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1、第四章薄膜材料与工艺 1 电子封装中至关重要的膜材料及膜技术1 1薄膜和厚膜1 2膜及膜电l路的功能1 3成膜方法1 4电路图形的形成方法1 5膜材料2 薄膜材料2 1导体薄膜材料2 2电阻薄膜材料2 3介质薄膜材料2 4功能薄膜材料 1 电子封装工程中至关重要的膜材料及膜技术 薄膜和厚膜电子封装过程中膜材料与膜技术的出现及发展 源于与电器 电子装置设备向高性能 多功能 高速度方向发展及信息处理能力的急速提高系统的大规模 大容量及大型化要求构成系统的装置 部件 材料等轻 薄 短 小化晶体管普及之前真空电子管的板极 栅极 灯丝等为块体材料 电子管插在管座上由导管连接 当时并无膜可言20世纪60年
2、代 出现薄膜制备技术在纸 塑料 陶瓷上涂刷乃至真空蒸镀 溅射金属膜 用以形成小型元器件及电路等进入晶体管时代从半导体元件 微小型电路到大规模集成电路 膜技术便成为整套工艺中的核心与关键 1 电子封装工程中至关重要的膜材料及膜技术 薄膜和厚膜与三维块体材料比较 一般地 膜厚度很小 可看作二维膜又有薄膜和厚膜之分经典分类 厚膜制作方法分类 块体材料制作的 如经轧制 锤打 碾压等 厚膜膜的构成物一层层堆积而成 薄膜 膜的存在形态分类 只能成形于基体之上的 薄膜 包覆膜 沉积膜 基体表面由膜物质沉积析出形成化合形成膜 通过对基体表面进行化学处理形成 在物理沉积过程中伴随有表面参与的化学反应 1 电子封
3、装工程中至关重要的膜材料及膜技术 薄膜 厚膜区分通常无实际意义针对具体膜层形成方法膜层材料界面结构结晶状态晶体学取向微观组织各种性能和功能进行研究更有用电子封装工程涉及膜层 膜厚 数百微米按膜层的形成方法 真空法 干式 和溶液法 湿式 沉积得到的膜层 薄膜 为数微米浆料印刷法形成的膜层 厚膜 前者膜厚多 厚 200微米 薄膜的真空沉积法优点 可以得到各种材料的膜层镀料气化方式很多 如电子束蒸发 溅射 气体源等 控制气氛还可以进行反应沉积通过基板 镀料 反应气氛 沉积条件的选择 可以对界面结构 结晶状态 膜厚等进行控制 还可制取多层膜 复合膜及特殊界面结构的膜层等 由于膜层表面精细光洁 故便于通
4、过光刻制取电路图形可以较方便地采用光 等离子体等激发手段 在一般的工艺条件下 即可获得在高温 高压 高能量密度下才能获得的物质真空薄膜沉积涉及从气态到固态的超急冷 过程 因此可以获得特异成分 组织及晶体结构的物质由于在 工艺中薄膜沉积及光刻图形等已有成熟的经验 很便于在电子封装工程中推广 厚膜的丝网印刷法有优点 通过丝网印刷 可直接形成电路图形膜层较厚 经烧结收缩变得致密 电阻率低 容易实现很低的电路电阻导体层 电阻层 绝缘层 介电质层及其他功能层都可以印刷成膜容易实现多层化 与陶瓷生片共烧可以制取多层共烧基板设备简单 投资少 1 电子封装工程中至关重要的膜材料及膜技术膜及膜电路的功能 电气连
5、接印制线路板 的发明 使电路以膜的形式与基板作成一体 元器件搭载在基板上并与导体端子相连接 这对于整个系统的小型化 高性能 低功耗 高可靠性及经济性等方面都有重大贡献三维立体布线方式的 多层板 陶瓷多层共烧基板 积层多层板 复合多层板的出现 对于提高封装密度起着十分关键的作用 元件搭载 芯片装载在封装基板无论采用引线键合方式还是倒装片方式都离不开焊盘元器件搭载在基板上特别是 封装体实装在基板上 无论采用 等哪种方式 都离不开导体端子焊盘 端子都是膜电路的一部分 在许多情况下 引线端子节距的大小以及引线端子的排列方式是决定封装类型及封装密度的关键因素批量生产 来说 最小端子节距的界限为 若低于此
