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1、断层解剖学,电子课件,颅脑连续横断层解剖,头部断层解剖学(二),横断层面分为上、中、下三部分。 上部为胼胝体干和尾状核体出现以上的层面,大脑半球被大脑镰分隔为左、右两部分,以中央沟和顶枕沟将端脑断面分为额叶、顶叶和枕叶;,中部为基底核区和脑室等所在的层面,由胼胝体等连合纤维将左、右侧大脑半球连成一整体,不同层面的中央区之间的差异主要为基底核区、侧脑室和第三脑室等的位置、形态的变化,层面周边以中央沟和外侧沟将端脑分为额叶、顶叶和颞叶;,下部是自鞍上池以下的层面,脑组织被大脑外侧窝池和小脑幕等分为数块,随层面下移则脑组织逐渐缩少,不同层面的中央区之间的差异主要为脑池、脑干和第四脑室等的位置、形态的
2、变化。,3. 经顶枕沟上份的颅脑横断层解剖特点 首现断面:额上沟、额中回、扣带沟和回、顶下沟、楔叶; 中线及内侧面结构:上矢状窦、大脑镰及大脑纵裂池、额内侧回、中央旁小叶、扣带沟、扣带回、顶下沟、楔前叶、顶枕沟和楔叶; 外侧面结构:额上回、额上沟、额 中回、中央前沟、中央前回、中央沟、 中央后回、中央后沟、顶下小叶; 影像解剖学特征:顶内沟的变化较 大,但多起自中央后沟;顶内沟与大 脑半球上缘平行且弯向后方;顶内沟 将顶叶分为顶上小叶和顶下小叶,也 是语言区即Wernicke区的上界。,4. 经顶枕沟中份的颅脑横断层解剖特点 断面变化:中央旁小叶消失,颞肌断面出现; 中线及内侧面结构:额内侧回
3、、扣带沟、扣带回、顶下沟、楔前叶、顶枕沟和楔叶; 外侧面结构:额上回、额上沟、额中回、中央前沟、中央前回、中央沟、中央后回、中央后沟、顶下小叶; 影像解剖学特征:髓质连成片状, 脑沟移向四周且缩短;中央旁小叶 消失,尚可见起自中央后沟的顶内沟; 顶枕沟呈直线或S形走行,多于距 状沟前、中1/3交界处与距状沟汇合, 如两沟分离则期间常有一过渡脑回存 在。,5. 经半卵圆中心的颅脑横断层解剖特点 首现断面:顶内沟消失,半卵圆中心及缘上回断面出现; 中线及内侧面结构:额内侧回、扣带沟、扣带回、顶下沟、楔前叶、顶枕沟和楔叶; 外侧面结构:额上回、额上沟、额中回、中央前沟、中央前回、中央沟、中央后回、中
4、央后沟、缘上回和顶下小叶; 影像解剖学特征:大脑髓质增至最 大,大致呈卵圆形;半卵圆中心在CT 图像上呈低密度暗区,MRI T1加权像上 呈高信号亮区;脑内脱髓鞘病变,如 多发性硬化、肾上腺脑白质营养不良和 脑结节硬化症等,常在该区出现单发或 多发病灶。,6. 经胼胝体干部的颅脑横断层解剖特点 首现断面:半卵圆中心及顶下沟消失,额下回、胼胝体、侧脑室、角回、外侧沟断面出现; 中线及内侧面结构:额内侧回、扣带沟及回(胼胝体干额钳之前);扣带回峡、距状沟前部、舌回、距状沟后部和楔叶(胼胝体枕钳之后); 外侧面结构:额上回、额上沟、额中回、额下沟、额下回、中央前沟、中央前回、中央沟、中央后回、外侧沟
5、、缘上回、角回和枕外侧回; 影像解剖学特征:胼胝体干出现于层面中央,呈X形,并向前外、后外分别延伸形成额钳和枕钳;侧脑室位于胼胝体干外侧,其前外侧的灰质团块为尾状核;中线上的大脑镰被分为前后两部分,近颅骨处有上矢状窦,后部大脑镰的前方有大脑大静脉池及其后的下矢状窦;一般情况下,外侧沟后支与侧脑室在横断层面上同时出现,故侧脑室的出现是识别外侧沟后支的标志;缘上回包绕外侧沟后支末端,角回包绕于颞上沟末端,故外侧沟后支是识别缘上回和角回的解剖标志。,18,1,2,3,4,5,6,7,8,10,11,12,13,14,15,16,17,19,20,7. 经胼胝体压部的颅脑横断层解剖特点 首现断面:缘上
6、回和楔叶消失,内囊、第三脑室、透明腔、穹窿、禽距和岛叶的断面出现; 中线及内侧面结构:大脑镰、额内侧回、扣带沟和回、胼胝体膝、透明隔、穹窿、第三脑室、帆间池、胼胝体压部、大脑大静脉池、直窦、距状沟、舌回和楔叶; 外侧面结构:额上回、额上沟、额中回、额下沟、额下回、中央前回、中央沟、中央后回、外侧沟、颞横回、颞上回、颞上沟、颞中回和枕叶; 深面结构:尾状核头、侧脑室前角、内囊、豆状核、外囊、屏状核、最外囊、岛叶皮质、背侧丘脑、侧脑室后角、禽距和尾状核尾。,影像解剖学特征:第三脑室:呈正中矢状位,后方的三角形腔隙为帆间池,前方有透明隔和穹窿,两侧灰质团块为背侧丘脑;内囊和基底核:背侧丘脑与豆状核和
