电子元器件基本知识精选

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1、第三章 电子元器件基本知识2011/10电子元件发展经历了四个阶段(代):电子管、晶体管、集成电路、大规模集成电路。简单介绍发展进程及应用。一、 电子管(真空管)1883年,爱迪生为延长白炽灯的寿命,在灯泡内封入一段铜丝,欲阻止碳丝的蒸发,未成功。但无意中发现了热电子发射现象和二极管的单向导电现象,注册一个专利,人称为爱迪生效应。爱迪生唯一一项科学发现。但他未认识到重要性。时无线电尚未发明。1903年,英国理查逊证实了电子的存在,1928年获诺贝尔奖。1904年,英国弗来明,发明真空二极管。1906年美国德福雷斯特在阴、阳极之间加入一个栅极,当栅极电压有微小变化时,引起阳极电流较大的变化。“以

2、小控大”,就是放大。结构为圆筒状。作用如“闸门”。是一种电压控制器件,栅极电压控制阳极电流。初期,他交不起15美元的专利费,到企业来赞助,被人当成骗子告上法庭,说他推销积压产品。他说,历史必将证明,我发明了空中王国的王冠,法院判决:电子管是一个毫无价值的玻璃管。后无罪释放。美国誉为“无线电之父”。电子管专利卖了39万美元,一生300项发明,包括有声电影。电子管发明初期,因真空度不够高,寿命短。后来(1910)德国的哥德发明了抽高真空的分子泵,提高了真空度。从三极管发展到四、五、六、七、八极管。从单一管到复合管,双二极、双三极、三-七极,二-五极管。在一个玻壳内装两个电子管。电子管的弱点:体积大

3、、重量大、耗电大,发热多,寿命短,几千小时1-2万小时。B29轰炸机上仪器装1千只电子管、1万多个无线电元件。1946年,第一台电子计算机用18000个电子管、70000个电阻、18000个电容、耗电150KW、30T重,功能每秒5000次加法、50次乘法。国产南京管(大),北京管(小,花生管)。5060年代,厦门是前线,功率管受管制。家中已有的电子管要到公安局登记,贴条子,才准予使用,中学做实验先到公安局登记,买新管凭公安局证明。1950S1960S逐渐被晶体管替代。但在高频、大功率场合仍有应用。近年又“复活”,在高级音响中,被认为音质优于晶体管。爱迪生效应阳极A栅极G阴极K灯丝F爱迪生效应

4、三极电子管结构、符号二、三极电子管工作原理阳极阳极UgIa二、半导体晶体管半导体材料单向导电现象的发现。1835年,麦克思发现“不对称导电现象”。1874年,布拉温发现硫化物有单向导电现象。1880年,发明硒整流器。硒(Se)也是半导体。后来发现更多天然或人制矿物有单向导电性。1906年前后,辉铅矿或金刚砂;晶体加金属丝成二极管,用作检波,接触点常调整,找“灵敏点”。性能不如真空二极管,业余爱好者用于矿石收音机无电源收音机,做检波器。1940年,人工纯锗、硅晶体出现,晶体二极管应用。依靠提纯技术的发展。真空二极管加第三极(栅极),有放大作用,半导体怎么加第三极?1945年开始,贝尔实验室,攻关

5、小组。肖克莱(固体物理学家、组长)、巴丁(固体物理学家)、布拉顿(实验物理学家)。各有所长。1947.12.23发现三极管放大作用(图),I1小变化引起I2大变化。1948年获专利。先秘而不宣。1948年初,在一次学术会议上,柏杜大学的布雷和本泽报告其晶体管放大实验,两根探针距离不够近,未成功。赶紧发表成果,申请专利。肖克莱未直接参与第一只晶体管的研制,专利属巴丁、布拉顿,肖克莱极为不满。后三人关系恶化,散伙。1948年,肖克莱构思出一种新型晶体管, 其结构像“三明治”夹心面包那样,把N型半导体夹在两层P型半导体之间。1949年,肖克莱提出了p-n结理论(关于晶体中由于掺入杂质的不同所形成的p

