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1、1、在硅和锗的能带结构中,在布里渊中心存在两个极大值重合的价带,外面的能带(B ,对应的有效质量( C ) ,称该能带中的空穴为( E )。A. 曲率大; B. 曲率小; C. 大;D. 小; E. 重空穴;F. 轻空穴2、如果杂质既有施主的作用又有受主的作用,则这种杂质称为( F ) 。 A. 施主 B. 受主 C.复合中心 D.陷阱 F. 两性杂质3、在通常情况下,GaN 呈(A)型结构,具有(C) ,它是(F)半导体材料。A. 纤锌矿型; B. 闪锌矿型; C. 六方对称性;D. 立方对称性;E.间接带隙; F. 直接带隙。4、 同一种施主杂质掺入甲、 乙两种半导体, 如果甲的相对介电常
2、数 r是乙的 3/4, mn*/m0值是乙的 2 倍,那么用类氢模型计算结果是( D ) 。A.甲的施主杂质电离能是乙的 8/3,弱束缚电子基态轨道半径为乙的 3/4B.甲的施主杂质电离能是乙的 3/2,弱束缚电子基态轨道半径为乙的 32/9C.甲的施主杂质电离能是乙的 16/3,弱束缚电子基态轨道半径为乙的 8/3D.甲的施主杂质电离能是乙的 32/9,弱束缚电子基态轨道半径为乙的 3/85、.一块半导体寿命 =15s,光照在材料中会产生非平衡载流子,光照突然停止 30s 后,其中非平衡载流子将衰减到原来的( C ) 。 A.1/4 ; B.1/e ; C.1/e2 ; D.1/26、 对于
3、同时存在一种施主杂质和一种受主杂质的均匀掺杂的非简并半导体, 在温度足够高、 ni /ND-NA/ 时,半导体具有 ( B ) 半导体的导电特性。 A. 非本征 B.本征 8、在纯的半导体硅中掺入硼,在一定的温度下,当掺入的浓度增加时,费米能级向( A )移动;当掺杂浓度一定时,温度从室温逐步增加,费米能级向( C )移动。A.Ev ; B.Ec ; C.Ei; D. EF9、把磷化镓在氮气氛中退火,会有氮取代部分的磷,这会在磷化镓中出现( D ) 。A.改变禁带宽度 ; B.产生复合中心 ; C.产生空穴陷阱 ; D.产生等电子陷阱。10、对于大注入下的直接复合,非平衡载流子的寿命不再是个常
4、数,它与( C ) 。A.非平衡载流子浓度成正比 ; B.平衡载流子浓度成正比; C.非平衡载流子浓度成反比; D.平衡载流子浓度成反比。11、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B ) 。 A.变大,变小 ; B.变小,变大; C.变小,变小; D.变大,变大。12、如在半导体的禁带中有一个深杂质能级位于禁带中央,则它对电子的俘获率( B )空穴的俘获率,它是( D ) 。 A.大于 ; B.等于; C.小于; D.有效的复合中心; E. 有效陷阱。13、在磷掺杂浓度为 21016cm-3的硅衬底(功函数约为 4.
