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1、安半导体产业园废处理艺技术案 - 1 - 目 录 概述.1 二 程规模.2 三 公司简介.2 四 设计依据和设计要则.2 五 废质量以及排放标准.4 六 废处理艺流程.5 七 艺设备以及构筑物的设计参数和选型.11 八 厂区管网改造.16 九 总排口及在线检测.16 十 总体布置及运输.16 十 土建、公用设计.17 十二 土建程量及设备投资估算.18 十三 运行费用估算.20 十四 人员编制.21 十五 环境保护、安全卫生、消防与节能.21 十六 监测管理.22 十七 结论、建议与要求.22 十八 售后服务内容及措施.23 七七一所临潼园区废水处理工艺技术方案 一 概述 安半导体产业园位于安
2、市新技术产业开发区内，项总征地261亩，项建设包括科研生产楼幢，倒班宿舍两幢，太阳能电池切片生产厂房幢，太阳能电池片生产厂房幢，太阳能电池组件生产厂房幢，LED 外延片生产厂房幢，LED 芯片生产厂房幢，功率器件生产厂房幢，以及配套的废处理站、站、库房、变配电站、氮间、氢氧间、等。本设计案为废处理站艺安半导体产业园废处理艺技术案 - 2 - 设计案，其主要源来自切片生产厂房、电池片生产厂房、组件生产厂房、LED 芯片生产厂房和功率器件生产厂房的生产废，废包：（1）含各间酸碱废，（2）切片厂房硅粉有机废，（3）电池片生产厂房含氟废，（4）LED芯片生产厂房有机废等。 结合类似程实例可知主要污染因
3、子为：Cu2+、Ni2+，Pb2+、硅粉、SiO2、As3+、F-、氨氮、COD、PH、SS等。针对半导体产业园的生产艺和质特点，我公司量制作了套废处理技术案。艺技术案设计本着艺技术先进、可靠，设备运行稳定、安全，操作管理简便的原则；同时，在系统运行可靠的基础上做到本程各构筑物及设备布局整齐，造型美观。实现本程实用性、经济性、美观性的统. 二 工程规模 根据半导体产业园提供的废资料，结合贵公司实际规划生产情况，本程废日平均处理总量为5200吨/天。 考虑到峰期排，本程设计时处理能力 310 吨/小时，每天运行20小时。 三 公司简介 轻院作为环境污染治理领域专业公司，在业污治理程、城市污处理程
4、、废治理程等领域具有很多优秀业绩与经验，拥有多项专利及专有技术，承接业污治理与城市污处理程。我公司在电镀含重金属废、废槽液的治理面积累了相当丰富的理论和实践经验，有为本程提供程咨询与设计及程总承包服务的条件和能力。 四 设计依据和设计要则 1 设计依据 1.1 污综合排放标准（GB89781996），渭河陕段排放标准； 安半导体产业园废处理艺技术案 - 3 - 1.2 处理设备制造技术条件（JB2932-86）； 1.3 设计相关规范 室外排设计规范GB50014-2006 给排程构筑物设计规范GB50069-2002 混凝土结构设计规范GB50010-2002 建筑地基基础设计规范GB500
5、07-2002 建筑抗震设计规范GB50011-2001 建筑结构荷载设计规范GB50009-2001 建筑结构可靠度设计统标准GB50068-2001 业企业设计卫生标准TJ36-79 采暖通和空调节设计规范GBJ19-87 建筑设计防火规范GBJ16-87（2001年版） 供配电系统设计规范GB50052-95 低压配电设计规范GB50054-95 建筑防雷设计规范GB50057-94 业与用电力装置的接地设计规范GBJ65-83 泵站设计规范GB/T50265-97 1.4 甲提供的资料 2 设计原则 2.1 严格执行环境保护的各项规定，确保废处理后质符合国家标准污综合排放标准GB897