7、尾状核之间为内囊,豆状核与屏状核之间为外囊,屏状核与岛叶皮质之间为最外囊;侧脑室:在胼胝体膝后方,与尾状核头、透明隔和穹窿间的腔隙为侧脑室前角,向后经室间孔与第三脑室相通;在胼胝体压部的两侧,有侧脑室后角,其内侧可见隆起的禽距;距状沟:自胼胝体压部下方向后走向枕极,深1.5-2.0cm,以顶枕沟与其汇合点为界分为前、后两部分;距状沟前部的位置及形态较恒定;距状沟前部推顶脑回突入侧脑室后角形成一隆起的禽距,因此,侧脑室后角内侧壁上的禽距是识别距状沟的重要标志。,8. 经上丘和前连合的颅脑横断层解剖特点 首现断面:角回、距状沟、禽距及帆间池消失,小脑幕、上丘、海马、侧副隆起和内、外侧膝状体的断面出
8、现; 中线、内侧面及底面结构:大脑镰、额内侧回、扣带沟和回、胼胝体膝、透明隔、穹窿、丘脑间粘合、第三脑室、上丘、小脑、直窦、窦汇、海马旁回、侧副沟、枕颞内侧回、枕颞沟、枕颞外侧回; 外侧面结构:额上回、额上沟、额中回、额下沟、额下回、外侧沟、颞上回、颞上沟、颞中回、颞下沟、颞下回; 深面结构:基底节、内囊、外囊、最外囊、岛叶皮质、背侧丘脑、侧脑室前角和后角、侧副隆起、内外侧膝状体等。 影像解剖学特征:海马、尾状核尾及侧副隆起:侧脑室下角前外侧壁的灰质团块为尾状核尾,内侧有海马沟推顶脑回形成的海马;后壁上有侧副沟推顶脑回形成的侧副隆起;小脑及小脑幕:上丘的后方有呈“八”形的小脑幕,其间为小脑蚓的
9、上部;窦汇:枕骨的前方为窦汇,窦汇与小脑之间为直窦;岛叶皮质:自前向后分为额盖(运动性语言中枢)、顶盖(躯体运动和感觉中枢)和颞盖(多为缘上回,听觉性语言中枢)。,5,1,3,4,6,7,8,9,10,11,12,13,14,15,16,17,18,19,20,9. 经下丘的颅脑横断层解剖特点 首现断面:内囊、胼胝体、透明隔、上丘及侧副隆起消失,小脑半球、中脑水管、下丘、红核、黑质、杏仁体的断面出现; 中线、内侧面及底面结构:大脑镰、额内侧回、扣带沟和回、大脑前动脉、第三脑室、中脑水管、四叠体池、小脑幕、小脑蚓部、窦汇、小脑幕、海马旁回、侧副沟、枕颞内侧回、枕颞沟、枕颞外侧回; 外侧面结构:额
10、上回、额上沟、额中回、额下沟、额下回、外侧沟、颞上回、颞上沟、颞中回、颞下沟、颞下回; 深面结构:基底节、外囊、最外囊、岛叶皮质、背侧丘脑、侧脑室前角和后角、侧副隆起、内外侧膝状体等。 影像学特征:中脑断面:位于断层中央,自前向后分为大脑脚底、黑质、中脑被盖和顶盖;脑池:下丘脑后方为四叠体池,向两侧环绕中脑与环池相续;外侧沟呈“”形,内有大脑外侧窝池(侧裂池)和大脑中动脉;外侧沟:由一干五支组成。外侧沟干起自前穿质,经额叶眶面与颞极之间向外侧延伸,达大脑半球上外侧面分为前支、升支和后支;前支和升支连成、或形向上深入额下回。后支向后上走行分为后升支和后降支;后升支终于缘上回,后降支升入颞上回。,
11、10. 经小脑上脚的颅脑横断层解剖特点 首现断面:第三脑室、中脑、下丘、壳和尾状核头消失,鞍上池、视交叉、脑桥、小脑上脚和第四脑室的断面出现; 影像学特征:层面内的结构分四部分,即外侧沟前方的额叶:外侧面额叶可见额上回、额中回、额下回和额内侧回;在底面,额叶被中间的嗅束沟分为内侧的直回和外侧的眶回。外侧沟与小脑幕之间为颞叶:颞叶外侧面自前而后为颞上回、颞中回和颞下回;颞叶内的腔隙为侧脑室下角,其前内侧的灰质团块为杏仁体,内侧卷曲的结构是海马。两侧小脑幕之间为脑桥和小脑:脑桥经小脑上角与后方的小脑相连,小脑由小脑半球和小脑蚓组成。小脑髓质内较大的灰质团块为齿状核。额叶、颞叶和脑桥之间的空隙为鞍上池:鞍上池呈五角形,由交叉池和桥池组成。内有视交叉(视束)、下丘脑、动眼神经、基底动脉、大脑前动脉等结构。鞍上池向前连通两侧额叶间的大脑纵裂池;向前外侧连通大脑外侧窝池(侧裂池);向后外侧与环池相续。 此外,杏仁体位于海马旁回钩的深面和侧脑室下角的前方,形态变化较大,多呈扁椭圆形。杏仁体、海马旁回和侧脑室下角三者之间恒定的位置关系,是横断层面上识别杏仁体的重要标志。,12. 经小脑半球下缘的颅脑横断层解剖特点,