离子刻蚀系统和温度测试仪价格

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1、word离子刻蚀系统和温度测试仪价格标题:化学气相沉积炉和温度测试仪参数库号：JX163567 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：50MHz加热方式纯微波加热最大功率/KW3 (功率可调)最高工作温度/1200长期工作温度/1100温度测试元件微波场专用传感器/红外测温可选控温精度/2微波场专用传感器石英管尺寸(外径/内经X长度)/mm102/92x1000真空系统配置可选简单机械泵抽真空和不锈钢法兰；10-1Pa真空用高档机械泵与真空计；10-2Pa真空用高档机械泵、扩散泵与真空计；10-3Pa真空用高档机械泵、分子泵与真空计；升温速率(标配) 01000/min任意设定，可编程、分段

2、加热外型尺寸(长x宽x高)/mm10007501830微波泄漏量/&nb标题:离子刻蚀系统和微波等离子体化学气相沉积炉WBMW-DLZ3参数库号：JX163570 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：50MHz加热方式纯微波加热、传统电加热、混合加热最大功率/KW4 (功率可调)温度测试元件微波场专用传感器/红外测温可选控温精度/2微波场专用传感器加热管材质石英管高温合金管刚玉管加热温度/1200，可选配，最大外径?60mm加热速度最高200升温速率不限50恒温区长度标配恒温区长度10mm，恒温去长度10mm1000mm以上可选温区可多温区同时加热气路法兰不锈钢法兰质量流量控制 美国Ali

3、cat质量流量&控制器、 &n标题:涂膜机和离子束刻蚀系统IBE价格库号：JX163573 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：仪器简介：型号682精细刻蚀镀膜仪PECS 用于SEM、TEM和EM方面的精细刻蚀镀膜系统 PECS是一台理想的具有斜面切割，样品刻蚀和离子溅射镀膜功能的仪器，其刻蚀和溅射镀膜系统中独一无二的离子束能够形成镀膜X围大、干净以与可视的样品满足扫描电镜SEM，透射电镜TEM以与光学显微镜LM的需求。PECS中独一无二的设计结构使其成为非常通用的仪器，可选配型号682.40000的斜面切割工具，它是用于切割横截面局部的独特工具。技术参数：规格： 离子源 离子枪 三个潘宁

4、离子枪与微型稀土永磁体 离子束能量 1.0 KeV 到10.0 KeV 离子束直径 刻蚀枪 5mm FWHM；溅射枪 1mm FWHM 离子电流密度 峰 10mA/cm2 气体流量 氩气 0.1cc/分/枪 刻蚀X围 根据离子枪能量为7mm-10mm不等 刻蚀速率 10.0keV下，硅材料约10m/小时，钨材料约3m/小时 Airlock组装 样品载台 接纳1英寸31mm金相套和多种SEM短截线 样本旋转速率 可变速率10标题:镀金镀碳仪EMS150R和BandiT参数库号：JX163574 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：208HR高分辨离子溅射仪为场发射扫描电镜应用中遇到的各种样品

5、喷镀难题提供真正的解决方案。场发射扫描电镜观察时，样品需镀上极其薄、无细晶且均匀的膜层以消除电荷积累，并提上下密度材料的比照度。为了将细晶的尺寸减小到最小程度，208HR提供了一系列的镀膜材料，并对膜厚和溅射条件提供无可媲美的控制。208HR分子涡轮泵高真空系统提供宽X围的操作压力，可以对膜层的均匀性和一致性进展准确控制，并最大程度减小充电效应。高/低样品室的结构设计使靶材和样品之间的距离调节变得极为方便。MTM-20高分辨膜厚控制仪分辨率小于0.1nm，其作用是对所镀薄膜的厚度进展准确控制，它尤其适合场发射电镜对膜厚0.53nm的要求。 场发射扫描电镜镀膜推荐的靶材是：Pt/Pd：非导电样品

6、镀膜的通用镀膜材料Cr：优良的半导体样品的镀膜材料Ir：优良的真正无细晶的镀膜材料208HR系统为得到最优高分辨镀膜效果提供了多种配置选择，可配备标准的旋片泵或提供干净真空的无油涡旋式真空泵，标配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。一、主要特性  标题:镀碳仪器和全自动镀膜系统参数库号：JX163575 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：热阻式蒸镀系统介绍矽碁热阻式蒸发系统是专为实验室科学研究开发设计，系统灵活，高度可定制化，可实现共蒸镀等功能。系统根本规格腔体真空度可达10-7Torr基板旋转速度可调全自动镀膜，工业级操作软件可同时控制多组蒸镀源，实现共蒸镀制程电脑即时监控

7、系统运作状况真空度，基板温度，镀率，膜厚.可选项可选用turbo/cryo/diffusion泵浦最多可达9组蒸镀源传送机构Load-Lock System手套箱连接镀膜基板冷却镀膜基板加热最高800 应用X围有机与金属材料研究OLED显示器镀膜CIGS薄膜太阳能开发 标题:涂膜机和高真空热蒸发式小型镀膜机价格库号：JX163576 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：热蒸发镀膜NTE-3500M热蒸发系统概述：NANO-MASTER NTE-3500是一款PC计算机控制的台紧凑型立式热蒸发系统，在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。设备的设计经过非常慎重的考虑:在小的占地面积情况下实现干

