UV-LIGA技术标准工艺

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1、UV-LIGA技术标准工艺上海交通大学微纳米科学技术研究院UV-LIGA技术采用基于SU8光刻胶的厚胶紫外光刻工艺,大大降低了LIGA技术的加工成本,缩短了加工周期,并且可以制备台阶微结构,但其技术指标低于同步辐射LIGA技术,适用于加工深度小于500m,线宽大于5m,深宽比小于20的微结构。一、 设备情况溅射机: 德国Laybold-Heraus公司 Z-550可进行直流、交流溅射,靶材有Cu、Cr、Fe-Ni、Ti、Au等本底真空:2*10-6 mbar,射频最大功率:2.5 kW,直流最大功率:1 kW,沉积速率:20-60nm/分钟容量:3英寸硅片13片厚胶甩胶台:德国Karl Sus

2、s公司RC8可进行厚光刻胶的制备,具有程控功能可用最大工作尺寸:3,最大转速: 5000rpm时间范围: 0999s双面光刻机:德国Karl Suss公司 MA6 可进行正面和反面对准曝光,最小线宽:2m,对准精度:1m精密铣切机:德国Leica公司 SP2600可进行光刻胶表面的铣切;最小进刀步长:1m兆声显影机:德国Megasonic公司 可实现高深宽比阴图形微结构的显影频率:1M Hz反应离子刻蚀机:法国Alcatel 公司Nextral 100可实现硅、氧化硅、PMMA、玻璃等材料的刻蚀,用于制备深刻蚀掩膜和电铸前的活化;刻蚀速率:50nm/min可选用SF6、CHF3、O2等作为刻蚀

3、气体微结构模具电铸系统:自制 可实现铜和镍的电铸;镀速: 0.02-0.05mm/hr流量: 0.52l/ min 搅拌,速率: 20100次/min电铸温度: RT70,温度控制精度:0.10 真空热压机:德国JENOPTIK 公司 HEX01/C可进行热塑性塑料微结构的批量加工,其特色是在模压过程中可抽真空;最大压力 20kN,最高热压温度 210测量显微镜:日本OLYMPUS公司 STM-MJS2可进行微结构形貌观察和三维长度测试;测量精度: 1m表面轮廓仪:美国Veeco公司 Dektak 6M可进行微结构表面轮廓和结构厚度的测试;垂直测量距离:1 mm, 精度:0.1 nm/6.5m

4、, 1 nm/65m, 16nm/1mm扫描长度:50m30mm扫描电镜:日本Hitachi公司SP2600可进行微结构形貌观察和拍照;最大加速电压:25kV,最大放大倍数:20万倍,分辨率5nm附带ADDA,数模转换器,模拟信号可转化为数字信号进行处理 二、 工艺流程1. 紫外厚胶光刻工艺1) 对硅片或玻璃片(厚度大于1mm)进行清洗,并在180烘4个小时以上以去除表面水分子;2) 硅片一面溅射2m左右厚的金属钛薄膜并进行湿法氧化发黑处理;3) 再次对其进行清洗并180烘4个小时以上;4) 利用厚胶甩胶机在基片表面旋涂所需要厚度的SU-8胶;5) 利用程控烘箱或者热板对SU-8胶进行前烘处理

5、。6) 用精密铣床切除由于边珠效应(edge bead effect)造成的边缘较厚的部分,获得相对平整的SU-8胶平面和所需的厚度;7) 利用光学掩模,在SUSS MA6紫外光刻机上进行接触式曝光;8) 对曝光后的SU-8胶进行后烘热处理,得到交联的SU-8胶结构;9) 显影,得到光刻胶图形,对高深宽比阴图形要使用兆声显影设备。表1:不同厚度SU8光刻工艺参数 厚度m光刻胶甩胶速率rpm前烘时间min曝光时间sec后烘时间min显影时间min6595659550SU-8 50190030206030108100SU-8 5012003030120301512200SU-8 100110030

6、90150303020500SU-8 100600303003503050302. 模具电铸工艺1) 微电铸镍:电解液类型:改良瓦特镍镀液体系镀液工作条件:温度:5060,PH值:4.5-5.0,镀速:0.15-0.4m/min厚度范围:602000m2) 微电铸铜镀液类型:高分散性酸性镀铜液体系, 镀液工作条件:室温,强酸环境,在强酸性环境中不稳定的材料不能直接作为基体材料使用。镀速:0.2-0.5m/min镀层厚度范围:301200m加工时间:按照镀层厚度从1天到10天不等3) 微电铸镍铁合金:电解液类型:硫酸盐型稀溶液 镀液工作条件:温度:5060,PH值:4.5-5.0,镀速:0.05

7、-0.2m/min厚度范围:40300m4) 样品后处理将玻璃片或硅片敲碎,剩余的硅片在80下用40%的KOH溶液去除,玻璃片用10%HF去除;用自己开发出的SU8TiSiSU-8去胶液去除SU8光刻胶,将金属模具的背面和边缘用砂轮磨平,线切割后获得金属微结构模具。3. 微复制工艺1) 将模具固定在真空热压机上,底部放上待模压的塑料片,如PMMA、PC、PS、PVC等;2) 关闭模腔并抽真空;3) 加接触力200N;4) 上下热板加热至所需温度并等待30秒;5) 在一定的速度下加压力并保持一定的时间;6) 降温至脱模温度;7) 在一定的速度下脱模;8) 模腔充气9) 打开模腔,取出塑料样品。模

8、压系统在模压时,是自动执行命令的,对应于上述工艺步骤的一段典型命令流如下:Initialize Force control true/false=0Close chamberEvacuate chamberTouch Force Force=200Heating Top=165.0deg, Bottom=165.0degTemperature=Temperature=155.0deg,Channel=3HeatingTop=160.0deg, Bottom=160.0degWaiting TimeTime=30.00sForce-Force controlledForce=1000N,velo

9、city=0.50000mm/minWaiting TimeTime=60.00sCoolingTop=60.00deg,Bottom=60.00degTemperature=Temperature=66.0deg,Channel=3Force-Force controlledForce=100N,velocity=0.50000mm/minWaiting TimeTime=30.00sVenting ChamberCoolingTop=40.00deg,Bottom=40.00degOpen chamberUnlock door表2: 模压工艺参数材料模压温度模压压力N模压时间sec脱模温度

10、PMMA16050006060PC200600050120PVC14040006060PS13050006060掩模板SU8TiSiSU8TiSi光刻电铸NiSU8TiSi微复制Ni塑料图1: UV-LIGA技术工艺路线 三、 结果1. 线宽变化 由于我们目前使用的光刻机含有gline、hline和iline,不是理想的单色iline,所以光刻工艺后造成光刻胶变宽,下表为我们目前得到的线宽变化与光刻胶厚度的关系。表3: 线宽变化与光刻胶厚度的关系光刻胶厚度 m线宽变化 m50110022005500102. 成品率对同样宽度的图形,圆柱的成品率要低于线条。表4:不同厚度SU8胶图形成品率厚度m圆 柱m线 条m100线宽5102051020成品率7.37010030100100200线宽102030102030成品率1.86095289198500线宽253040253040成品率0789650891003. 电镜照片图2:高度为85m的SU8光刻胶电镜照片,最小线宽3m图3:高度为200m的SU8光刻胶电镜照片图3:高度为520m的SU8光刻胶电镜照片图4:高度为500m的 图5:模压获得的高度为100m 金属镍电镜照片 的PMMA微结构电镜照片图6:SU8和金属双层微齿轮电镜照片,每层厚200m图7: 用UV-LIGA技术制备的金属镍微弹簧,厚度200m7

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