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1、建设项目环境影响报告表项目名称： 6-8 英寸硅抛光片扩产项目 建设单位：宁波立立电子股份有限公司(盖章)编制日期： 2006 年 2 月 18 日浙江省环境保护局制环评文件确认书建设单位 宁波立立电子股份有限公司 项目名称 6-8 英寸硅抛光片扩产项目项目地址 宁波保税东区港东大道 20 号 投资额 35000 万元法定代表人 李立本 联系电话 574-86821903宁波市环保局：我公司委托宁波市环科院编制的“宁波立立电子股份有限公司 6-8 英寸硅抛光片扩产项目环境影响报告表”经我公司审核，同意该环评文件所述内容，并承诺做到如下环保措施：1、 废气治理：本项目主要为硅片化腐废气，通过集气
2、罩经引风机送入废气水洗塔处理后，可以达到大气污染物综合排放标准(GB16297-1996)二级排放标准。 2、 废水治理：本项目生产废水可以接入生产废水处理设施，经调节中和、混凝沉淀、A/O 生化处理后可以达到岩东污水处理厂进网标准，通过保税区污水管网系统排入岩东污水处理，再经岩东污水处理厂二级生化处理后排海。3、 噪声治理：本项目噪声主要为各类设备运行噪声，生产车间噪声在 7085dB之间，对有振动设备均应设防震基础或减震垫，确保厂界噪声达到工业企业厂界噪声标准(GB12348-90)类标准。4、 固废治理：生产过程中产生固废物通过分类收集，分质处置的原则，对废多晶硅锭进行回收利用；废水处理
3、装置排放污泥、生活垃圾由环卫部门清运。5、 其它：如改变生产内容和规模，将重新进行相应的环境影响评价及审批。宁波立立电子股份有限公司(盖章)法定代表人(签字)：2006 年月日备注项目名称： 6-8 英寸硅抛光片扩产项目环评类型：环境影响报告表评价单位： 宁波市环境保护科学研究设计院 (公章)项目名称： 6-8 英寸硅抛光片扩产项目 环评类型： 环境影响报告表 项目编号： 20060117 项目负责人： 蔡锡明 评价人员情况姓 名 从事专业 职称 上岗证号 职责 签名蔡锡明 环境工程 高 工 环评岗证字第 A20040026 号 填表赵永才 环境工程 高 工 环评岗证字第 A20040018
4、号 审核-1-建设项目基本情况项目名称 6-8 英寸硅抛光片扩产项目建设单位 宁波立立电子股份有限公司法人代表 李立本 联系人 乐永幸通讯地址 宁波保税东区港东大道 20 号联系电话 86881150 传真 86881152 邮编 315800建设地点 宁波保税东区港东大道 20 号立项审批部门 宁波市发改委 批准文号 甬发改备200558 号建设性质 新建 改扩建 技改 行业类别及代码 C41占地面积 22368.82 绿化面积 8276总投资 35000(万元) 其中：环保投 资 230 万元 环保投资占总投资比例 0.65%评价经费 万元 预期投产日期 2006 年 1 月工程内容及规模
5、1、 项目背景宁波立立电子股份有限公司(以下简称“立立电子”)系由浙江大学半导体学科相关的技术和管理人员共同组建的股份制企业，于 2000 年 6 月 21 日在宁波保税区注册成立。五年来，通过贯彻“立信、立德、务实、创新”的理念，遵循着“追求纯净完美，满足顾客期望”的宗旨，致力于重掺系列硅单晶锭、硅抛光片、外延片及复合半导体材料的研制。公司在技术上以浙江大学硅材料科学国家重点实验室、浙江大学半导体材料研究所为依托。并拥有一批高素质的技术骨干，在全部 512 名员工中，本科以上学历有 114 人，其中高级职称 20 人，博士 5 人，硕士 40 人。公司拥有十多项核心技术发明专利，独创了酸腐蚀