5、25eV)上要做出欧姆接触,下面四种金属最适合的是( A ) 。A. In (Wm=3.8eV) ; B. Cr (Wm=4.6eV); C. Au (Wm=4.8eV); D. Al (Wm=4.2eV)。14、在硅基 MOS 器件中,硅衬底和 SiO2界面处的固定电荷是( B ) ,它的存在使得半导体表面的能带( C )弯曲,在 C-V 曲线上造成平带电压( F )偏移。 A.钠离子 ; B.过剩的硅离子; C.向下; D.向上; E. 向正向电压方向; F. 向负向电压方向。二、简答题:(二、简答题:(5 5+4+6=15 分)+4+6=15 分)2、对于掺杂的元素半导体 Si、Ge 中
6、,一般情形下对载流子的主要散射机构是什么?写出其主要散射机构所决定的散射几率和温度的关系。 (4 分)答:对掺杂的元素半导体材料 Si、Ge,其主要的散射机构为长声学波散射(1 分)和电离杂质散射其散射几率和温度的关系为:声学波散射:,电离杂质散射:3/2spT3/2iipN T3、如金属和一 n 型半导体形成金属半导体接触,请简述在什么条件下,形成的哪两种不同电学特性的接触,说明半导体表面的能带情况,并画出对应的 I-V 曲线。 (忽略表面态的影响) (6 分)答:在金属和 n 型半导体接触时,如金属的功函数为 Wm, 半导体的功函数为 Ws。当 WmWs时,在半导体表面形成阻挡层接触,是个
7、高阻区,能带向上弯曲;(2 分)当 WmWs时,在半导体表面形成反阻挡层接触,是个高电导区,能带向下弯曲;(2 分)对应的 I-V 曲线分别为: 四、一束恒定光源照在 n 型硅单晶样品上,其平衡载流子浓度 n0=1014cm-3,且每微秒产生电子空穴为1013cm-3。如 n=p=2s,试求光照后少数载流子浓度。 (已知本征载流子浓度 ni=9.65109cm-3)(5 分)解:在光照前:光照后:0201356133622109.31 102 102 101 10pipppGnGncm 分分五、在一个均匀的 n 型半导体的表面的一点注入少数载流子空穴。在样品上施加一个 50V/cm 的电场,在
8、电场力的作用下这些少数载流子在 100s 的时间内移动了 1cm,求少数载流子的漂移速率、迁移率和扩散系数。 (kT=0.026eV)(6 分)解:在电场下少子的漂移速率为:4110/100cmvcm ss迁移率为:4210/50vcmV sE 扩散系数为: 220.026 200/5.2/pkTDcmscmsq六、掺杂浓度为 ND=1016cm-3的 n 型单晶硅材料和金属 Au 接触,忽略表面态的影响,已知:WAu=5.20eV, n=4.0eV, Nc=1019cm-3,ln103=6.9 在室温下 kT=0.026eV, 半导体介电常数 r=12, 0=8.85410-12 F/m,q
9、=1.610-19 库,试计算:(4+4+4=12 分) 半导体的功函数;(4 分) 在零偏压时,半导体表面的势垒高度,并说明是哪种形式的金半接触,半导体表面能带的状态; 半导体表面的势垒宽度。 (4 分)解:由得: (1 分)0exp()FDEcENnNckT (1 分)1916010ln0.026ln.184.0181()FDsFNcEcEkTeVNWsEcEeV 在零偏压下,半导体表面的势垒高度为:5.204.181.02DqVWm WseV对 n 型半导体,因为 WmWs,所以此时的金半接触是阻挡层(或整流)接触(1 分) ,半导体表面能带向上弯曲(或:直接用能带图正确表示出能带弯曲情
10、况) (1 分) 。 势垒的宽度为: 1/20141/21916512()2 12 8.85 10()1.6 10103.7 10 ().02rDDVdqNcm 1.导体、半导体、绝缘体的划分:1.导体、半导体、绝缘体的划分:导体内部存在部分充满的能带,在电场作用下形成电流; 绝缘体内部不存在部分充满的能带,在电场作用下无电流产生; 半导体的价带是完全充满的,但与之上面靠近的能带间的能隙很小,电子易被激发到上面的能带,使这两个能带都变成部分充满,使固体导电。2.电子的有效质量是,空穴的有效质量是;2.电子的有效质量是,空穴的有效质量是;*nm*pm,电量等值反号,波矢与电子相同*npmmk能带
