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1、电子工厂高级别洁净室建造的重点张利群（第十二届中国国际洁净技术论坛-苏州） 目录一、高级别洁净室在电子工厂中的应用二、电子工厂高级别洁净室的建造特点（一）电子工厂生产工艺对洁净室生产环境的要求非常严格；（二）电子工厂高级别洁净室的建造投资费用非常高；（三）电子工厂高级别洁净室的运行管理费用非常贵；（四）电子工厂高级别洁净室的适应性、灵活性要非常强；（五）电子工厂高级别洁净室的安全性、可靠性要非常好。三、电子工厂高级别洁净室空调负荷的特点和节能（一）洁净室的空调负荷（二）高级别洁净室空调负荷的特点（三）高级别洁净净化空调系统的节能四、电子工厂高级别洁净室的消防和排烟（一）高级别洁净室消防的重要性
2、（二）洁净室的消防措施（三）高级别洁净室的防排烟（四）某TFT-LCD 高级别洁净室的消防设计实例电子工厂高级别洁净室的建造特点一、高级别洁净室在电子工厂中的应用 本文所指的高级别洁净室是指洁净室的洁净度高（ISO-1 、2、3、4、5 级） ，生产环境温湿度的精度高，其他一些环境参数，例如：静压差、静电、微振、电磁、噪声、照度等参数都必须按生产工艺的要求进行严格控制的洁净室。这类面积大、 环境参数要求高的洁净室广泛地应用在电子工业厂房中，如：大规模集成电路（LS1） 、超大规模集成电路（VLS1 ）等微电子产业的电子工厂；彩色薄膜液晶显示器（TFT-LCD ） ；发光二级管（ LED ） ；
3、等离子技术（ PDP）光电子产业的电子工厂以及新兴的纳米技术等高科技产业之中。当今世界， 微电子和光电子产业已成为一个国家、一个地区国民经济和科学技术发展的基础和平台， 也是衡量一个国家和地区经济发展和科学技术水平的重要标志。发达国家 （美国、日本以及欧洲各国）都极为重视，纷纷投入大量的人力、物力、财力进行开发、研究和生产。我国在“十五”规划中也明确指出“重点发展集成电路、新型元件、器件、计算机和通信设备。”争取用1015 年的时间，把我国建设成为世界电子信息产业的强国。以超大规模集成电路为代表的微电子产业，在今后十年中全世界年平均增长率高达15%。到 2010 年全世界微电子产品的销售额将高
4、达6 0008 000 亿美元。 到那时我国将成为全球第二大半导体市场。而光电子是继微电子技术之后近十年内迅速崛起的新兴高科技产业，它是集固体物理、导波光学、材料力学、微细加工和微电子技术为一体，是微电子技术和光电子技术的结合和扩展。光电子产业以液晶显示器（LCD ） 、等离子技术（PDP）和发光二极管（ LED）为代表，尤其是彩色薄膜液晶显示器（TFT-LCD ）它是微电子技术与透射式彩色液晶显示器技术的完美结合。它对生产环境的参数，原材料的纯度以及生产设备和技术都等同甚至超过大规模集成电路的生产要求。到2010 年以光电子产业为代表的信息产品的总产值将突破50 000 亿美元。我国在微电子
5、产业方面， “八 五” 、 “九 五” “十。 五”期间发展很快，继“华越” 和“华虹”之后又有 “中芯”、 “宏力”、 “贝岭”、 “先进” 等超大规模集成电路生产线相继建成投产。在光电子产业方面“LCD ” 、 “PDP” 、 “ LED ” 、 “TFT-LCD ”已成为我国光电子产业的新的增长点，随着“吉林通海高科”TFT-LCD生产线建成投产后又有更大规模的“上广电”、 “京东方” 等 TFT-LCD 生产线相继建成投产。深圳的 “深超” 和具有第六代TFT-LCD 生产线的“京东方”也在建设之中。二、电子工厂高级别洁净室的建造特点（一）电子工厂生产工艺对洁净室生产环境的特点电子工厂
