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1、请务必阅读正文之后的重要声明部分请务必阅读正文之后的重要声明部分 证券研究报告 专题研究报告 证券研究报告 专题研究报告 2020 年 2 月 27 日 2020 年 2 月 27 日 化工 光刻胶 国产化正当时 龙头公司放量在即 评级 买入 维持 评级 买入 维持 分析师 谢楠分析师 谢楠 执业证书编号 执业证书编号 S0740519110001 Email xienan 分析师 张波分析师 张波 执业证书编号 执业证书编号 S0740520020001 Email zhangbo 基本状况基本状况 上市公司数334 行业总市值 百万元 29837 3 行业流通市值 百万元 24309 3
2、行业行业 市场走势对比市场走势对比 相关报告相关报告 重点公司基本状况 重点公司基本状况 简称 股价 元 EPS PE 评级 2018 2019E 2020E 2021E 2018 2019E 2020E 2021E 雅克科技 41 15 0 29 0 58 0 75 0 98 6 5 70 9 54 9 42 0 买入 晶瑞股份 51 08 0 34 0 20 0 37 0 50 8 4 258 6 139 4 102 4 未评级 飞凯材料 22 39 0 67 0 58 0 71 0 86 13 0 38 8 31 6 26 1 未评级 备注 晶瑞股份及飞凯材料采用 wind 一致预期 投
3、资要点投资要点 光刻胶 光刻胶 光电信息行业光电信息行业图形化方案核心图形化方案核心材料材料 光刻胶是光刻工艺的关键化 学品 主要利用光化学反应将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基 片上 被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作 下游主要 用于集成电路 面板和分立器件等领域 是微细加工技术的关键性材料 行业需求不断增长 国内增速显著高于海外行业需求不断增长 国内增速显著高于海外 在下游半导体 LCD PCB 等 行业需求持续扩大的拉动下 全球光刻胶市场将持续扩大 据 IHS 2018 年全球光刻胶市场规模为 85 亿美元 2014 2018 年复合增速约 5 未来光 刻胶复合增速有
4、望维持 5 伴随着全球半导体 液晶面板以及消费电子等 产业向国内转移 国内对光刻胶需求量迅速增量 据前瞻产业研究院 2011 2017 年 国内光刻胶需求复合增速达 14 69 至 2017 年底已达 7 99 万吨 国内光刻胶市场规模复合增速达 11 59 至 2017 年底已达 58 7 亿 元 国外企业供应为主国外企业供应为主 光刻胶行业由于技术壁垒高并且要与光刻设备协同研 发 呈现出寡头竞争的格局 全球主要供应企业包括日本合成橡胶 东京 日化 罗门哈斯 日本信越和富士电子材料 占据全球 87 的市场份额 半导体光刻胶半导体光刻胶持续增长 国产厂商持续发力持续增长 国产厂商持续发力 伴随
5、着全球半导体行业的快 速发展 全球半导体光刻胶市场持续增长 据 SEMI 2018 年全球半导体光 刻胶市场规模 20 29 亿美元 同比增长 15 83 其中 中国 美洲 亚太 欧洲 日本分别占比 32 21 20 9 9 分产品来看 ArF 液浸 ArF 对应先进 IC 制程 市场份额占比最高 达到 41 未来随着多重曝光技术 的使用 ArF 光刻胶市场需求持续扩大 国内目前半导体光刻胶供应商主要 包括晶瑞股份 北京科华 南大光电等 晶瑞股份 i 线光刻胶量产 KrF 光刻胶处于研发阶段 北京科华 KrF 光刻胶已向中芯国际等企业供货 ArF 光刻胶处于研发阶段 南大光电拟在宁波经济开发区