6、型区和n型区的理论),并在第二年使之变为现实,研制出了结型晶体三极管。结型晶体管在许多方面优于点接触晶体管,很快就得到了广。后又发明场效应晶体管。三人获1956年诺贝尔奖。1953年,晶体管助听器。1954年出现4个锗晶体管的收音机。1952年,区域提纯法,进一步提纯半导体、单晶体。点接触型。面接触型。第1只晶体管示意图增益KV=100Ge活动探针50m固定探针BEC1959发明平面工艺。美仙董公司,赫尔尼。晶体片表面进行加工集成电路工艺的前身。微小型化的过程。早期电极几个mm,后缩至0.30.5mm,结面积0.070.2 mm2 。实际上PN结直径只要几十个m。照相,制板,光刻,印刷工艺。1

7、950年芯片2.5mm2/个,到1963年,同面积上可制作125个管。线宽20-30 m。1950S电子管与晶体管竞争。电子管小型化,最小如铅笔粗。60年代晶体管全面取代电子管。(除微波、大功率场合)。苏前期忽视半导体,当锗发展为硅,又忽视硅。造成其电子、半导体、计算机技术长期落后,产品“傻、大、粗、笨。”中国起步晚十年左右。50年电子管。60年半导体。50年电子管计算机。70年大上半导体、全面开花,到处拉单晶,后又下马。晶体管的命名,transfer+resister,转换电阻,缩写为transister。电阻变换作用,低电阻输入,高电阻输出。半导体的特点是对温度敏感,性能影响大。锗半导体极

8、限工作温度75OC,锗半导体极限工作温度160OC。 半导体的导电特性:热敏性 光敏性 掺杂性。二极管、三极管的应用:本征半导体的导电机理: 价电子在获得一定能量(温度升高或受光照)后,即可挣脱原子核的束缚,成为自由电子(带负电),同时共价键中留下一个空位,称为空穴(带正电)。温度愈高,晶体中产生的自由电子便愈多。在外电场的作用下,空穴吸引相邻原子的价电子来填补,而在该原子中出现一个空穴,其结果相当于空穴的运动(相当于正电荷的移动)。 Si Si Si Si价电子空穴自由电子 Si Si Si Sip+多余电子磷离子纯净的半导体硅材料,掺入少量5价磷元素,自由电子数目大量增加,导电性大增,称为

9、N型半导体;掺入3价的鹏元素,产生大量的带正电的空穴,导电性大增,称为P型半导体。1 二极管 Si Si Si SiB硼离子空穴(1)整流低频,检波高频,开关作用导电开关接通,不导电开关断电。特性,单向导电性。整流前整流后i(2)特殊二极管:稳压二极管:有稳定电压的作用;发光二极管LED:作指示灯,未来的照明光源;光敏二极管:光照敏感,电阻变小,电流变大,有可见,红外光敏,用作遥控、检测信号;激光二极管:发射激光,CD、VCD、DVD、CDROM读写激光头。2三极管(1)放大:IB小变化,引起IC大变化。放大作用、控制作用。电流控制器件。基极电流控制集电极电流。i以小控大。放大系数小信号放大:

10、中频、高频、低频信号放大;大信号放大:功率放大,音响输出;(2)振荡:产生各种频率的正弦波信号,收音机、电视机的变频。作信号源,测试仪器用。LC振荡器,RC振荡器。(3)开关作用 三种工作状态:放大 截止开关断开,饱和开关接通(4)分类:低频三极管。高频三极管,开关三极管;小功率三极管,大功率三极管。晶闸管,又称可控硅,用于交、直流电压调节。三集成电路(IC)50年后期。晶体管虽小,但数量多,体积、重量也显大了,计算机上百万个晶体管,体积仍很大。接线多,可靠性下降。管芯有效面积仅几十m2,但芯片面积0.5mm2,芯片只占0.03mm,其余为引线、支架、管壳、低座。1960年的一台通用计算机,用

