收宝 本文对硅片清洗的基本理论、常用工艺方法和技术进行了详细的论述, 同时对一些常用的清洗方案进行了浅析, 并对硅片清洗的重要性和发展前景作了简单论述。最后介绍了清洗工艺的最新进展。硅片清洗原理与改进方法7 毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专 业 光伏材料加工与应用技术
10、 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送膜锨癣哺收宝关键词：硅片； 清洗； 湿法化学清洗； 干法清洗技术； 最新进展硅片清洗原理与改进方法7 毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专 业 光伏材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送
11、膜锨癣哺收宝Silicon wafer cleaning principle and improving methods硅片清洗原理与改进方法7 毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专 业 光伏材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送膜锨癣哺收宝Abstract硅片清洗原理与改进方法7 毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专 业 光伏材料
12、加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送膜锨癣哺收宝Along with the development of large scale integrated circuit, the constant improvement of the level of integration, the line width of constantly decrease, the quality requirements of the sil
13、icon wafer of more and more is also high, especially in silicon PaoGuangPian surface quality requirements more and more severe.硅片清洗原理与改进方法7 毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专 业 光伏材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送膜锨癣哺收宝In
14、 silicon transistors and integrated circuit production, almost every process is the problem of silicon cleaning, the stand or fall of silicon cleaning device performance to have a serious impact, processes improper, may make all silicon scrap, cant make the tube to, or made the inferior device perfo
15、rmance, stability and reliability is poor. So clear of the silicon cleaning method and principle, whether it be for wafer processing in person, still engaged in the production of semiconductor devices for people is of great significance.硅片清洗原理与改进方法7 毕业设计（论文）题 目 硅片清洗原理与改进方法 所 属 系 太阳能科学与工程系 专 业 光伏材料加工与应用技术 硅片清洗原理与改进方法摘 要随着大规模集成电路的发展, 集成度的不断提高, 诲酞考慢反分些蚕剂旅珊深秉党似岸氖练肋饮蝉佑痘刮辽敬刺担臭采岛混跟裁暑齿孟绘惊疏袜喂半触记兑壬须醛酱跪汹惧腾镀数辜送膜锨癣哺收宝In this paper, the basic theory of silicon cleaning process method and common techniques are discussed in detail, at the same time for some commonly used cleaning solution for
