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1、*股份有限公司培 训 资 料2010年3月目 录一 *股份有限公司污水处理工艺21.1项目概况21.2 设计规模41.3 进水水质41.4 出水标准41.5 污水处理工艺流程图51.6 废水处理工艺流程简介61.6.1批式处理槽与1#板框压滤机61.6.2生物接触氧化81.6.3二沉池91.6.4吸附池91.6.5污泥处理系统9二 各种设备说明及维护保养102.1格栅102.2提升泵102.2.1 起动102.2.2 停止102.2.3运转112.3水泵的维护112.4故障原因及解决办法：132.3鼓风机152.3.1三叶罗茨鼓风机的技术说明152.3.2罗茨风机运行管理202.4微孔曝气器的
2、技术说明21三 污泥处理系统223.1板框压滤机组成部分223.2板框压滤机压滤过程233.3板框压滤机滤布清洗23四 调试运行注意事项234.1 物化单元234.2 活性污泥系统的运行管理26一 *有限公司污水处理工艺1.1项目概况*股份有限公司以单晶、多晶硅片生产太阳能电池片。太阳能电池用多晶硅片生产硅料，主要进行拉制单晶硅、多晶硅熔铸及切片生产。硅料生产废水主要来自多晶硅废水、切片废水和有机硅废水。由于在生产过程中需要对含硅原料用氢氟酸、铬酸、硝酸、盐酸等强酸进行适当的腐蚀，因此产生大量的含氟酸碱废水。该类废水PH值低，含氟量高，并含有一定量的色度和悬浮物，且水量、水质的变化幅度大，处理
3、难度大。单晶硅生产工艺流程及排水节点如图1-1所示。刻蚀单晶制绒超声清洗NaOH 5% 单晶绒面(NaOH 2% IPA5%-6%纯水洗酸洗Hcl HF 5%低氟废水高氟废水甩干扩散制结低氟废水处理系统纯水洗纯水洗纯水洗酸洗HF 5%纯水洗风刀吹干PECVD沉积氮化膜丝网印刷烧结测试分选包装至组件生产线硅片低氟废水混酸洗 HNO3 HFH2SO4 高氟废水碱洗KOH 5% 高氟废水成品检测包装烧结炉图1-1企业单晶硅生产工艺流程注：废水多晶硅生产工艺流程及排水节点如图1-2所示。刻蚀多晶制绒混酸洗30%HNO3 +4.2%HF 混酸洗10Hcl HF 5%低氟废水高氟废水风刀吹干扩散制结低氟废
4、水处理系统纯水洗纯水洗酸洗HF 5%纯水洗风刀吹干PECVD沉积氮化膜丝网印刷烧结测试分选包装至组件生产线硅片低氟废水混酸洗 HFH2SO4 高氟废水碱洗KOH 5% 高氟废水纯水洗碱洗KOH 5% 纯水洗纯水洗图1-2企业多晶硅生产工艺流程注：废水根据生产工艺流程可以看出，企业排放的生产废水主要有含酸碱废水、含HF废水、酸碱冲洗废水、含氟清洗废水。根据企业的要求，还包括一些生活污水、冷却塔排放的冷却水和空调器的冷凝水等。1.2 设计规模受该企业委托，本次方案总设计处理能力为：Q=660m3/d。各排水单元排放废水量如表2-1所示。表2-1 各单元排放水量序号名称排放量（m3/d）1含酸碱废水