6、 则操作难度太大 成品率太低 元件搭载 想提高封装密度 需要由四侧引出端子的 方式转变为平面阵列布置端子的 方式这样 端子节距提高 的同时 反而降低了实装密度对 来说 端子节距由 降为 实装面积可减小到 特殊功能 泛指除电气连接 元件搭载 表面改性以外的所有其他功能涉及电阻膜 绝缘膜 介电质膜等 以LCD 液晶显示器 中所采用的 薄膜三极管 玻璃复合基板为例玻璃基板分前基板和后基板两块前基板 形成偏光膜 滤色膜 ITO膜 后基板上形成TFT ITO膜 金属布线及绝缘膜等液晶夹于二者之间受TFT控制的非晶硅 a Si 图像传感器按阵列布置在后基板上 并由Cr a Si ITO构成Cr肖特基二极管
7、布置在ITO膜上与驱动器相连接的布线导体要通过Cr Al实现多层化 以降低布线电阻 表面改性 与在LSI元件表面沉积SiO2 Si3N4等钝化膜用于绝缘 保护类似电子封装工程中也广泛用膜层作表面改性金属被釉基板 有机或无机绝缘层包覆的金属芯基板塑料表面电镀金属以增加耐磨性 降低接触电阻等 常用的方法有镀铑 镀金等 1 电子封装工程中至关重要的膜材料及膜技术成膜方法 按干式和湿式对分类干式 PVD 物理气相沉积 真空蒸镀 溅射镀膜 离子镀 化学气相沉积 湿式 电镀 化学镀 阳极氧化 溶胶 凝胶 厚膜印刷法 典型的成膜方法真空蒸镀及溅射法 真空蒸镀 是将镀料在真空中加热 蒸发 使蒸气的原子或原子团
8、在温度较低的基板上析出形成薄膜的方法主要用于Au Cu Ni Cr等导体材料及电阻材料成膜不同的镀料及不同的沉积速率要选择不同的加热方法 溅射镀膜 是将放电气体导入真空 在辉光放电等离子体中产生的正离子加速轰击处于阴极的靶材 使溅射出的原子沉积在基板上的方法从道理上讲 这种方法可以在任何基板上沉积任何物质的薄膜 但一般多用于氧化物 氮化物等绝缘材料及合金材料的成膜 典型的成膜方法 法 泛指由气态原料通过化学反应生成固体薄膜的沉积过程该反应可以是气态化合物由基板表面向其内部的扩散 气态化合物与基板表面的反应 气态化合物的分解 或者是气态化合物之间的反应等这些反应的共同特点是 至少要有一种固态产物
9、生成 并且以薄膜的形态沉积在基板表面上化合物蒸气一般是常温下具有较高蒸气压的气体 多采用碳氢化物 氢氧化物 卤化物 有机金属化合物等 法成膜材料范围广泛 除碱金属 碱土金属之外 几乎所有材料均可以成膜 特别适用于绝缘膜 超硬膜等特殊功能膜的沉积 典型的成膜方法厚膜印刷法 是按功能要求将金属 金属氧化物 玻璃粘结剂等的粉末同有机粘结剂 表面活性剂 有机溶剂等均匀混合 调制成符合丝网印刷要求的浆料 利用丝网印刷等工艺 在基板上印刷图形 经烧成 有机粘结剂挥发而成膜的方法特点 工艺简单 设备投资少 在低价格的优势下可大量生产导体 电阻体 介电体等厚膜特别是可直接印刷电路图形 典型的成膜方法电镀和化学
10、镀成膜 是依靠电场反应 使金属从金属盐溶液中析出成膜的方法电镀促进电场析出的还原能量由外部电源提供化学镀需添加还原剂 利用自分解而成膜电镀或化学镀成膜的特点可对大尺寸基板大批量成膜 与其他成膜方法相比 设备投资低需要考虑环境保护问题 1 电子封装工程中至关重要的膜材料及膜技术电路图形的形成方法 各种成膜方法形成的膜层 应用于电子工业 如电子元器件制造 电子封装 平板显示器 都需要形成电路图形形成方法包括 有填平法 蚀刻法 掩模法 厚膜印刷 丝网印刷 法 喷沙法 填平法 先将光刻胶涂敷 甩胶 或将光刻胶干膜贴附 贴膜 于基板表面 经光刻形成 负 的电路图形 即没有电路的部分保留光刻胶以此负图形为
11、 模型 在其槽中印入导电浆料或沉积金属膜层 即所谓 填平 最后将残留的光刻胶剥离缺点 采用印刷法填平时 导电胶膜中容易混入气泡 蚀刻法 化学蚀刻法 印刷电路图形材料的浆料 烧成涂布光刻胶 电路图形掩模曝光化学蚀刻去除部分光刻胶有机溶剂去除掉电路图形不对应部分的电极材料问题使用有机溶剂 废液处理比较困难有时线条会出现残差 残留 通常 不需要部位的电路图形材料应完全去除实际上 电路图形材料经烧成 化学蚀刻形成图形后 应该去除的部分往往不能完全去除掉 而是有一部分残留下来 蚀刻法 薄膜光刻法 用磁控溅射 真空蒸镀等先在整个基板表面形成电路材料的薄膜光刻制取电路图形可以获得精细度很高的图形所形成膜层的
