电子科技大学微电子器件习题

上传人:pu****.1 文档编号:507579696 上传时间:2023-04-04 格式:DOC 页数:16 大小:77.50KB
返回 下载 相关 举报
电子科技大学微电子器件习题_第1页
第1页 / 共16页
电子科技大学微电子器件习题_第2页
第2页 / 共16页
电子科技大学微电子器件习题_第3页
第3页 / 共16页
电子科技大学微电子器件习题_第4页
第4页 / 共16页
电子科技大学微电子器件习题_第5页
第5页 / 共16页
点击查看更多>>
资源描述

《电子科技大学微电子器件习题》由会员分享,可在线阅读,更多相关《电子科技大学微电子器件习题(16页珍藏版)》请在金锄头文库上搜索。

1、第二章 PN结填空题1、若某突变P结的型区的掺杂浓度为A.1016c-3,则室温下该区的平衡多子浓度pp与平衡少子浓度np0分别为( )和( )。2、在PN结的空间电荷区中,P区一侧带( )电荷,N区一侧带( )电荷。内建电场的方向是从( )区指向( )区。3、当采用耗尽近似时,型耗尽区中的泊松方程为( )。由此方程可以看出,掺杂浓度越高,则内建电场的斜率越( )。4、N结的掺杂浓度越高,则势垒区的长度就越( ),内建电场的最大值就越( ),内建电势bi就越( ),反向饱和电流I就越( ),势垒电容CT就越( ),雪崩击穿电压就越( )。5、硅突变结内建电势Vb可表为( ),在室温下的典型值为

2、( )伏特。6、当对PN结外加正向电压时,其势垒区宽度会( ),势垒区的势垒高度会( )。7、当对PN结外加反向电压时,其势垒区宽度会( ),势垒区的势垒高度会( )。8、在P型中性区与耗尽区的边界上,少子浓度p与外加电压V之间的关系可表达为( )。若P型区的掺杂浓度N=1.511m-3,外加电压V= 0.52V,则P型区与耗尽区边界上的少子浓度np为( )。、当对PN结外加正向电压时,中性区与耗尽区边界上的少子浓度比该处的平衡少子浓度( );当对PN结外加反向电压时,中性区与耗尽区边界上的少子浓度比该处的平衡少子浓度( )。10、PN结的正向电流由( )电流、( )电流和( )电流三部分所构

3、成。11、PN结的正向电流很大,是由于正向电流的电荷来源是( );P结的反向电流很小,是由于反向电流的电荷来源是( )。2、当对PN结外加正向电压时,由区注入P区的非平衡电子一边向前扩散,一边( )。每通过一种扩散长度的距离,非平衡电子浓度降到本来的( )。13、PN结扩散电流的体现式为( )。这个体现式在正向电压下可简化为( ),在反向电压下可简化为( )。4、在P结的正向电流中,当电压较低时,以( )电流为主;当电压较高时,以( )电流为主。15、薄基区二极管是指N结的某一种或两个中性区的长度不不小于( )。在薄基区二极管中,少子浓度的分布近似为( )。16、小注入条件是指注入某区边界附近

4、的( )浓度远不不小于该区的( )浓度,因此该区总的多子浓度中的( )多子浓度可以忽视。、大注入条件是指注入某区边界附近的( )浓度远不小于该区的( )浓度,因此该区总的多子浓度中的( )多子浓度可以忽视。18、势垒电容反映的是PN结的( )电荷随外加电压的变化率。P结的掺杂浓度越高,则势垒电容就越( );外加反向电压越高,则势垒电容就越( )。19、扩散电容反映的是PN结的( )电荷随外加电压的变化率。正向电流越大,则扩散电容就越( );少子寿命越长,则扩散电容就越( )。2、在PN结开关管中,在外加电压从正向变为反向后的一段时间内,会浮现一种较大的反向电流。引起这个电流的因素是存储在( )

