铜的电化学腐蚀(改)

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1、铜的电化学腐蚀原子力显微镜:多模式原子力显微镜 LS测量模式:动态力悬臂:NCLR附加设备:CH 仪器(电化学分析仪)拿出铜金属块(工作电极),用弹簧线夹夹取电触头,将弹簧电夹远离溶剂以防止电池引线被腐蚀。再将银/ 银氯和反电极插入电池中。所有的电极都放入100毫米的氯化钠溶液中。铜金属在动态力模式中的形态图如图1所示。开路电位为-0.347V,塔菲尔和点蚀腐蚀的测量结果用来决定点蚀的电位。正极为0.6V的电位在开始一分钟内被用到。形态图如图2所示,形态方面的变化在图中可以看到,在接下来的几分钟内电位的应用,所以我们能够看到溶液中有气泡产生。形貌图3的不同在于铜的电化学刻蚀导致物质从金属表面脱

2、离出来,在其表面留下了许多细小的颗粒。移动颗粒的沉淀物在形态图中可以看到。在接下来的一分多钟里应用0.6V的电位,由于刻蚀材料的干涉,形态不可能形成云状溶液以掩盖激光束。该阶段铜金属被拿出并放在溶液里彻底的清洗,再次做原子力显微镜测量,现在表面形态呈现出许多的点(图4)。点的直径和深度在图中可以找到.同样的实验可以在SS(钢结构)金属在 +1V下进行应用,甚至我们可以看到(图5,6)在形态上,10分钟之后都没有变化及产生抗腐蚀现象。图1: (在氯化钠中刚开始时的形貌图)开始时的铜-氯化钠- 向前扫描,形貌图(1/6)图2: 化学切边之后在600毫伏下75秒钟内的的形貌图铜-氯化钠 75秒钟600毫伏 -向前扫描,形貌图(1/6)图3: 化学切边之后在600毫伏下150秒钟内的形貌图铜-氯化钠 150秒钟600 毫伏- 向前扫描,形貌图 (1/6)图4:水中切边之后的光洁表面铜-氯化钠 600毫伏225 秒钟之后新的位置图- 向前扫描,形貌图(2/4 )图5:刚开始时的不锈钢10分钟之后1伏时的不锈钢结构

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