12、质量高膜厚可精确控制缺点 设备投资大工艺不容易掌握 掩模法 工艺过程机械或光刻制作 正 掩模将掩模按需要电路图形位置定位真空蒸镀等方法成膜借助 正 的掩模 基板表面形成所需要的电路图形优点工序少 电路图形精细度高缺点需要预先制作掩模有些薄膜沉积技术 如溅射镀膜 离子镀等 不便于掩模沉积 厚膜印刷法 工艺过程通过网版在基板表面印刷厚膜导体浆料 形成与网版对应的图形经烧成法形成电路图形特点浆料仅印刷在需要的部位 因此材料的利用率高印刷机的价格较低 可降低设备总投资缺点线条精细度差图形分辨率低多次印刷难以保持图形的一致性 喷沙法 工艺过程 在基板全表面由电路图形材料成膜在表面形成光刻胶图形经喷沙去除
13、掉不需要的材料部分 保留光刻胶图形覆盖的部分剥离光刻胶后得到所需要的电路图形优点采用光刻制版技术 能形成精细的电路图形缺点喷沙过程中会产生灰尘 1 电子封装工程中至关重要的膜材料及膜技术膜材料 下表列出与电子封装工程相关的各类膜材料 同时给出用途 性质及成膜方法等 薄膜材料导体薄膜材料 材料的种类及性质导体薄膜的主要用途形成电路图形 为半导体元件 半导体芯片 电阻 电容等电路搭载部件提供电极及相互引线 以及金属化等为保证金属 半导体间连接为欧姆接触 要求 金属与半导体的结合部位不形成势垒对于 型半导体 金属的功函数要比半导体的功函数小对于 型半导体 与上述相反金属与半导体结合部的空间电荷层的宽
14、度要尽量窄 电子直接从金属与半导体间向外迁移受到限制等 2 薄膜材料 导体薄膜材料电阻薄膜材料介质薄膜材料功能薄膜材料 2 薄膜材料导体薄膜材料 材料的种类及性质实际情形随半导体的表面处理 在导体和半导体表面往往会存在薄的氧化膜 但电子通过隧道效应可穿过此膜层 因此并不存在很大的问题依表面处理条件不同 半导体的表面状态会发生变化 相应金属及半导体的功函数也会发生变化功函数还与表面能级 晶体取向等相关 必须注意其值的变化 2 薄膜材料导体薄膜材料 材料的种类及性质其他布线及电极用的导体材料 还应具有下述特性 电导率要高对电路元件不产生有害影响 为欧姆连接热导率高 机械强度高 对于碱金属离子及湿度
15、等的电化学反应要尽量小高温状态 电气特性也不发生变化 不发生蠕变现象附着力大 成膜及形成图形容易可形成电阻 电容 可进行选择性蚀刻可进行 丝 丝引线键合及焊接等加工 2 薄膜材料导体薄膜材料 材料的种类及性质实际情形单一种导体不可能满足上述所有要求构成电子电路往往需要多种导体膜的组合 2 薄膜材料导体薄膜材料 而且相互连接及电极中往往也不是采用单一金属 而是多种导体膜积层化 以达到上述各种要求多层金属组合的实例 2 薄膜材料导体薄膜材料 多层组合薄膜说明导体的表面方阻均在 以下进一步降低电阻 需要在 膜上再电镀 所列的材料组合之外 在半导体 的电极凸点及梁式引线部分 还采用 等组合 以及 等金
16、属硅化物作导体 可满足上述条件中的大部分单独使用时与基板及 等膜层的附着力太低往往在最底层采用 等附着性好的膜层最上层采用容易热压附着或容易焊接的 及 等但两种金属薄膜相互结合时 往往在比块体材料更低的温度下就产生明显扩散 生成化合物 2 薄膜材料导体薄膜材料 特点 基 常用导体材料与作为 保护膜的 间的附着力大对于 型及 型 都可以形成欧姆接触可进行引线键合电气特性及物理特性等也比较合适价格便宜作为 用的导体普遍采用但随环境 气氛温度上升 与 发生相互作用 生成金属间化合物 致使接触电阻增加 进而发生接触不良 当 中通过高密度电流时 向正极方向会发生 的迁移 即所谓电迁移在 以上 会浸入下部的介电体中在 元件中难以使用尽管 的电阻率低 与 不相上下 但由于与水蒸气及氧等发生反应 其电阻值会慢慢升高 Al与Au会形成化合物Al端子与Au线系统在300 下放置2 3 或者使气氛温度升高到大约 其间的相互作用会迅速发生 致使键合部位的电阻升高此时 上 下层直接接触 Au Al之间形成脆 弱AuAl2 AuxAl等反应扩散层 造成键合不良采用Au Au组合或Al Al组合 在Au Al层间设