5、区中的( )电荷。这个电荷的消失途径有两条,即( )和( )。、从器件自身的角度,提高开关管的开关速度的重要措施是( )和( )。22、P结的击穿有三种机理,它们分别是( )、( )和( )。、PN结的掺杂浓度越高,雪崩击穿电压就越( );结深越浅,雪崩击穿电压就越()。4、雪崩击穿和齐纳击穿的条件分别是( )和( )。问答与计算题、简要论述N结空间电荷区的形成过程。2、什么叫耗尽近似?什么叫中性近似?3、什么叫突变结?什么叫单边突变结?什么叫线性缓变结?分别画出上述多种P结的杂质浓度分布图、内建电场分布图和外加正向电压及反向电压时的少子浓度分布图。4、PN结势垒区的宽度与哪些因素有关?5、写

6、出结反向饱和电流0的体现式,并对影响0的多种因素进行讨论。、PN结的正向电流由正向扩散电流和势垒区复合电流构成。试分别阐明这两种电流随外加正向电压的增长而变化的规律。当正向电压较小时以什么电流为主?当正向电压较大时以什么电流为主?7、什么是小注入条件?什么是大注入条件?写出小注入条件和大注入条件下的结定律,并讨论两种状况下中性区边界上载流子浓度随外加电压的变化规律。8、在工程实际中,一般采用什么措施来计算N结的雪崩击穿电压?、简要论述PN结势垒电容和扩散电容的形成机理及特点。10、当把PN结作为开关使用时,在直流特性和瞬态特性这两方面,PN结与抱负开关相比有哪些差距?引起PN结反向恢复过程的重

7、要因素是什么?1、某突变N结的ND15115cm-3, NA1.10m-3,试求n0, p0,p0和np0的值,并求当外加0.5正向电压和(-0.V)反向电压时的np(xp)和pn()的值。12、某突变PN结的N=1.5101m-3, N11018c-3,计算该P结的内建电势bi之值。1、有一种P沟道MOF的衬底掺杂浓度为ND=1.5105m-3,另一种N沟道ST的衬底掺杂浓度为N1.5101c-。试分别求这两个MOSFET的衬底费米势,并将这两个衬底费米势之和与上题的Vi相比较。14、某突变PN结的ND=1115m3,=11018cm,试问Jdp是n的多少倍?5、已知某P结的反向饱和电流为I

8、o =1 -12A,试分别求当外加0.5V正向电压和(05V)反向电压时的N结扩散电流。6、已知某P结的反向饱和电流为Io =0 -1,若以当正向电流达到10 -2A作为正向导通的开始,试求正向导通电压V之值。若此PN结存在寄生串联电阻Rcs=4,则在同样的测试条件下VF将变为多少?7、某硅单边突变结的雪崩击穿临界电场 EC=3.515Vcm-1,开始发生雪崩击穿时的耗尽区宽度xdB 857,求该PN结的雪崩击穿电压B。若对该PN结外加|V|0.25B的反向电压,则其耗尽区宽度为多少?1、如果设单边突变结的雪崩击穿临界电场C与杂质浓度无关,则为了使雪崩击穿电压VB提高1倍,发生雪崩击穿时的耗尽

9、区宽度xd应为本来的多少倍?低掺杂区的杂质浓度应为本来的多少倍?9、某突变P结的bi= 0.7V,当外加-43V的反向电压时测得其势垒电容为8pF,则当外加9.3V的反向电压时其势垒电容应为多少?2、某突变结的内建电势Vbi = 0.7V,当外加电压V= 0.3V时的势垒电容与扩散电容分别是2和210-4pF,试求当外加电压= 0V时的势垒电容与扩散电容分别是多少?21、某硅突变结的A= 116cm-3,nD= 5106cm-,试计算平衡状态下的(1) 内建电势Vi;(2) P区耗尽区宽度x、区耗尽区宽度及总的耗尽区宽度xD;(3) 最大电场强度max。2、某单边突变结在平衡状态时的势垒区宽度

