半导体基础1综述

上传人:我** 文档编号:114707871 上传时间:2019-11-12 格式:PPT 页数:33 大小:3.26MB
返回 下载 相关 举报
半导体基础1综述_第1页
第1页 / 共33页
半导体基础1综述_第2页
第2页 / 共33页
半导体基础1综述_第3页
第3页 / 共33页
半导体基础1综述_第4页
第4页 / 共33页
半导体基础1综述_第5页
第5页 / 共33页
点击查看更多>>
资源描述

《半导体基础1综述》由会员分享,可在线阅读,更多相关《半导体基础1综述(33页珍藏版)》请在金锄头文库上搜索。

1、,半导体的概念 半导体的材料 半导体的加工流程 生产环境(洁净室),2003.4 营业开发部岩井田,半导体的概念,单晶半导体是由单一的硅元素和锗元素形成的。硅元素和锗元素的原子最外层都有4个价电子。这些电子是原子间共有的,价电子数为8个时,原子之间呈安定的结合状态(这种结合叫做共有结合)。,单晶半导体(图1),单晶半导体,N型半导体,P型半导体,(图),(图),IC和LSI,硅元素等半导体材料形成P型和N型半导体后,各半导体之间使用铝来连线。,IC的种类,半导体的材料,一般来说半导体是由高纯度的硅元素形成的单晶硅()制成的。 最近电子流速更快,含有镓,砒等的元素的有机化合物的使用有所增加。,硅

2、元素资源很丰富,将矿物制成单晶体的过程中,原子既有一个一个排得非常整齐的情况,也有排得不整齐的情况地出现。硅元素也是一样,有时会形成单晶体,但大多数时候是以多晶体状态存在的。多结晶体是指多个单结晶体单纯的聚在一体的状态。因此,为了形成单结晶体,要将种结晶投入硅元素的溶化液中,才会形成单晶硅。,半导体的加工过程(前工程),切断(铸块切断),装置外观,切断工程的空气压元件用途,(薄膜工程),实际上这个工程要反复操作多回,涂布感光材,酸化膜形成,曝光,现象,刻蚀,扩散炉,涂膜显影机,曝光装置,nm,nm,nm,nm,半导体设计规则,(nm),(nm),(nm),(nm),(nm),光罩(回路原版),

3、装置名:曝光机,刻蚀装置,(配線工程),実際何回繰返,最終検査,注入,実際、配線膜工程後、平坦化洗浄工程,装置外观,离子注入装置,(PVD),CMP装置,清洗装置,用刷子对晶片直接清洗 超音波清洗 喷水清洗 臭氧清洗等 干燥空气刀IPA洗净、真空干燥、发热板等,后工程,粘贴,将从晶片上切割下来的IC芯片粘贴在导线基板架或胶片上。,打线,用导线将IC芯片和导线基板架或胶片之间熔接起来的装置。一般使用金线。,封装,用环氧树脂对安装了IC芯片的导线基板架进行成型封装,形成最终制品。,切割,在晶片表面粘贴了粘着带之后,用钻石切刀将晶片切割成为一个个小芯片。,切割 进行晶片检查后,用钻石切刀将晶片切割成一个个小芯片。,芯片粘贴机 将从晶片上切割下来的芯片粘贴在导线基板架上(形成了具有外部导线的金属基板)的粘贴装置。,打线 用金线将IC芯片和导线基板架之间熔接起来的装置。,封装装置 用环氧树脂对安装了IC芯片的导线基板架进行成型封装。,检查工程,IC检测机,对装着好的IC,进行通电检查,耐温试验,温度(高温、低温)的环境下,可以进行温度疲劳等的检查検査。,生产环境(洁净室),

展开阅读全文
相关资源
相关搜索

当前位置:首页 > 高等教育 > 大学课件

电脑版 |金锄头文库版权所有
经营许可证:蜀ICP备13022795号 | 川公网安备 51140202000112号