6、建设 25吨 KrF光刻胶 LCDLCD 光刻胶光刻胶中国需求迎来快速增长中国需求迎来快速增长 随着全球面板产能陆续向中国大陆转 移 国内 LCD 光刻胶需求快速增长 据 CINNO Research 2022 年大陆 TFT Array 正性光刻胶需求量将达到 1 8 万吨 彩色光刻胶需求量为 1 9 万吨 黑色光刻胶需求量为 4100 吨 光刻胶总产值预计高达 15 6 亿美金 投资建议投资建议 随着下游电子行业持续往中国转移 相关半导体及面板企业持 续扩产 中国光刻胶行业有望迎来从量变到质变的跨越 相关企业有望通 过下游认证 迎来快速发展 建议关注雅克科技 晶瑞股份 飞凯材料 请务必阅读
7、正文之后的请务必阅读正文之后的重要声明重要声明部分部分 2 专题研究报告专题研究报告 风险提示事件 风险提示事件 光刻胶研发不及预期 光刻胶下游客户认证不及预期 oPnOtNzQnMoOtMnOpQsOrQaQdN6MtRrRmOqQjMoOnPfQmOqP8OtRmPMYrRpQvPnMpM 请务必阅读正文之后的请务必阅读正文之后的重要声明重要声明部分部分 3 专题研究报告专题研究报告 内容目录内容目录 1 1 光刻胶光刻胶 6 1 1 光刻胶概况 6 1 2 光刻胶主要用于图形化工艺 8 1 3 光刻胶分类 9 2 2 光刻胶市场空间光刻胶市场空间 10 2 1 光刻胶需求不断增长 10
8、2 2 光刻胶竞争格局 11 3 3 光刻胶分类光刻胶分类 12 3 1 半导体光刻胶 12 3 2LCD 光刻胶 15 4 4 相关上市公司相关上市公司 18 4 1 雅克科技 18 4 2 晶瑞股份 18 4 3 飞凯材料 19 5 5 风险提示风险提示 21 请务必阅读正文之后的请务必阅读正文之后的重要声明重要声明部分部分 4 专题研究报告专题研究报告 表目录表目录 图图 1 1 旋涂于硅片上的光刻胶 旋涂于硅片上的光刻胶 6 图图 2 2 光刻胶主要成分占比 光刻胶主要成分占比 6 图图 3 3 主要的光刻胶体系 主要的光刻胶体系 7 图图 4 4 光刻胶主要用于半导体图形化工艺 光刻
9、胶主要用于半导体图形化工艺 8 图图 5 5 TFTTFT LCDLCD 光刻工艺示意图光刻工艺示意图 9 图图 6 6 光刻胶按反应原理分类 光刻胶按反应原理分类 9 图图 7 7 光刻胶按下游应用分类 光刻胶按下游应用分类 9 图图 8 8 全球光刻胶市场规模及增速 全球光刻胶市场规模及增速 10 图图 9 9 光刻胶下游应用结构 光刻胶下游应用结构 10 图图 1010 中国光刻胶市场规模 需求量及均价 中国光刻胶市场规模 需求量及均价 10 图图 1111 中国光刻胶产量及本土产量 中国光刻胶产量及本土产量 10 图图 1212 国内光刻胶产值份额 国内光刻胶产值份额 11 图图 13
10、13 全球光刻胶格局 全球光刻胶格局 11 图图 1414 全球半导体市场及增速 全球半导体市场及增速 12 图图 1515 国内半导体行业发展迅速 国内半导体行业发展迅速 12 图图 1616 全球各地区半导体材料市场占比 全球各地区半导体材料市场占比 12 图图 1717 半导体制造材 半导体制造材料占比料占比 12 图图 1818 全球半导体光刻胶市场规模及增速 全球半导体光刻胶市场规模及增速 13 图图 1919 全球半导体光刻胶市场份额 按区域 全球半导体光刻胶市场份额 按区域 13 图图 2020 半导体光刻胶 半导体光刻胶 13 图图 2121 半导体光刻胶分类 半导体光刻胶分类
11、 13 图图 22 全球面板需求面积及增速 全球面板需求面积及增速 15 图图 23 中国厂商 中国厂商 TFT LCD 产能快速增长产能快速增长 15 图图 24 中国大陆面板光刻胶市场需求量 中国大陆面板光刻胶市场需求量 15 图图 25 LCD 光刻胶光刻胶种类及主要供应商种类及主要供应商 16 图图 26 彩色和黑色光刻胶的应用 彩色和黑色光刻胶的应用 16 图图 27 TFT Array 正性光刻胶的应用正性光刻胶的应用 17 图图 28 中国 中国 LCD 光刻胶进展光刻胶进展 17 图图 2929 公司营业收入及增速 公司营业收入及增速 18 图图 3030 公司归母净利润及增速