8、净、均匀、可控与可重复的工艺过程。它们具有低价格, 高性能以与高能力的特点，可满足于客户研发与小规模生产的应用要求。 NTE-3500热蒸发系统可以在设定的RMS电流下，或者在闭环的配置下操作，并且在这种情况下沉积速度的变化被用于调节RMS电流以维持恒定的沉积速度。NTE-3000M蒸发系统是一个台式系统，跟我们的溅射系统共享一个共同的平台；比如：橱柜，腔体，真空系统，计算机控制架构等方面都是一样的。唯一的区别是一个使用磁控管，另一个使用加热坩埚. 因此，在我们溅射系统上的许多技术同样适用到我们的热蒸发系统中，比如：样品台的加热，旋转，偏斜；涂覆前的等离子清洗，膜厚监测，序列或同时操作多源；钟

9、罩、铝或不锈钢腔体；预真空锁以与自动装片/取片系统等。NTE-3500跟NSC-3500很像, 除了样片台是在顶部并且样片是面朝下固定。因为有许多的标题:热蒸发系统NTE-3500(M)和热蒸发镀膜机价格库号：JX163577 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： 150R S 紧凑型机械泵溅射仪，适合非氧化金属 150R E 紧凑型机械泵镀碳仪 150R ES 集成了离子溅射和碳蒸镀两种沉积功能的紧凑型机械泵镀膜仪 主要特点: 金属溅射或碳蒸发一体化设计，节省空间 适合FE-SEM制样的精细镀膜和薄膜应用 涡轮分子泵高真空系统，适合不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材 全自动触摸屏控制，快速

10、数据输入，操作简单 可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室十分理想 预编程自动真空控制 使用膜厚监控选件准确控制膜厚 智能系统识别，自动感知用户所插入镀膜头的类型 高真空碳蒸镀，对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想 先进的碳棒蒸镀枪设计和电流控制技术，操作简单，重现性好 Drop-in式快速换样品台标配旋转台 真空闭锁功能，让工作腔室在待机使用时亦处于真空状态 不破坏真空条件下的溅射时间可长达60分钟，适合材料科研应用 人体工程学设计，整体成型机壳，维护、拆装容易 技术参数: 工作腔室：165mm外径 x 127mm高标题:热阻式蒸发镀膜系统RTES和BandiT价格库号：JX163578

11、 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：矽碁电子束蒸发系统简介矽碁电子束蒸发系统是专为实验室科学研究开发设计，系统灵活，高度可定制化，可实现共蒸镀等功能。系统根本规格腔体真空度可达10-7Torr基板旋转速度可调全自动镀膜，工业级操作软件可实现共蒸镀制程电脑即时监控系统运作状况真空度，基板温度，镀率，膜厚.可选项可选用turbo/cryo/diffusion泵浦坩埚选择1/2/4/6传送机构Load-Lock System手套箱连接镀膜基板冷却镀膜基板加热最高800可结合其他制程设备以达到双腔、Cluster枚叶式或In-line连续式制程需求应用X围LIFT-OFF制程应用光电组件发光/镭

12、射二极管通讯组件半导体组件标题:微波等离子体化学气相沉积炉WBMW-DLZ3和电子束蒸发镀膜EBES价格库号：JX163579 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等外表涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。 主要特点 1、真空吸附方式固定样件，操作简便。2、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置，以减少偏心而造成的震动或飞片。3、根据样件规格可以配用不同的吸盘，且更换方便简单。4、设有12组程序，每组包含6个运行阶段。5、电机启动快速稳定，可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。技术参数 1、电机功率：50W/24V

13、2、速度X围：500-10000rpm3、程序运行：可储存12组程序，每组程序包含6个运行阶段4、增减速率设置X围：100rpm/s-2000rpm/s5、时间X围：0-60s6、吸盘：19mm、60mm 7、本机可选配加热功能1加温X围：室温1502加热盖，水槽与吸盘采用耐高温材质聚四氟3温度单独控制，与主机程序控制无关联产品规格尺寸：450mm280mm340mm重量：20kg标准配件 1、真空吸盘含O型圈2、标题:快速磁控溅射仪和膜电子束蒸发系统价格库号：JX163580 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数：矽碁磁控溅射系统介绍矽碁磁控溅射系统是专为实验室科学研究开发的镀膜系统，设备具备优良的稳定性、镀膜均匀性和可重复性，同时高度可定制化，满足各类实验需求。系统根本规格：腔体真空度可达10-7Torr超高真空腔体可达10-9Torr多磁控溅镀靶设计，最大可装5只溅镀枪可选用RF、DC或是Pulse DC电源供给器全自动镀膜系统，工业级操作软件基板尺寸可定制基板可实现加热最高800与旋转旋转速度可调镀膜均匀性5%可调整溅镀枪角度与距离可选项可选超高真空传送机构Load-Lock system可选用turbo/Cryo/diffusion泵浦可增加离子源实现基板清洗可加装根本偏压RF/DC辅助镀膜应用X围金属氧化物制备薄膜制程研究薄膜太阳能开发材料研究 /