10、为D0,试求外加反向电压应为内建电势Vbi的多少倍时,才干使势垒区宽度分别达到2xd0和xd0。2、一块同一导电类型的半导体,当掺杂浓度不均匀时,也会存在内建电场和内建电势。设一块N型硅的两个相邻区域的施主杂质浓度分别为D1和nD2,试推导出这两个区域之间的内建电势公式。如果D1 120-3,nD2= 11016m-,则室温下内建电势为多少?24、试推导出杂质浓度为指数分布=N0ex(-x)的中性区的内建电场体现式。若某具有这种杂质浓度分布的硅的表面杂质浓度为1018cm3,=.m,试求其内建电场的大小。再将此电场与某突变N结的耗尽区中最大电场作比较,该突变PN结的n= 108cm-,nD=

11、15cm3。25、图P2-1所示为硅PIN结的杂质浓度分布图,符号I代表本征区。(1)试推导出该PIN结的内建电场体现式和各耗尽区长度的体现式,并画出内建电场分布图。(2) 将此PN结的最大电场与不涉及I区的P结的最大电场进行比较。设后者的P区与N区的掺杂浓度分别与前者的P区与N区的相似。图2-1图P2-26、某硅中的杂质浓度分布如图P-2所示,施主杂质和受主杂质的浓度分别为D(x)=16x(-/ 210 -4)m3和A()= A(0)e(-x/10 )c-3(1)如果要使结深x= 1m,则受主杂质的表面浓度A(0)应为多少?()试计算结深处的杂质浓度梯度的值。(3)若将此PN结近似为线性缓变

12、结,设V=0.V,试计算平衡时的耗尽区最大电场ax,并画出内建电场分布图。2、试证明在一种P区电导率远不小于N区电导率n的PN结中,当外加正向电压时空穴电流远不小于电子电流。28、已知nI2= Vexp(-eG/T) =Ck3ex(-eGT),式中C、nV分别代表导带底、价带顶的有效状态密度,eG代表绝对零度下的禁带宽度。低温时反向饱和电流以势垒区产生电流为主。试求反向饱和电流I0与温度的关系,并求I0随温度的相对变化率(dI0/dT)/I0,同步画出电压一定期的I0 T曲线。29、某P+N-N+结的雪崩击穿临界电场为32V/m,当N区的长度足够长时,击穿电压VB为144。试求当N区的长度缩短

13、为3时的击穿电压为多少?3、已知某硅单边突变结的内建电势为0.6,当外加反向电压为30V时测得势垒电容为10pF,试计算当外加0.2正向电压时的势垒电容。3、某结面积为10 -5m2的硅单边突变结,当(VbiV)为1.V时测得其结电容为1.pF,试计算该PN结低掺杂一侧的杂质浓度为多少?2、某结当正向电流为10mA时,室温下的小信号电导与小信号电阻各为多少?当温度为 00C时它们的值又为多少?3、某单边突变P+结的N区杂质浓度n= 11cm-3,N区少子扩散长度Lp=1m,结面积A0.01c2,外加06V的正向电压。试计算当N区厚度分别为0m和m时存储在N区中的非平衡少子的数目。第三章 双极结型晶体管填空题1、晶体管的基区输运系数是指( )电流与( )电流之比。由于少子在渡越基区的过程中会发生( ),从而使基区输运系数( )。为了提高基区输运系数,应当使基区宽度( )基区少子扩散长度。2、晶体管中的少子在渡越( )的过程中会发生( ),从而使达到集电结的少子比从发射结注入基区的少子( )。3、晶体管的注入效率是指( )电流与( )

展开阅读全文
相关资源
相关搜索

当前位置:首页 > 办公文档 > 活动策划

电脑版 |金锄头文库版权所有
经营许可证:蜀ICP备13022795号 | 川公网安备 51140202000112号