5、、酸碱冲洗排水530.62含氟废水、含氟清洗水73.73生活污水、冷却水55.71.3 进水水质根据厂家提供的数据，各排水单元设计进水水质如表2-2所示：表2-2 设计进水水质指标序号项 目CODcr（mg/l）F（mg/l）PH值（无量纲）1含酸碱废水、酸碱冲洗排水60010011122含氟废水、含氟清洗水2001500233生活污水、冷却水90030691.4 出水标准根据厂家的要求，出水达到污水综合排放标准（GB8978-1996）表4中一级标准的要求。其水质如表2-3所示。表2-3 设计出水水质指标序号项 目CODcr（mg/l）F（mg/l）PH值（无量纲）1出水水质10010691
6、.5 污水处理工艺流程图含氟浓水 1.7m3/d1#调节池碱、PAM、PAC、Ca2+机械搅拌1#反应池1#沉淀池水解调节池生物接触氧化池2#沉淀池泵污泥储存池泵1#板框压滤机2#调节池批式处理槽泵干污泥外运滤液含氟清洗水72m3/d泵碱、Ca2+一体化设备2#反应池PAM、PAC污泥生活污水、冷却水55.7m3/d格网酸碱废水530.6m3/d初沉调节池酸污泥鼓风机污泥回流污泥达标排放吸附池2#板框压滤机滤液干污泥外运图4-2 废水处理工艺流程图企业排放的高氟废水进入1#调节池，然后由泵提升进入1.6 废水处理工艺流程简介1.6.1批式处理槽与1#板框压滤机该工艺主要去除废水中的F-，使F-
7、离子与Ca+结合，生成CaF2胶体。CaF2难溶于水且密度比水大，反应完成后可通过沉淀的方式与水分离。再经过板框压滤机脱水，使F-离子与水分离。为了克服胶体间的斥力，使沉淀分离进行的更加完全，在沉淀前向废水中投加混凝剂。在废水处理中，混凝过程常用于胶体物质、离子物质的分离去除。混凝过程具有两个作用。第一个作用：使水中原有的离散微粒首先具有粘附在固体颗粒上的性质凝聚（coagulation）；第二个作用：使这些具有粘附性的离散微粒能够粘结成絮体絮凝（flocculation）。水中胶体表面都带有电荷，其表面电荷的产生有如下四个机理： 固相表面对水中某种离子的特异吸附；极难溶的离子型晶体与它溶解下
8、来的离子产物之间有一平衡关系，（这一平衡关系由溶度积来确定），这使得晶体表面有了一定符号的电荷。铁、铝、氢、氧化物颗粒表面电荷可以是依此机理产生的。由于金属氧化物或氢氧化物的溶解沉淀反应与溶液pH值有关，因此，这类颗粒的表面电荷和电势受pH控制；颗粒表面离子化。能团的离解，特别是高分子有机物因其极性 能团的酸碱离解而使表面带上电荷；（受pH控制）（如蛋白质：COOH R NH2） 某些离子型晶体（结晶物质）的Schottky缺陷。在晶体表面产生过量的阳或阴离子，而在其表面呈带正电或负电。（粘土及其它铝硅酸盐矿物晶体的表面电荷成因）图4-1 胶体核电示意图水处理中要求颗粒尽快长大到一定的粒度，以
9、便在沉淀设备中能除掉。因此，对粒度和沉淀时间有严格要求。水处理中絮凝的颗粒是一个很复杂的体系，在水处理中往往由于有机和无机混凝剂的使用，使得水处理中的混凝机理更为复杂。归结起来，可以认为主要是三方面的作用：压缩双电层作用。水中胶粒能维持稳定的分散悬浮状态，主要是由于胶粒的电位。如能消除或降低胶粒的电位，就有可能使微粒碰撞聚结，失去稳定性。在水中投加电解质混凝剂可达此目的。例如天然水中带负电荷的粘土胶粒，在投入铁盐或铝盐等混凝剂后，混凝剂提供的大量正离子会涌入胶体扩散层甚至吸附层。因为胶核表面的总电位不变，增加扩散层及吸附层中的正离子浓度，就使扩散层减薄，图81中的电位降低。当大量正离子涌入吸附
