光刻仪技术参数一、技术参数1. 光刻机系统组件必须包括以下部分A. 主机B. 对准平台C. 正面对准系统D. 曝光系统E. 光学系统F. 配套基片夹具以及掩膜版夹具G. 日常光强维护工具套装H. 原装进口防震台2. 曝光系统必须包括以下部分A. 200W、350W、500W 汞灯电源B. 200W、350W、500W 汞灯C. 恒光强、恒功率控制；功率及光强可调3. 光学系统必须包含以下部分A. UV250, UV300, UV400微光学系统，紫外光波长：350nm〜450nm ★B.标准配置大间距和精细曝光组件，两种应用之间切换所需时间 小于5分钟可根据用户要求定制特殊光学系统C.光强：40mw/cm2 （全波长）★D. 光强均匀性：W±2. 5% （100mm基片）E. 曝光头面积：115mni,以保证100mm有效范围内光强及其均匀4. 对准系统A, 对准方式：手动对准B. 对准类型：单面★C,显微镜配置：正面双视场光学CCD显微镜，支持目镜以及显示屏对准，配置5倍, 10倍，20倍标准物镜★D.对准精度：正面W ±0. 5pmE. 手动装卸掩模版和基片，并在夹具上可作机械预对准F. 基片找平方式：手动找平G. 对准台对准平台移动范围： X, Y = ± 5mm； 0= ±5°对准平台移动精度： X, Y： 0. lum； 0= ±4e-5°H. 接近式曝光间距设定范围：10 -50um,距设定精度：lum Step★5.配套基片夹具以及掩膜版夹具包括以下部分A. 5mmX5mni 至 1 OmmX 1 Omm 小片夹具，1 OmmX 1 Omm 至 20minX20mm 小片夹 具，2寸和4寸基片夹具各1个，都支持真空接触式曝光B. 掩模版架，2寸开孔（可放置3寸飞寸版），4寸开孔（可放置5 寸版）各1个6. 日常光强维护工具A, 光强计主机B. 365nm/405nm 探头C. 护目镜D. 光强测试位置仪7. 图形工艺效果要求A. 曝光类型：接触式包括软接触、硬接触、真空接触、接近式曝光B. 精度要求：真空接触曝光精度^0. 8pm；硬接触精度Wliim；软 接触精度W 2pm；接近式曝光精度W 3pm （1pm光刻胶条件下） ★为保证服务质量，如采用进口产品竞标，竞标时必须提供生产厂家 或国内代理商出具的授权书或售后服务承诺书原件二、配置1. 光刻机主机2. 分离视场显微镜3. 图像识别系统4. 5倍物镜5. 10倍物镜6. 20倍物镜7. 汞灯适配器8. 汞灯电源9. 350W汞灯10. 微光学系统11. 光强传感器12. 5imnX5mm 至 lOmmXlOnun 小片夹具13. lOmmXlOmm 至 20mniX20mm 小片夹具14. 2寸夹具15.4寸夹具16. 2寸开孔掩膜版架（可放置3寸〜5寸版）17. 4寸开孔掩膜版架（可放置3寸〜5寸版）18. 220V/50HZ 真空泵19. 光强计20. 光强计探头21. 护目镜22. 防震台。