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1、断层解剖学,电子课件,颅脑连续横断层解剖,头部断层解剖学（二）,横断层面分为上、中、下三部分。 上部为胼胝体干和尾状核体出现以上的层面，大脑半球被大脑镰分隔为左、右两部分，以中央沟和顶枕沟将端脑断面分为额叶、顶叶和枕叶；,中部为基底核区和脑室等所在的层面，由胼胝体等连合纤维将左、右侧大脑半球连成一整体，不同层面的中央区之间的差异主要为基底核区、侧脑室和第三脑室等的位置、形态的变化，层面周边以中央沟和外侧沟将端脑分为额叶、顶叶和颞叶；,下部是自鞍上池以下的层面，脑组织被大脑外侧窝池和小脑幕等分为数块，随层面下移则脑组织逐渐缩少，不同层面的中央区之间的差异主要为脑池、脑干和第四脑室等的位置、形态的
2、变化。,3. 经顶枕沟上份的颅脑横断层解剖特点 首现断面：额上沟、额中回、扣带沟和回、顶下沟、楔叶； 中线及内侧面结构：上矢状窦、大脑镰及大脑纵裂池、额内侧回、中央旁小叶、扣带沟、扣带回、顶下沟、楔前叶、顶枕沟和楔叶； 外侧面结构：额上回、额上沟、额 中回、中央前沟、中央前回、中央沟、 中央后回、中央后沟、顶下小叶； 影像解剖学特征：顶内沟的变化较 大，但多起自中央后沟；顶内沟与大 脑半球上缘平行且弯向后方；顶内沟 将顶叶分为顶上小叶和顶下小叶，也 是语言区即Wernicke区的上界。,4. 经顶枕沟中份的颅脑横断层解剖特点 断面变化：中央旁小叶消失，颞肌断面出现； 中线及内侧面结构：额内侧回
3、、扣带沟、扣带回、顶下沟、楔前叶、顶枕沟和楔叶； 外侧面结构：额上回、额上沟、额中回、中央前沟、中央前回、中央沟、中央后回、中央后沟、顶下小叶； 影像解剖学特征：髓质连成片状， 脑沟移向四周且缩短；中央旁小叶 消失，尚可见起自中央后沟的顶内沟； 顶枕沟呈直线或S形走行，多于距 状沟前、中1/3交界处与距状沟汇合， 如两沟分离则期间常有一过渡脑回存 在。,5. 经半卵圆中心的颅脑横断层解剖特点 首现断面：顶内沟消失，半卵圆中心及缘上回断面出现； 中线及内侧面结构：额内侧回、扣带沟、扣带回、顶下沟、楔前叶、顶枕沟和楔叶； 外侧面结构：额上回、额上沟、额中回、中央前沟、中央前回、中央沟、中央后回、中
4、央后沟、缘上回和顶下小叶； 影像解剖学特征：大脑髓质增至最 大，大致呈卵圆形；半卵圆中心在CT 图像上呈低密度暗区，MRI T1加权像上 呈高信号亮区；脑内脱髓鞘病变，如 多发性硬化、肾上腺脑白质营养不良和 脑结节硬化症等，常在该区出现单发或 多发病灶。,6. 经胼胝体干部的颅脑横断层解剖特点 首现断面：半卵圆中心及顶下沟消失，额下回、胼胝体、侧脑室、角回、外侧沟断面出现； 中线及内侧面结构：额内侧回、扣带沟及回（胼胝体干额钳之前）；扣带回峡、距状沟前部、舌回、距状沟后部和楔叶（胼胝体枕钳之后）； 外侧面结构：额上回、额上沟、额中回、额下沟、额下回、中央前沟、中央前回、中央沟、中央后回、外侧沟
5、、缘上回、角回和枕外侧回； 影像解剖学特征：胼胝体干出现于层面中央，呈X形，并向前外、后外分别延伸形成额钳和枕钳；侧脑室位于胼胝体干外侧，其前外侧的灰质团块为尾状核；中线上的大脑镰被分为前后两部分，近颅骨处有上矢状窦，后部大脑镰的前方有大脑大静脉池及其后的下矢状窦；一般情况下，外侧沟后支与侧脑室在横断层面上同时出现，故侧脑室的出现是识别外侧沟后支的标志；缘上回包绕外侧沟后支末端，角回包绕于颞上沟末端，故外侧沟后支是识别缘上回和角回的解剖标志。,18,1,2,3,4,5,6,7,8,10,11,12,13,14,15,16,17,19,20,7. 经胼胝体压部的颅脑横断层解剖特点 首现断面：缘上
6、回和楔叶消失，内囊、第三脑室、透明腔、穹窿、禽距和岛叶的断面出现； 中线及内侧面结构：大脑镰、额内侧回、扣带沟和回、胼胝体膝、透明隔、穹窿、第三脑室、帆间池、胼胝体压部、大脑大静脉池、直窦、距状沟、舌回和楔叶； 外侧面结构：额上回、额上沟、额中回、额下沟、额下回、中央前回、中央沟、中央后回、外侧沟、颞横回、颞上回、颞上沟、颞中回和枕叶； 深面结构：尾状核头、侧脑室前角、内囊、豆状核、外囊、屏状核、最外囊、岛叶皮质、背侧丘脑、侧脑室后角、禽距和尾状核尾。,影像解剖学特征：第三脑室：呈正中矢状位，后方的三角形腔隙为帆间池，前方有透明隔和穹窿，两侧灰质团块为背侧丘脑；内囊和基底核：背侧丘脑与豆状核和
