《材料概论(周达飞)(二版)第3-2章_材料科学_工程科技_专业资料》由会员分享，可在线阅读，更多相关《材料概论(周达飞)(二版)第3-2章_材料科学_工程科技_专业资料（25页珍藏版）》请在金锄头文库上搜索。
1、P希1技1.物理气相沉积法(PhsicalVaporDeposition,PVD):系统中不发生化学反应,也称蒸发技沥|4l/髓气B积法(ChemicalVaporDeposition,EE巳圆|液相法回固相法回U吴(4171水E2河园出广皋简单的蒸友和升华0r阴极溅射方法l河最后可能是在高能粒医江p许许心口人(伟5A.PVD法制备薄膜材料anllp0Utn|5沥5水一g片上析出的方法。啄【江怀日咏芒吴应木【d汀苗懵苜邢b技t2口不园p纳力Aaf口从几百度E明3国汀二刑E水址制备z0Sn0z系L机T里丨分简单，E发源、基片支推架,挡板T刑许多物质都可制膜,蒸镀多种元素可获得一定配比图3-10真
2、空燕镀设备的示意图0吊|【公朋人寸医p司W团Ce述庆10nt伟怡引一l河|同,易于重亘黾夔口n吴燃气压的一的附着力伟E沥c页渤射设备主要有以下几种:05口纳述不沥吴沥河口认厂扑中沥E江江育仁一5标八沥光述沥沥国昔真空蒸镀相比】E兄人E吊8关沥4玲沥吴7根仪诊2朐伟河亚东058人许d辽E厂训E仪1(河b命赉n国iE活的耐磨性、耐磨擦性、耐腐蚀性等,乙与基片E吊切E河Esy(尼口人林膜法在技肌uUb吴辽t园医d浩训动应性气体也能够析出陶瓷等化合物膜。与前者相比,人口一ntwszB.PVD法制备超细粉体材料吊L化扎明林万力国脱仪t纳打E厂标E团东应|人林人粒径通常01um,E画尤店禾口米立胁2.化学气相沉积法(CVD)伟6d江2刑pg0E沥一标人Et沥人E【圆收水2江人【达口标育汀广辽医吴氧化物氯化物、碳化物等Ic行人皂uA述0A朋阮2/i圆C.影响参数:反应体系成分、气体组成、P、T等回巳厉dT_一一人一一万一丞n一木门里个儿多唐士十一1$11尿e物f。仁1111I3JSWyADUU夕夕222222215f121212Figure3-5.SchematicrepresentationofthestepsinCVDprocessesEoalcsssil途a仁友汀扬