12、 公司归母净利润及增速 18 图图 3131 晶瑞股份营业收入及增速 晶瑞股份营业收入及增速 19 图图 3232 晶瑞股份归母净利润及增速 晶瑞股份归母净利润及增速 19 图图 3333 飞凯材料营业收入及增速 飞凯材料营业收入及增速 20 请务必阅读正文之后的请务必阅读正文之后的重要声明重要声明部分部分 5 专题研究报告专题研究报告 图图 3434 飞凯材料归母净利润及 飞凯材料归母净利润及增速增速 20 请务必阅读正文之后的请务必阅读正文之后的重要声明重要声明部分部分 6 专题研究报告专题研究报告 1 1 光刻胶光刻胶 1 11 1 光刻胶概况光刻胶概况 光刻胶又称光致抗蚀剂 是光刻工艺
13、的关键化学品 主要利用光化学反应将所需要 的微细图形从掩模版转移到待加工基片上 被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路 的加工制作 下游主要用于集成电路 面板和分立器件的微细加工 同时在 LED 光 伏 磁头及精密传感器等制作过程中也有广泛应用 是微细加工技术的关键性材料 光 刻胶的主要成分为树脂 单体 光引发剂及添加助剂四类 其中 树脂约占 50 单 体约占 35 图图 1 1 旋涂于硅片上的光刻胶旋涂于硅片上的光刻胶 图图 2 2 光刻胶主要成分占比光刻胶主要成分占比 资料来源 信越集团官网 中泰证券研究所 资料来源 现代化工 中泰证券研究所 光刻胶自 1959 年被发明以来就成为半导体工
14、业最核心的工艺材料之一 随后光刻 胶被改进运用到印制电路板的制造工艺 成为 PCB 生产的重要材料 二十世纪 90 年 代 光刻胶又被运用到平板显示的加工制作 对平板显示面板的大尺寸化 高精细化 彩色化起到了重要的推动作用 在微电子制造业精细加工从微米级 亚微米级 深亚微 米级进入到纳米级水平的过程中 光刻胶起着举足轻重的作用 在此过程中 光刻技术经历了紫外全谱 300 450nm G 线 436nm I 线 365nm 深紫外 DUV 包括 248nm 和 193nm 和极紫外 EUV 六个阶段 相 对应于各曝光波长的光刻胶也应运而生 光刻胶中的关键配方成份 如成膜树脂 光引 发剂 添加剂也
15、随之发生变化 使光刻胶的综合性能更好地满足工艺要求 目前因为较 为广泛的主要包括以下光刻胶 g 线光刻胶对应曝光波长为 436nm 的 g 线 制作 0 5 m 以上的集成电路 i 线光刻胶对应曝光波长为 365nm 的 i 线 制作 0 5 0 35 m 的集成电路 g 线和 i 线光刻胶是目前市场上使用量最大的光刻胶 都以正胶为主 主要原料 为酚醛树脂和重氮萘醌化合物 KrF 光刻胶对应曝光波长为 248nm 的 KrF 激光光源 制作 0 25 0 15 m 的 集成电路 正胶和负胶都有 主要原料为聚对羟基苯乙烯及其衍生物和光致产 酸剂 KrF 光刻胶市场今后将逐渐扩大 50 50 35
16、 35 15 15 树脂 单体 光引发剂及助剂 请务必阅读正文之后的请务必阅读正文之后的重要声明重要声明部分部分 7 专题研究报告专题研究报告 ArF光刻胶对应曝光波长为193nm的ArF激光光源 ArF干法制作 65 130 nm 的集成电路 ArF 浸湿法可以对应 45nm 以下集成电路制作 ArF 光刻胶是 正胶 主要原料是聚脂环族丙烯酸酯及其共聚物和光致产酸剂 ArF 光刻胶市 场今后将快速成长 图图 3 3 主要的光刻胶体系主要的光刻胶体系 光刻胶体系光刻胶体系 成膜树脂成膜树脂 感光剂感光剂 光刻波长光刻波长 技术节点及技术节点及 用用 聚乙烯醇肉桂酸聚乙烯醇肉桂酸 酯系负性光刻胶酯系负性光刻胶 聚乙烯醇肉桂酸酯 成膜树脂自身 紫外全谱 300 450nm 3 m 以上集成电路和半导 体器件 环化橡胶环化橡胶 双叠氮双叠氮 负胶负胶 环化橡胶 芳香族双叠氮化合 物 紫外全谱 300 450nm 2 m 以上集成电路和半导 体器件 酚醛树脂酚醛树脂 重氮萘重氮萘 醌正胶醌正胶 酚醛树脂 重氮萘醌化合物 G 线 436nm I 线 365nm 0 5 m 以上集成电路 0 35