6、工艺、有蜡贴片工艺、多层外延片工艺。公司占地面积 5 万平方米，均按国际一流的生产要求设计，专用厂房最高净化级别为 0.1m10 级。公司相继通过了瑞士 SGS 公司的 ISO9001：2000 和 QS9000：1998 质量体系认证，目前正在推行 TS16949/ISO14000 的认证工作。公司是国家“863”计划成果产业化基地，国家级重点高新技术企业，设有企业博士后流动站。目前，立立电子已成为中国唯一拥有硅单晶锭、抛光片、外延片、芯片制造的完整产业链的企业。拥有三家控股子公司宁波立立半导体有限公司、杭州立昂电子有限公司和杭-2-州立立科技实业有限公司。立立电子从成立之初的年销售不过 5
7、00 万元、资产总额 3000 万元，经过近五年来的发展成为注册资本金达 7108 万元，股东权益 2.16 亿元，资产总额 5.81 亿元，年销售达 3.7 亿元的公司规模，成为全国七家年产值超亿元的硅材料生产企业之一。目前是国内已建成的最大的 4-6 英寸重掺砷、磷、锑、硼单晶锭，硅抛光片、外延片的生产基地，生产能力年产单晶锭 120 吨、抛光片 300 万片、外延片 30 万片。产品已提供给国内外一批晶圆厂商，如上海先进、上海新进、上海贝岭、杭州士兰、无锡华晶、美国 Fairchild、美国 IR、美国 TI、日本 NEC。 并与国际著名的 ST 公司和美国 ONSEMI 公司建立了良好
8、的战略合作伙伴关系，市场可以得到保障。在战略远景规划上, 公司将通过多种筹资渠道募集资金等来解决发展问题，拟在未来的三年中投入 5-7 亿元人民币技术改造资金，进一步提高重掺单晶硅锭产量和硅外延片生产规模,提高公司在集成电路行业内的核心竞争力，建立中国最大的具有国际影响力的年产 300 吨 4-8 英寸重掺单晶硅锭和 420 万片 4-8 英寸重掺系列硅抛光片、140 万片 4-8 英寸重掺系列硅外延片和 30 万片 6 英寸功率芯片的生产基地，分别位列全球市场规模的前列， 使公司年销售规模达到 8-10 亿元，成为全球半导体材料行业排名前十位的知名供应厂商。力争在经过的 20-30 年的努力
9、成长为全球半导体材料一流的制造商。根据我国半导体集成电路市场和半导体材料市场发展需要，宁波立立电子股份有限公司在公司现有厂房和完善的检测设备及处理系统的基础上，扩大 6-8 英寸硅抛光片的生产，根据中华人民共和国环境影响评价法和建设项目环境保护管理条例 ，为了切实做好环保工作，宁波立立电子股份有限公司委托宁波市环境保护科学研究设计院对该本项目进行环境影响评价工作。2、 生产内容及规模根据项目可行性报告，本项目主要进行硅抛光片的生产，项目建成后公司将新增月产 25 万片 6-8 英寸硅抛光片；产品可用于生产 MOS、双极型集成电路及集成电路外延衬底片等。-15-与本项目有关的原有污染情况及主要环
10、境问题本项目相关企业主要有宁波立立半导体有限公司和宁波立立电子股份有限公司，上述二企业所有公用工程设施为共用，根据硅外延片生产工艺，硅外延片的生产一般可分三步：第一步是单晶硅晶锭的生产，是利用单晶炉将半导体级多晶硅在最高温度达 1700的热场中熔化，然后通过籽晶生长在用户所需的直径和电学参数的单晶硅锭；第二步是将硅锭进行切、磨、抛加工，转化成抛光片；第三步在抛光片基础上，在特定的气相反应炉内在硅片的正表面生长一层簿膜加工成外延片。其生产工艺流程分工如下：立立电子立立半导体多晶硅多晶硅检验备料晶体生长取样、分析测试晶锭分段滚园切片切片清洗检 验石 英 坩 埚制作参考面检验晶锭粘结磨片化腐背面处理
11、倒角研磨硅片热处理检验硅片边沿抛光贴片硅片表面抛光抛光片清洗检验外延外延清洗检 验抛 光 液最终产品质量检验包装检验检验检 验研 磨 砂立立电子立立半导体入库-16-根据生产分工情况，其二个企业目前主要包括已建工程、在建研发项目、公用工程概况及三废排放情况如下：一、已建工程概况1、宁波立立半导体有限公司生产及污染情况(1)企业概况宁波立立半导体有限公司成立于 1998 年，主要从事单晶硅片的加工生产，由宁波立立电子股份有限公司全资控股。其年生产能力为单晶硅抛光片 300 万片，注册资本 5000 万元，职工定员 175 人。(2)生产工艺其生产工艺及排污位置如下：(3)主要设备其主要生产设备如
