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1、11. 什么叫真空？真空特点是什么？2. 真空区域的划分是怎样的？其物理基础是什么？3. 简述气体和蒸汽的区别。4. 何为物理吸附？何为化学吸附？5. 说明机械泵的抽气原理。影响机械泵极限真空的因素有哪些？6. 说明扩散泵的结构和原理。影响扩散泵极限真空的因素有哪些？7. 说明分子泵的工作原理。8. 说明离子泵的结构、气体放电的过程、排气的原理。9. 热导真空计测量真空的基础是什么？10. 说明电离真空计的结构和原理。影响该真空计的测量下限是什么？如何改善测量下限？11. 与电离真空计比较，BA 规的结构有哪些改进？为什么能测量更低的真空压强？12. 简述真空系统漏气的静态判断的方法。13.
2、什么叫压力检漏？试述了卤素检漏法的原理。14. 叙述氦质谱检漏仪的原理、仪器结构、方法。15. 画出电磁阀的结构，说明其工作原理及其用法。16. 说明图 1 的真空系统的使用规程。规管机械泵前置阀扩散泵真空镀膜室旁通阀主阀图 1 R F 溅射台真空抽气系统放气阀电磁阀电炉丝水217. 写出真空系统的抽气方程，其中各量的意义。18. 多根管道串联而成的静态真空系统，写出其流导、抽速以及压强的方程。说明其意义。19. 说明真空蒸发镀膜的原理。20. 对电阻蒸发源的材料有何要求?21. 高频感应加热镀膜是什么样的结构？它有何应用价值？22. 为什么 e 型枪比直枪优越？23. 分子束外延的机理是什么
3、？有何特点？24. 说明直流辉光放电的电流电压特性。25. 射频辉光放电的特点以及原因。26. 说明射频溅射为什么能溅射绝缘材料？27. 说明溅射离子的能量对成膜速率的影响。28. 离子入射到材料表面会产生哪些效应？成膜主要靠哪些部分？29. 说明磁控溅射的原理和特点。30. 为什么反应溅射镀膜比反应蒸发镀膜效果好？31. 说明离子镀的原理与特点。32. 离子镀膜的成膜条件是什么？33. 说明电弧离子镀的结构原理和特点。34. 说明化学气相沉积的主要过程。35. 说明化学气相沉积的特点。36. 任何 CVD 所用的反应体系都必须满足三个条件是什么？37. 说明低压化学气相沉积设备、优点。38. 说明 PECVD 的原理与优点。39. 说明 MOVCD 的特点。40. 说明低温化学气相沉积薄膜的意义。
