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1、镀膜的膜系结构和性能 光学薄膜 n光学薄膜有改变电磁波的路径的特性 n光学薄膜很薄时就会产生干涉，当光 学薄膜很厚时就产生不了干涉 n当我们把很薄的膜组合起来就有很多 新的特性产生 光学薄膜的作用 反射 吸收 镀膜玻璃的一些参数解释 nE值：辐射率。辐射率是指透过玻璃的远红外线与 入射远红外线之比。辐射率越小，通过膜层反射 回去的热量越多，隔热效果越好。 （ E=0.0129R- 6.7-5R2） nK值（U值）：是指在稳定传热条件下，玻璃两侧 空气温度差为1时，单位时间内通过1平方米中 空玻璃的传热量，以W/m2K表示。K值越低，说 明中空玻璃的保温隔热性能越好，节能效果越显 著。 nG值：
2、G值是太阳能获得值（遮荫系数）。它是用 来衡量太阳能总透过率的量。南方地区要求G值 越低越好，北方地区要求G值越高越好。 八种膜系 阳光控制膜/TS、TE系列 TiN GLASS 特点： 1、容易生产，色差难 控制，化学稳定性差 ； 2、颜色：银白色、蓝 色和棕色； 3、透光度：1040%； 4、g值：0.20.5。 阳光控制膜/SS系列 TiN SS GLASS 特点： 1、容易生产，色差难 控制，化学稳定性 差； 2、颜色：银白色； 3、透光度：820%； 4、g值：0.20.3。 阳光控制膜（目前欧洲市场流行的膜系） CrNx/NiCrNx Si3N4 SnO2 GLASS 特点： 1、
3、造价高，抗磨损； 2、颜色：银白色、蓝 色、金色和棕色； 3、透光度：820%； 4、g值：0.20.3。 阳光控制膜/可热处理的膜系 TiO2 CrNx/NiCrNx Si3N4 GLASS Si3N4 特点： 1、造价高，抗磨损； 2、颜色：银白色、灰 色、蓝色、绿色和棕色； 3、透光度：840%； 4、可钢化，且颜色不会 变化 。 标准Low-E膜 ZnO Ag TiO2 GLASS NiCrOx Si3N4 特点： 1、透光度：83%； 2、E值：0.06； 3、g值：0.550.6。 阳光Low-E膜 NiCrOx Ag TiO2 GLASS NiCrOx Si3N4 特点： 1、透
4、光度：48%； 2、E值：0.1； 3、g值：0.50.55 可钢化Low-E膜 TiO2 GLASS Ag NiCrOx Si3N4 NiCrOx TiO2 特点： 1、透光度：82%； 2、颜色：银白色 、灰色、棕色、蓝 色和绿色； 3、E值：0.06； 4、g值：0.550.6。 双银Low-E膜 GLASS ZnO Ag TiO2 NiCrOx Si3N4 ZnO Ag TiO2 NiCrOx 特点： 1、透光度：75%； 2、E值：0.04； 3、g值：0.40.5。 小结：从以上8种膜系我们可以看 到它们的各个性能是不同的 ，每 一种膜系的性能是取决于它内部 每一层膜的性能、厚度及
5、排布决 定的。 从膜层的功能来描述 n底层电介质层： 1、决定银层的增长情况 2、用于降低银层的反射率 3、阻挡钠在钢化过程中从玻璃扩散到膜层中 4、通常材料为ZnO、SnO、TiO以及其混合物 n n 银层：银层： 1 1、着床形式决定银层的质量、着床形式决定银层的质量 2 2、厚薄及质量决定了辐射率、厚薄及质量决定了辐射率 3 3、较薄的连续性结构的膜层可在相同的、较薄的连续性结构的膜层可在相同的 辐射率情况下具有更高的透过率辐射率情况下具有更高的透过率 n阻挡层（保护层） 1、保护银层免受沉积过程中等离子体的 破坏 2、保护银层免受钢化过程中氧气和其它 污染物的侵袭 3、通过影响银层与顶
6、层电介质层之间的 附着力来改善膜层的耐磨性 n顶层电介质层 1、与最后的银层间的附着力对耐磨性的 影响非常大 2、决定膜系的耐刮伤性、耐磨性和耐化 学侵袭性 单层膜的性能 nZnO膜：是银膜的种子膜层。这是由于ZnO 膜具有光滑的特性，能使上面的银膜更均 匀，提高银膜的性能，增强膜系的透过率 与辐射率。 缺点： 1、抗酸/碱能力有限 2、由于增长结构的原因，材料容易扩散 3、抗刮伤能力有限 nSnO膜： 1、耐酸/碱性好 2、扩散层得到改善，尤其是与锌混合使用时 3、与镀有镍铬阻挡层的银层之间有足够的附 着力 4、抗划伤性能力有限（但合格） nSi3N4膜： 1、在所有材料中，它的耐酸/碱性最
7、好 2、最好的扩散层，通常用于半导体行业 3、与镀有镍铬的银层之间有足够的附着力 4、抗划伤性最好 5、可直接镀于玻璃面上作钠离子阻挡层 6、与银层的亲和性非常差 nTiO膜： 1、具有足够的耐酸/碱性 2、能够用作扩散层 3、与镀有钛阻挡层的银层之间有良好的附着力 4、高折光指数意味着因刮擦而引起的膜层厚度 微小变化会显示较大的光学影响（不太适宜 做顶层电介质层） 5、具有好的折射率，能改善透光率（适宜做低 层电介质层） nNb2O5膜： 1、具有好的折射率，能改善透光率（适宜做 低层电介质层） 2、沉积速度较快，但价格太贵，一般不用 nBi2O3膜： 1、具有好的折射率，能改善透光率（适宜
8、做 低层电介质层） 2、沉积速度较快，但靶材的加工制造非常难 3、可靠性存在问题 4、沉积工艺难 5、仅用于Interpane的专利工艺 nNiCr膜： 1、是银层和SnO或Si3N4层之间具有良好附着 力的必须 2、可作钠离子的阻挡层，是银层很好的保护 层 缺点：吸收性太强 nITO膜： 1、既能导电，透明性又好，是最好的玻璃镀 膜材料，但价钱太贵 2、是优良的阻挡层 3、皮尔金顿采用 4、一般用做显示器镀膜材料 其它 nAl2O3、HfO2、Pr2O3、MgO膜：一般应用 于光学镀膜，少用于玻璃镀膜 nSiO2膜：一般应用于反反射膜，少用于玻 璃镀膜（反反射膜是指镀上膜后，不会反 光，看不清楚） nZrO2、Ta2O5、CeO2膜：一般少用于玻璃 镀膜