11、了10万只二极管和2.5万只晶体管。1952年,英国的达默提出集成化即无接线固体器件的设想,当时技术条件限制,做不到。1958年9月,美德克萨斯仪器公司(TXAS)工程师杰克基尔比(Jack kilby)在他人去度假时留守车间时,发明了集成电路,第一个IC是安置在0.5cm2锗晶片上的电路相移振荡器。面积7/161/16英寸2个晶体管及2个电容、8个电阻(另一说:只晶体管、只电阻器和只电容器,全部元器件都做在一块半导体锗晶体片上,元器件之间的导线是黄金膜)。是一个用独立晶体管精密焊接而成却无法量产的集成电路理论模型。诺伊斯的集成电路基尔比的集成电路几乎同时,仙董公司(硅谷)的诺伊斯也试制硅晶片

12、集成电路,采用平面工艺,利用被蚀刻成规则图案的氧化硅薄膜、铝薄膜,作为绝缘材料和导线把所有电子元器件全部制作在一块单晶硅片上。可以大规模生产。专利之争。第一只集成电路发明专利权判给基尔比,集成电路内部制造工艺专利归诺伊斯。2000年,基尔比退体多年后,获诺贝尔奖,诺伊斯1990年去世。事实上,以后的IC都是用硅平面工艺制成的。1961年仙童公司首先推出几十个元器件的平面型集成电路。基尔比的专利虽然申请在前,却被批准在后(1964年6月23日),而诺伊斯的申请却在1961年4月26日就被批准了。这引起了一场发明权的诉讼,最后法院判两个专利都有效,因而使集成电路成为一项同时发明,基尔比和诺伊斯共享

13、了“集成电路之父”的荣誉。集成电路制造的可能性。二、三极管均有PN结;电阻杂质半导体具有一定电阻;电容利用PN结的电容效应,但容量有限;这样晶体管、电阻、电容都用同一种半导体材料制成。1963年12月IC的第一个商品是助听器。 1961年,第一台用IC的实验性计算机,587块IC,285克,体积小于100cm3,功率16W。 诺伊斯与摩尔等与1969年创立Intel公司,integrate electronics,集成电子设备公司。四 大规模,超大规模集成电路 1960年代平面工艺。1970年,通用微电子与通用仪器公司,开发MOS集成电路。(MOS金属,氧化物,半导体。)集成度高,低功耗,制作

14、简单,成为IC发展方向。1965年 摩尔(Gordon Moore)发表了一篇不起眼的文章往集成电路里塞进更多元件,总结出“摩尔定律”:半导体芯片上集成的晶体管和电阻数量将每年翻一番。他是根据器件的复杂性(电路密度提高而价格降低)和时间之间的线性关系作出这一推断的,他的原话是这样说的:最低元件价格下的复杂性每年大约增加一倍。在1965-1975年期间平均是17个月;在1975-1985年期间是22个月,在1985-1995年期间延长到了平均32个月,在1995-2003年期间又缩短到22-24个月。18个月是市场媒体的夸张。每18个月2年集成度提高一倍。 1971年11月,第一个微处理器(CP

15、U)Intel 4004,含3300个晶体管,1990年。奔腾CPU,含14万以上。半导体晶体管可以继续发展,直到其尺寸的极限到纳米之间,那可能是年的事情。摩尔定律是融科学、技术、经济学、社会学为一体的多学科、开放性的规律,反映市场的需求,也是厂商的响应,时间一到,它就得翻番。一般认为,摩尔定律能再适用10年左右。其制约的因素一是技术,二是经济。从技术的角度看,随着硅片上线路密度的增加,其复杂性和差错率也将呈指数增长,同时也使全面而彻底的芯片测试几乎成为不可能。一旦芯片上线条的宽度达到纳米(10-9米)数量级时,相当于只有几个分子的大小,这种情况下材料的物理、化学性能将发生质的变化,致使采用现行工艺的半导体器件不能正常工作,摩尔定律也就要走到它的尽头了。从经济的角度看,正如上述摩尔第二定律所述,目前是20-30亿美元建一座芯片厂,线条尺寸缩小到0.1微米时将猛增至100亿美元,比一座核电站投资还大。由于花不起这笔钱,迫使越来越多的公司退出了芯片行业。看来摩尔定律要再维

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