tem制样技术

上传人:n**** 文档编号:89423465 上传时间:2019-05-25 格式:PPT 页数:33 大小:19.76MB
返回 下载 相关 举报
tem制样技术_第1页
第1页 / 共33页
tem制样技术_第2页
第2页 / 共33页
tem制样技术_第3页
第3页 / 共33页
tem制样技术_第4页
第4页 / 共33页
tem制样技术_第5页
第5页 / 共33页
点击查看更多>>
资源描述

《tem制样技术》由会员分享,可在线阅读,更多相关《tem制样技术(33页珍藏版)》请在金锄头文库上搜索。

1、透射电镜样品的制备,一、实验目的 没有好的电镜样品就得不出好的实验结果,制备出好的电镜样品是做好电镜实验工作的关键。本实验的目的是使学生了解并掌握几种透射电镜常用制样方法。,二、实验要求 1、掌握粉末样品的制备方法; 2、了解薄膜样品的制备方法; 3、了解界面样品的制备方法; 4、认识几种样品制备常用设备; 5、认识并学会使用样品制备的常用工具与耗材。,透射电镜制样用工具类,一、载网类 (纯碳膜、超薄碳膜、微栅、铜网、铜环)参考网站:新兴百瑞 微栅类:微栅是支持膜的一个品种,在制作支持膜时,特意在膜上制作的微孔,所以也叫“微栅支持膜”,它也是经过喷碳的支持膜,一般膜厚度为15-20nm。它主要

2、是为了能够使样品搭载在支持膜微孔的边缘,以便使样品“无膜”观察。无膜的目的主要是为了提高图像衬度。所以,观察管状、棒状、纳米团聚物等,常用“微栅”支持膜,效果很好。特别是观察这些样品的高分辨像时,更是最佳的选择;碳膜厚度可根据用户使用情况特制;如果样品颗粒尺寸小于10nm,请用超薄碳膜。,普通微栅 小孔微栅 FIB微栅,当样品放在电镜中观察时,“载网支持膜”在电子束照射下,会产生电荷积累,引起样品放电,从而发生样品飘移、跳动、支持膜破裂等情况。所以,人们考虑在支持膜上喷碳,提高支持膜的导电性,达到良好的观察效果。这种经过“喷碳的载网支持膜”,简称“碳支持膜”,一般膜厚度为7-10nm。 碳支持

3、膜是以有机层为主,膜层较薄,背底一般影响很小。通常用水或乙醇分散样品,支持膜均不会受腐蚀。载网材料有镍网和钼网两种;如果您的样品属于磁性粉末样品可以使用两种方法:1.树脂包埋,超薄切片;2.可以使用双联网碳支持膜。,碳支持膜,超薄碳膜,也是支持膜的一种,是在微栅的基础上,叠加了一层很薄的碳膜,一般为3-5nm。这层超薄碳膜的目的,是用薄碳膜把微孔挡住。这主要是针对那些分散性很好的纳米材料,如:10nm以下的样品,分散性极好,如果用微栅就有可能从微孔中漏出,如果在微栅孔边缘,由于膜厚可能会影响观察。所以,用超薄碳膜,就会得到很好的效果,超薄碳膜,载网(铜网、镍网、金网、钼网),环类(单孔环、椭圆

4、环),三、透射电镜样品的制备,可供透射电镜观察的样品很多,有金属材料、非金属材料,有小到几十纳米的粉末颗粒,亦有只有几个纳米厚的薄膜,还有生物等有机材料。 只要能将其制成对电子束透明、表面平整、稳定、易于放置、耐电子束轰击、不易挥发、不失真、无放射性、可供观察的样品即可。 由于电子束的穿透能力有限,为了得到较大的磁场强度,物镜的上下极靴距离做得很短,透射电镜样品室很小,样品台所能放下的样品一般是3mm,厚度0.1mm左右,而实际观察区域厚度必须小于100nm,高分辨像要求样品更薄。 不同样品有不同的制备方法:粉末、块体、界面,1.样品要足够薄(100-10nm) 2.提供需要观察的、有代表性的

5、视场 3.不能改变样品的结构与成分 (如机械损伤、化学反应、组织转变) 4.满足真空环境的要求、具一定导电性、可经受电子束的辐照等,TEM样品的制备要点,1、粉末样品的制备分三类,A、各种粉末状的纳米材料纳米材料为减少表面能自然团聚 根据具体情况采用合适的方法分散,然后滴在合适的载网上 分散原则: 根据纳米颗粒的表面所带电荷,带电荷者用极性溶剂 根据表面所捕获的表面活性剂,亲疏水性 合适的浓度,如果是脆性样品,可以考虑将其磨成粉末后再上电镜。研磨过程根据具体情况可以选择湿磨或干磨。 有时样品量很少可以考虑湿磨,将样品放入玛瑙研钵,倒入适量酒精或别的有挥发性的不会改变样品性质的液体,将样品充分磨

6、细。这个过程可能会耗费看一部连续剧的时间。,B、脆性样品,C、极硬与极软样品,树脂包埋,然后采取块体样品的方法制备,2、平面样品的制备,制样设备: 本实验室目前电镜制样的设备主要有离子减薄、凹坑仪、金刚石圆片切割仪、电解双喷、机械冲孔、磁控溅射镀膜、超声冲孔等实验设备,能对薄膜样品、金属块体样品进行制备。,低速金刚石锯,超声波冲孔仪,机械冲孔器,凹坑仪,离子减薄仪,可用于几乎所有样品的制备(但要注意离子损伤倾向和热效应),电解双喷,JCP200磁控溅射镀膜仪,金属薄膜样品的制备方法,Flow chart of Preparing Material Specimen,Specimen cutti

7、ng,Rough polishing,3 mm dia. punching,Precision polishing,Dimple polishing,Ion polishing, electrolyze etching,Precision ion polisher,Observation,Resin embedding,Cutting,Precision cutting machine,Precision cutting machine,Disk punch / Supersonic disk cutter,Dia lap polishing system,Dimple grinder,Milling device / electrolyze etching device,PIPS,1、将块状样品在所需要的区域切割取0.2-0.3mm薄片,机械磨光; 2、化学抛光减薄;(钢铁样品用双氧水+氢氟酸) 3、冲成3mm直径园片进行双喷电解穿孔或离子减薄。,

展开阅读全文
相关资源
相关搜索

当前位置:首页 > 高等教育 > 其它相关文档

电脑版 |金锄头文库版权所有
经营许可证:蜀ICP备13022795号 | 川公网安备 51140202000112号