12、下：序号 名称 数 量 单 位序号 名称 数 量 单 位1 27 英寸切片机 31 台 6 硅片干燥机 8 台2 16 英寸切片机 5 台 7 自动硅片热处理炉 6 台3 磨片机 12 台 高纯水设备 30t/h 1 套4 倒角机 15 台8 高纯水设备 12t/h1 套5 硅片清洗机 22 台 9 压缩空气系统 20m3/h 7 套成品晶锭 切片 切片检验 热处理清洗倒角烘干革命检验 抛光 腐化 研磨切割废水碱性废水 研磨废水废气包装抛光片产品外延 外延清洗检验检验 硅外延片产品废气废水废水-17-(4)主要原材料消耗主要原材料消耗量如下：序号 名称 用量 序号 名称 用量1 单晶硅 100
13、t/a 6 行星片 500 片/a2 27 英寸内园刀片 100 片/a 7 冷却液 40t/a3 16 英寸内园刀片 2000 片/a 8 研磨液 10t/a4 倒角砂轮 120 片/a 9 硅片包装盒 20000 个/a5 研磨砂 100t/a根据现有企业实际情况，其生产用水 45t/d，纯水用量 146t/d。(5)三废排放情况废水：根据生产工艺调查，生产过程废水产生情况为：切割废水产生量 6t/d，其废水水质：COD150mg/l，SS1000mg/l，PH7.2；研磨废水产生量 153t/d，其废水水质：COD610mg/l，SS1000mg/l，PH8.3；酸碱废水产生量 20t/
14、d，其废水水质：COD250mg/l，SS100mg/l，PH5.011；清洗废水产生量 10t/d，其废水水质：COD210mg/l，SS100mg/l，PH610；目前厂内进行清污分流，对生产废水排入废水处理站处理达标后排放。废气：废气主要为腐化工序产生的酸性废气，其主要成份为 HF、HNO 3，其废气排放量主要通过引风机，采用水洗吸收塔吸收处理后通过排气筒排放。现有 5 套废气处理装置，其每套处理风量为 989.5m3/h，其总废气排放量为 4947.5m3/h。废气经处理后正常运行情况下可以达到 GB16297-1996大气污染物综合排放标准 。2、宁波立立电子股份公司生产及污染情况(
15、1)企业概况宁波立立电子股份有限公司系股份制企业，主要股东是浙江大学半导体学科的专家和技术骨干，公司成立于 2000 年 6 月，主要经营范围为硅单晶锭、硅单晶抛光片及外延片的制造及销售。注册资本金 7108 万元，总占地面积 90 亩。建筑面积 20937m2，职工定员 165 人，公司是目前国内已建成最大的 4-6 英寸重掺砷、磷、硼、锑单晶锭、4-6 英寸硅外延片生产基地；生产厂房面积 30000m2，其中净化面积 3300m2，最高净化级别 0.1m10 级，厂房按国际一流的生产要求设计，一期工程于 2000 年 10 月正式投产，二期工程用于硅晶体生长于 2001 年 3 月投入试-
16、18-生产，三期外延厂房于 2003 年 12 月竣工。(2)生产工艺单晶硅晶锭生产工艺单晶硅晶锭生产工艺及排污位置如下图：硅外延片生产工艺硅外延片生产工艺及排污位置如下图：(3)主要生产设备单晶硅晶锭生产主要生产设备如下：序号 名称 数 量 单 位序号 名称 数 量 单 位1 单晶炉 14 台 6 检测仪器 5 台2 真空泵 18 台 7 冷却塔 2 组3 割断机 3 台 8 高纯水设备 20t/h 1 套4 滚圆机 2 台5 清洗机 3 台硅外延片生产主要设备其主要生产设备如下：序号 名称 型号数量单位序号 名称 型 号数量 单 位1 外 延 炉 PE2061S 6 台 7 4PP测 试 仪 1 台2 C-V测 试 仪 1 台 8 清洗机
