旋流电解简述

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1、旋流电解概述旋流电解起源于20世纪80年代意大利狄若拉集团创立的艾妙电解技术,后 几经发展改进,目前已经进入产业化阶段的有澳大利亚Electrometals研发的 EMEW技术。旋流电解作为一种国际领先的新型电解技术,是基于各金属离子 理论析出电位(E0)的差异,即欲被提取的金属只要与溶液体系中其他金属离 子有较大的电位差,则电位较正的金属易于在阴极优先析出。旋流电解技术的关 键是通过高速溶液流动来消除浓差极化等对电解的不利因素,避免了在传统电解 过程受多种因素(离子浓度、析出电位、浓差极化、超电位、pH值等)影响的 限制。目前国内关于旋流电解的研究大多是国外成套设备及技术引进,自主设备 的开

2、发较少,旋流电解还没有系统的成型的理论可依。电极反应时伴有电极/溶液界面上电荷传递步骤的多相化学过程,电极 表面反应与电极/溶液界面附近电流分布和活性离子浓度分布密切相关,对于射 流态电积筒而言,阴极表面金属析出反应主要受电极表面电化学极化(活化极化) 和浓差极化的影响。当溶液中活性离子浓度一定时,电流密度较低,远小于极限 扩散电流密度时,电极/溶液界面过电位低,阴极电位越正,阴极反应的活化自 由能越大,电极反应主要受电极/溶液界面电荷转移速率的控制;随着电流密度 的增大,电极/溶液界面过电位增大,阴极电位负移。阴极反应的活化自由能降 低,电极/溶液界面电荷转移速率加快,电极过程受界面传质和传荷速率的共同 作用;外加电流密度继续增加,与极限扩散电流密度相当时,电极过程主要受电 极表面浓差极化因素的影响。

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