6、尤其是微电子和光电子产业电子工厂洁净室的生产环境有以下特点：第一， 生产工艺对单体洁净室面积的要求越来越大，例如， 五代线 TFT 单体洁净室的面积为38000m2,而六代线单体洁净室的面积为50000m2,到了八代线单体洁净室的面积就高达80000m2。第二，生产工艺对洁净室洁净度的要求越来越高，随着工艺的发展洁净室的洁净度由ISO5 级提到 ISO4 级,ISO3 级,有的部分甚至要求到ISO2 级,ISO1 级(0.1nm 的粒子数 , 10Pc/m3)。第三，生产工艺对洁净室内温度，相对湿度的精度的要求越来越精，温度精度从+0.5c 提高到+0.2c 或 +0.1c，而相对湿度从+5%
7、提高到 +3%或+2%。第四， 生产环境不仅仅对建筑围护、结构、空气、水以及气体、溶剂等原材料有要求，而且对声、光、电、磁、振等各种环境都有严格的要求。例如：建筑形式、层高承重、围护的装修材料；空气的洁净度、温湿度、静压力；水和气体的纯度和重金属等含量以及噪声、照度、静电、c 磁波、微振动等等。总的来说，微电子和光电子对生产环境的要求可用“精”、 “净”、 “纯”、 “大”来描写。第五，电子工业的迅猛发展，还进一步要求为其服务的洁净室要有极好的另活性，能适应电子工业飞速发展的需要。建造电子工厂的高级别洁净室最重要的是要使建造的洁净室应能满足生产工艺对生产环境的严格要求，使之能高效率、 高成品率
8、地生产出高质量的电子产品。这是建造高级别洁净室最根本的目的。下表给出了微电子、光电子生产工艺对生产环境所要求的条件和参数：超大规模集成电路对生产环境污染控制的要求集成度控制参数4M 16M 64M 256M 1G 4G 特征尺寸（ m）0.8 0.55 0.35 0.25 0.180.15 0.13 控制粒径（ m）0.1 0.1 0.08 0.08 0.06 0.04 控制温度（ 2125）0.1 0.05 0.05 0.05 0.05 0.05 控制相对湿度（35%45%）2 1 1 1 1 1 洁净度级别ISO-14644 工作区（级）3 12 12 12 1 1 通道区（级）4 4 4
9、 4 4 4 维护区（级）56 5 5 5 5 5 下夹层（级）78 78 67 67 67 67 防微振建筑物（ m）0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 设备（ m）0.01 0.01 0.01 0.01 0.01 0.1 纯水、纯气中的杂质510-9510-9110-90.110-90.0110-9噪声dB(A) 60 60 60 60 60 60 超大规模集成电路对生产环境污染控制的要求环境控制要求项目名称控制粒径（ m）洁净度（级）温度（）相对湿度（%）某 IC 前工序生产线0.1 3 220.1453 某 IC 前工序生产线0.1 3 220.1453 某 TFT-LCD
10、 生产线0.3 4 231555 某 TFT-LCD 基极生产线0.3 3;4 230.3505 某高密度磁带生产线0.5 5 231505 某彩色显示器生产线0.5 7（局部 5）221555 某磁头生产线0.3 5 212605 某光导纤维生产线0.3 7（局部 5）242/ 电子、光电子产品生产对生产环境的要求产品工序空气洁净度等级 （级）温度 （）相对湿度 （%）相对低级别 洁净室的正压 （ Pa ）半导体材料拉单晶45（0.3 m）232 455 5 切、磨、抛57（0.3 m）232 455 5 清洗47（0.3 m）232 455 5 外延35（0.3 m）232 455 5 芯
11、 片 制 造 （ 前 工 序 ）氧化、扩散、清洗、刻蚀、 薄膜，离子注入25 （0.10.3 m）231 455 5 光刻14（0.10.3）220.1 231 455 5 检测36（0.10.3）232 455 5 设备区68（0.10.3）235 4510 5 封装（后 工 序）划片，键合57（0.3）211 505 5 封装68（0.3）231 505 5 TFT LCD 薄膜光刻、 刻蚀、剥离23（0.1）231 455 5 涂复13（0.1）231 455 5 模块45（0.3）232 4510 5 组装67（0.3）232 455 5 STN-LCD 67（0.3） （局部 5 级