11、底电子的有效质量是正值,能带顶电子的有效质量是负值。能带底空穴的有效质量是负值,能带顶空穴的有效质量是正值。能带底电子的有效质量是正值,能带顶电子的有效质量是负值。能带底空穴的有效质量是负值,能带顶空穴的有效质量是正值。3.半导体中电子所受的外力的计算。3.半导体中电子所受的外力的计算。dtdkhf4.引进有效质量的意义:4.引进有效质量的意义:概括了半导体内部势场的作用,使得在解决半导体中电子在外力作用下的运动规律时,可以不涉及半导体内部势场的作用。1.施主能级:被施主杂质束缚的电子的能量状态称为施主能级E1.施主能级:被施主杂质束缚的电子的能量状态称为施主能级ED D;施主能级很接近于导带
12、底;施主能级很接近于导带底; 受主能级:被受主杂质束缚的空穴的能量状态称为受主能级E 受主能级:被受主杂质束缚的空穴的能量状态称为受主能级EA A;受主能级很接近于价带顶。;受主能级很接近于价带顶。 施主能级图 受主能级图2.浅能级杂质:2.浅能级杂质:杂质的电离能远小于本征半导体禁带宽度的杂质,电离后向相应的能带提供电子或空穴。 深能级杂质: 深能级杂质:能级位于禁带中央位置附近,距离相应允带差值较大。 深能级杂质起复合中心、陷阱作用;浅能级杂质起施主、受主作用。深能级杂质起复合中心、陷阱作用;浅能级杂质起施主、受主作用。3.杂质的补偿作用:3.杂质的补偿作用:半导体中同时含有施主和受主杂质
13、,施主和受主先相互抵消,剩余的杂质发生电离。1.费米分布函数(简并半导体)1.费米分布函数(简并半导体)(本征);(杂质);玻尔兹曼分布函数(非简并半导体)玻尔兹曼分布函数(非简并半导体) TkEEEfF0exp11)(TkEEEfF0exp2111)(;TkEAEfB0exp)(2.费米能级 :2.费米能级 :; 系统处于热平衡状态,也不对外界做功的情况下,系统中增加一个电子所引起系统自由能的变化,TFNFE等于系统的化学势,也就是等于系统的费米能级。 费米能级的位置 :费米能级的位置 : 本征半导体的费米能级位于本征能级(禁带宽度的一半)上,根据杂质离子的不同,费米能级的位置有所不同;4.
14、n型杂质半导体在低温弱电离区的费米能级的推导:4.n型杂质半导体在低温弱电离区的费米能级的推导:低温下,导带中的电子全部由电离施主杂cDDcFNNTkEEE2ln220质提供,此时p0=0,故电中性条件:Dnn0; TkEENTkEENFDDFcc00exp21exp由得:,因此:DDNn 1exp0TkEEFD;TkEENTkEENFDDFcc00exp21exp取对数并化简得:;cDDcFNNTkEEE2ln220它与温度、杂质浓度以及掺入何种杂质原子有关。在低温极限T0K时,;故;即在低温即在低温0lnlim0TTKT2lim0DcFKTEEE极限T0K时,费米能级位于导带底和施主能级间
15、的中线处。极限T0K时,费米能级位于导带底和施主能级间的中线处。1.载流子散射的概念:1.载流子散射的概念:所谓自由载流子,实际上只在两次散射之间才真正是自由运动的,其连续两次散射间自由运动的平均路程称为平均自由程,而平均时间称为平均自由时间。所谓自由载流子,实际上只在两次散射之间才真正是自由运动的,其连续两次散射间自由运动的平均路程称为平均自由程,而平均时间称为平均自由时间。2.半导体的主要散射机构:2.半导体的主要散射机构: 电离杂质的散射;晶格振动的散射:声学波散射;光学波散射;其他因素引起的:等同的能谷间散射;中性杂质散射;位错散射;合金散射;3.平均自由时间与散射概率之间关系式的推导
16、:3.平均自由时间与散射概率之间关系式的推导:00011PtdtPeNNPt 设有N个电子以速度v沿某方向运动,N(t)表示在t时刻尚未遭到散射的电子数,按散射概率的定义,在t到(t+t)时间内被散射的电子数为;tPtN )( tPtNttNtN)()()( ; 解微分方程:;)()()(lim)(0tNPttNttNdttdNttPeNtN0)( 其中N0是t=0 时未遭散射的电子数; t到(t+t)时间内被散射的电子数为;dtePNtP0 平均自由时间;等于散射概率的倒数。PtdtePNNtP110002.非平衡载流子的寿命的推导:2.非平衡载流子的寿命的推导:0000)()(dtedttetpdtptdttt 假定一束光在一块 n 型半导体内部均匀地产生非平衡载流子和,在 t=0 时,光照突然停止,的变化应等于非npp平衡载流子的复合率:;)()(tpdttpd小注入时,是一恒量,与无关,上述微分方程的通解为:;)(tptCetp)(当 t=0 时,得,则;0)()0(pp0)( pCteptp0)()( 非平衡载流子的复合率:非平衡载流子的复合率:通常把单位时间单位体积内净复合