6、81996，渭河陕段排放标准； 2.2 采用技术先进、运行可靠、运行费用低、操作管理简单的艺，使先进性和可靠性有机地结合起来； 2.3 采用成熟先进技术提处理效率，尽量降低投资和运行费用； 2.4 采用先进的控制手段，保证操作运行与维护管理便可安半导体产业园废处理艺技术案 - 4 - 靠。 五 废水水质水量以及排放标准 1 废水水质水量及设计处理能力 废主要来源于生产艺产生的各间酸碱洗清洗废、含氟废、硅粉有机废、LED间有机废等。 废质量表如下： 废水水质水量表 序号 废水种类 污染物质 排水量（m3/d） 设计处理能力 （m3/h） 备注 1 酸碱废水 酸、碱 Cu2+，Ni2+，Pb2+
7、3680 210 每天作 20小时 2 含氟废水 HF，氟化物， 1000 70 每天作 20小时 3 硅粉有机废水 硅粉，SiO2， BOD, COD 重金属离子 380 4 有机废水 聚乙二醇， 其他形式BOD,COD 重金属离子 100 30 每天作 20小时 合计 5200 310 每天作 20小时 2 排放标准 根据环评要求，污经处理设施后达到污综合排放标准（GB8978-1996）级排放标准和渭河陕段标准相关标准。 主要水质排放指标 安半导体产业园废处理艺技术案 - 5 - 六 废水处理工艺流程 1 废水水质情况分析 新建污站废主要来自切片生产厂房、电池片生产厂房、组件生产厂房、L
8、ED芯片生产厂房和功率器件生产厂房，废种类繁多，不能全部混合在起处理。按照废化学性质不同分别进行处理，可以提处理品质并降低处理的药品消耗和处理费用，般采用分质处理的法。根据半导体产业废的特点以及本程的实际特点，酸碱废主要含些重金属离子，COD 浓度低于排放标准；含氟废主要污染物重金属离子和 HF，HF 对池子结构防腐有特殊要求，需要先氧化后再进行处理；有机废主要污染物是重金属离子、COD 和 BOD，只用物化处理 COD 不可能达到排放标准，因此需要物化处理后再进行生化处理。综上所述，本设计案决定将各个间的酸碱洗清洗废放在起处理，电池片生产间含氟废单独处理，硅粉有机废和 LED 间的有机废混合
9、处理，下边简称酸碱废、含氟废和有机废。根据产业园提供资料，各股的设计量：酸碱废 3680t/d，含氟废 1000t/d，有机废 480t/d，总量5200 t/d。 2 废水处理原理 前，国内外普遍采用化学法处理重金属离子废，利用效沉序号 污染物 最高允许浓度 序号 污染物 最高允许浓度 1 总镍 1.0mg/L 7 氨氮 15mg/L 2 总铅 0.5 mg/L 8 总铜 0.5 mg/L 3 总砷 0.5 mg/L 9 总银 0.5 mg/L 4 总氟 10 mg/L 10 COD 100 mg/L 5 PH 69 11 色度 50 6 悬浮物(SS) 70 mg/L 12 石油类 5 安
10、半导体产业园废处理艺技术案 - 6 - 淀分离技术和自控技术使废处理更加稳定。本程技术案拟采用“体化力澄清净器”作为主体处理设备，利用其占地面积小，运行成本低和效沉淀分离技术等特点使废达标排放，保证物化反应的效果。前国内对聚合有机废处理式主要是强氧化法和生物法，由于强氧化法处理成本较，效果具有针对性，因此本设计案有机废拟采用先物化絮凝沉淀后生化的式进行处理。各路废经过单独系统处理后达标排放排清池，混同其余废并排入指定的城市管网接口。产生的污泥利用厢式压滤机脱，泥饼外运交有资质的单位处置。 3 体化水力澄清净水器 “体化力澄清净器”主要用于处理电镀、冶炼、钢铁、蓄电池、仪表、线电、汽等业部生产中排放的生产污，可以有效的去除污中的各种重金属离子、酸、碱、氟化物、不溶性染料等有害物质。 “体化力澄清净器”的作原理主要基于化学还原中和效凝聚的原理，并将反应凝聚澄清沉淀过滤及污泥浓缩等全过程，均在“体化力澄清净器”内完成。 “体化力澄清净器”集多项先进技术为体，设备内部由喷射回流混合器、第反应室、第二反应室、澄清单元、过滤单元组成，将反应、絮凝、沉淀、澄清、过滤等序组合在个专用设备内依次完成。喷射回流混合器能够快速进行混合反应，同时进行污泥回流，充分利用使反应更加迅速，药剂使用更加充分；过滤部分采用专用效轻质滤料，并带有力旋