12、）232 455 5 HDD 制造区34（0.1）231 455 5 其他区67（0.3）231 4510 5 PDP 核心区5（0.3）231 455 5 支持区67（0.3）232 4560 5 锂电 池干工艺区67（0.5）232 2 5 其他区78（0.5）232 15 5 彩色 显象 管涂屏电子枪装配荧光粉7（0.5）232 455 5 锥子墨涂复荫罩8（0.5）232 455 5 电子 仪器微型计算机装配8（0.5）20232 / 5 印制 线路 板照像、制版，干膜78（0.5）222 4060 5 光导 纤维预制棒67（0.3）242 505 5 拉丝57（0.3）221 505
13、 5 光盘制造68（0.3）231 5010 5 高密度磁带制造68（0.5） （局部 5 级）231 5010 5 磁头 生产核心区5（0.3）232 605 5 清洗区6（0.3）212 70 5 注：此表摘自电子工业洁净厂房设计规范（二）电子工厂高级别洁净室的建造投资费用非常高高级别洁净室建造投资的费用很高。一般来说，4 级（10 级） 5 级（100 级）垂直单向流洁净室，其室内建筑围护装修（包括墙、顶、地、门窗等）和净化空调系统（包括制冷和空调、净化设备、管道和配件）其建设初投资大约为10 00015 000 元/m2；如果再加上纯水制备设备和系统管线配件，纯气的发生设备和系统管线配
14、件、废水废气排放设备和系统管线配件； 消防系统设备管线配件；供配电和自动控制系统的设备管线配件以及集中式真空清扫系统设备配件管线等等，其单位面积的初投资可高达25 00030 000 元/m2。现以 1998 年已建成投产的上海某超大规模集成电路前工序生产线举例来说，其月投片（8“硅片） 30000 片，有洁净室面积约10 000 m2，其中 4000 m2 3 级（ 1 级） 、4 级（ 10 级）高洁净度垂直单向流洁净室，另外6000 m2为 6 级（ 1 000 级） 、7 级（ 10 000 级）非单向流洁净室。总净化送风量约6 400 000 m3/h。该项目总投资约100 亿人民币
15、，其中动力设备和土建部分投资约为20 亿人民币。占总投资的 20%。其核心部分10 000 m2高级别洁净室建造投资费高达6000 万美元（不含土建结构部分）折合单位面积投资为6000 美元 /m2，大约折合人民币50000 元/m2。再举目前正在建造即将竣工的深圳某精密光电有限公司建造的TFT-LCD 基板生产线，其总面积约800 m2，其中 3 级（ 1 级） 、4 级（ 10 级）垂直单向流洁净室的面积约200 m2；其余为 5 级（ 100 级）垂直单向流洁净室。除了土建结构以外洁净室的建筑围护装修、冷冻和净化空调系统、 废水废气的排放系统、纯水纯气的制备和输配系统、供配电和自动控制系统等的总投资约3200 万元人民币，折合单位面积约40000 元/ m2人民币。由上述两个实例说明建造这样的微电子、光电子工厂高级别洁净室的建造投资费用是非常高的。这是另一个特点。（三）电子工厂高级别洁净室的运行管理费用非常贵因为电子工厂高级别洁净室的净化送风量大、工艺设备局部排风量大、新风量大，温、湿度要求严格，所以送风的空气热湿处理的冷量、热量、加湿量也大，空气输配的能量消耗量大，运行费用很贵。还拿上述两个项目为例来说明：上海某超大规模集成电路前工序生产线10 000 m2洁净室总送风量为6 400 000 m3/h， 空气输配的风机总耗电量为3840