7、尾状核之间为内囊，豆状核与屏状核之间为外囊，屏状核与岛叶皮质之间为最外囊；侧脑室：在胼胝体膝后方，与尾状核头、透明隔和穹窿间的腔隙为侧脑室前角，向后经室间孔与第三脑室相通；在胼胝体压部的两侧，有侧脑室后角，其内侧可见隆起的禽距；距状沟：自胼胝体压部下方向后走向枕极，深1.5-2.0cm，以顶枕沟与其汇合点为界分为前、后两部分；距状沟前部的位置及形态较恒定；距状沟前部推顶脑回突入侧脑室后角形成一隆起的禽距，因此，侧脑室后角内侧壁上的禽距是识别距状沟的重要标志。,8. 经上丘和前连合的颅脑横断层解剖特点 首现断面：角回、距状沟、禽距及帆间池消失，小脑幕、上丘、海马、侧副隆起和内、外侧膝状体的断面出
8、现； 中线、内侧面及底面结构：大脑镰、额内侧回、扣带沟和回、胼胝体膝、透明隔、穹窿、丘脑间粘合、第三脑室、上丘、小脑、直窦、窦汇、海马旁回、侧副沟、枕颞内侧回、枕颞沟、枕颞外侧回； 外侧面结构：额上回、额上沟、额中回、额下沟、额下回、外侧沟、颞上回、颞上沟、颞中回、颞下沟、颞下回； 深面结构：基底节、内囊、外囊、最外囊、岛叶皮质、背侧丘脑、侧脑室前角和后角、侧副隆起、内外侧膝状体等。 影像解剖学特征：海马、尾状核尾及侧副隆起：侧脑室下角前外侧壁的灰质团块为尾状核尾，内侧有海马沟推顶脑回形成的海马；后壁上有侧副沟推顶脑回形成的侧副隆起；小脑及小脑幕：上丘的后方有呈“八”形的小脑幕，其间为小脑蚓的
9、上部；窦汇：枕骨的前方为窦汇，窦汇与小脑之间为直窦；岛叶皮质：自前向后分为额盖（运动性语言中枢）、顶盖（躯体运动和感觉中枢）和颞盖（多为缘上回，听觉性语言中枢）。,5,1,3,4,6,7,8,9,10,11,12,13,14,15,16,17,18,19,20,9. 经下丘的颅脑横断层解剖特点 首现断面：内囊、胼胝体、透明隔、上丘及侧副隆起消失，小脑半球、中脑水管、下丘、红核、黑质、杏仁体的断面出现； 中线、内侧面及底面结构：大脑镰、额内侧回、扣带沟和回、大脑前动脉、第三脑室、中脑水管、四叠体池、小脑幕、小脑蚓部、窦汇、小脑幕、海马旁回、侧副沟、枕颞内侧回、枕颞沟、枕颞外侧回； 外侧面结构：额
10、上回、额上沟、额中回、额下沟、额下回、外侧沟、颞上回、颞上沟、颞中回、颞下沟、颞下回； 深面结构：基底节、外囊、最外囊、岛叶皮质、背侧丘脑、侧脑室前角和后角、侧副隆起、内外侧膝状体等。 影像学特征：中脑断面：位于断层中央，自前向后分为大脑脚底、黑质、中脑被盖和顶盖；脑池：下丘脑后方为四叠体池，向两侧环绕中脑与环池相续；外侧沟呈“”形，内有大脑外侧窝池（侧裂池）和大脑中动脉；外侧沟：由一干五支组成。外侧沟干起自前穿质，经额叶眶面与颞极之间向外侧延伸，达大脑半球上外侧面分为前支、升支和后支；前支和升支连成、或形向上深入额下回。后支向后上走行分为后升支和后降支；后升支终于缘上回，后降支升入颞上回。,
11、10. 经小脑上脚的颅脑横断层解剖特点 首现断面：第三脑室、中脑、下丘、壳和尾状核头消失，鞍上池、视交叉、脑桥、小脑上脚和第四脑室的断面出现； 影像学特征：层面内的结构分四部分，即外侧沟前方的额叶：外侧面额叶可见额上回、额中回、额下回和额内侧回；在底面，额叶被中间的嗅束沟分为内侧的直回和外侧的眶回。外侧沟与小脑幕之间为颞叶：颞叶外侧面自前而后为颞上回、颞中回和颞下回；颞叶内的腔隙为侧脑室下角，其前内侧的灰质团块为杏仁体，内侧卷曲的结构是海马。两侧小脑幕之间为脑桥和小脑：脑桥经小脑上角与后方的小脑相连，小脑由小脑半球和小脑蚓组成。小脑髓质内较大的灰质团块为齿状核。额叶、颞叶和脑桥之间的空隙为鞍上池：鞍上池呈五角形，由交叉池和桥池组成。内有视交叉（视束）、下丘脑、动眼神经、基底动脉、大脑前动脉等结构。鞍上池向前连通两侧额叶间的大脑纵裂池；向前外侧连通大脑外侧窝池（侧裂池）；向后外侧与环池相续。 此外，杏仁体位于海马旁回钩的深面和侧脑室下角的前方，形态变化较大，多呈扁椭圆形。杏仁体、海马旁回和侧脑室下角三者之间恒定的位置关系，是横断层面上识别杏仁体的重要标志。,12. 经小脑半球下缘的颅脑横断层解剖特点,