10、层以致扩散层完全消失时，电位为零，称为等电状态。在等电状态下，胶粒间静电斥力消失，胶粒最易发生聚结。实际上，电位只要降至某一程度而使胶粒间排斥的能量小于胶粒布朗运动的动能时，胶粒就开始产生明显的聚结，这时的电位称为临界电位。胶粒因电位降低或消除以致失去稳定性的过程，称为胶粒脱稳。脱稳的胶粒相互聚结，称为凝聚。吸附架桥作用。三价铝盐或铁盐以及其他高分子棍凝剂溶于水后，经水解和缩聚反应形成高分子聚合物，具有线性结构。这类高分子物质可被胶体微粒所强烈吸附。因其线性长度较大当它的一端吸附某一胶粒后，另一端又吸附另一胶粒，在相距较远的两胶粒间进行吸附架桥，使颗粒逐渐结大，形成肉眼可见的粗大絮凝体。这种由
11、高分子物质吸附架桥作用而使微粒相互粘结的过程，称为絮凝。网捕作用。三价铝盐或铁盐等水解而生成沉淀物。这些沉淀物在自身沉降过程中，能集卷、网捕水中的胶体等微粒，使胶体粘结。以铝盐为例，说明其作用机理。当Al2(SO4)3配制为1020%溶液使用时，pH4，发生下列离解反应：当其投加到水中后，发生如下水解反应，水的pH也随之改变：同时，还在水解过程中产生许多聚合离子，这是由于羟基架桥作用而产生。其最简单的形式是：OH OH 高效、经济的混凝剂对混凝作用固然重要，但同时必须在设备上提供良好的水力条件，从而形成密实度好的混凝颗粒，以利于后续工艺的高效运行。调节池的作用：调节池用于废水的汇集，因废水水质
12、、水量的不均衡性，先对废水进行水量调节，保证后续处理的稳定性。在调节池后端设置污水提升泵，将废水打入后续处理工艺。一体化设备作用：工作原理与批式处理槽相同，使F-离子与Ca+结合，生成CaF2胶体。CaF2难溶于水且密度比水大，反应完成后可通过沉淀的方式与水分离。1.6.2生物接触氧化生物接触氧化法，它是生物膜法的一种，即在池内设置生物填料，经过充氧的废水以一定的速度流经填料，使填料上长满生物膜。废水与生物膜相接触，在生物膜微生物作用下，污染物得到分解，废水得到净化。生物接触氧化池均为生物膜所布满，形成了生物膜的主体结构，有利于维护生物膜的净化功能，且能提高充氧能力和氧的利用率，有利于维护高浓
13、度的生物量。与其它生化方法相比，生物接触氧化法具有以下优点：填料比表面积大，池内充氧条件好，池内单位容积的生物量高于活性污泥法，因此，它可以达到较高的容积负荷，节省占地面积。由于相当于一部分微生物固着生长在填料表面，生化池容积负荷较高对冲击负荷有较强的适应力，污泥生长量少，不存在污泥膨胀问题，易于管理。由于池内生物固着量多，水流属于完全混合型，因此它对水质水量的骤变有较强的适应能力。因污泥浓度高，当有机容积负荷较高时F/M仍保持在一定水平，污泥产生量是比较低的。1.6.3二沉池污水由生物接触氧化池出水，自流进入二沉池，在重力沉降的作用下，进行固液分离，以去除氧化中悬浮活性污泥。沉降下来的活性污泥通过回流泵回流到氧化池，剩余污泥排到污泥储存池。1.6.4吸附池二沉池出水进入吸附池，经焦炭吸附、过滤，保证了最终出水效果。1.6.5污泥处理系统在污水处理过程中，一体化设备的污泥与二沉池的剩余污泥均排入污泥储存池进行污泥储存，上清液回流至调节池，重新处理，浓缩后的污泥进入污泥处理系统进行处理，产生的泥饼可外运。二 各种设备说明及维护保养2.1格栅格栅的主要目的是去除废水中的大的漂浮物、减轻后续机泵的负担。设置粗、
