南邮半导体物理期末复习资料

上传人:f****u 文档编号:109442385 上传时间:2019-10-26 格式:PDF 页数:13 大小:1.01MB
返回 下载 相关 举报
南邮半导体物理期末复习资料_第1页
第1页 / 共13页
南邮半导体物理期末复习资料_第2页
第2页 / 共13页
南邮半导体物理期末复习资料_第3页
第3页 / 共13页
南邮半导体物理期末复习资料_第4页
第4页 / 共13页
南邮半导体物理期末复习资料_第5页
第5页 / 共13页
点击查看更多>>
资源描述

《南邮半导体物理期末复习资料》由会员分享,可在线阅读,更多相关《南邮半导体物理期末复习资料(13页珍藏版)》请在金锄头文库上搜索。

1、第一章习题第一章习题 1 设晶格常数为 a 的一维晶格,导带极小值附近能量 Ec(k)和价带极大值附近 能量 EV(k)分别为: Ec= 0 22 0 1 22 0 2 1 2 0 22 3 6 )(, )( 3m kh m kh kE m kkh m kh V 0 m。试求:为电子惯性质量,nma a k314. 0, 1 (1)禁带宽度; (2)导带底电子有效质量; (3)价带顶电子有效质量; (4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化 解:(1) eV m k EkEE Ek mdk Ed k m k dk dE Eckk mmmdk Ed kk m kk m k VCg V V V c

2、 64. 0 12 )0() 4 3 ( 0, 0 6 00 6 4 3 0 3 82 3 2 4 3 0 )(2 3 2 0 2 1 2 1 0 2 2 2 0 2 0 2 0 2 0 2 2 2 1 0 1 2 0 2 因此: 取极大值处,所以又因为 得 价带: 取极小值处,所以:在 又因为: 得: 由 导带: 0 4 3 2 2 2 * 8 3 )2( 1 m dk Ed m kk C nC 一阶求导 二阶求导,证明极大极 小值 极大值减极小值得到禁带 宽度 sNkkkp kp m dk Ed m k kk k V nV /1095. 70 4 3 )()( )4( 6 )3( 25 1

3、0 4 3 0 0 2 2 2 * 1 1 所以: 准动量的定义: 2. 晶格常数为 0.25nm 的一维晶格,当外加 10 2V/m,107 V/m 的电场时,试分别 计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。 解:根据: t dk hqEf d 得k h dd qE t sdK qE h t sdK qE h t 13 2a 1 0 2 8 2a 1 0 1 103.8 103.8 7. 在室温下,锗的有效态密度 Nc=1.0510 19cm-3,N V=3.910 18cm-3,试求锗的载 流子有效质量 m * n m * p。计算 77K 时的 NC和 NV。 已知 300K 时,Eg=

4、0.67eV。77k 时 Eg=0.76eV。求这两个温度时锗的本征载流子浓度。77K 时,锗的电子浓度 为 10 17cm-3 ,假定受主浓度为零,而 Ec-ED=0.01eV,求锗中施主浓度 ND为多少? 3173183 3183193 3 /1008. 5 300 77 109 . 3 300 77 /1037. 1 300 77 1005. 1 300 77 300 77 772 cmNN cmNN T T KN KN NNK VV CC C C VC )()( )()( )( )( 、时的)( kgm N Tk m kgm N Tk m Tmk N Tmk N v p c n p v

5、 n c 31 0 3 1 2 0 2 31 0 3 2 0 2 2 3 2 0 2 3 2 0 106.229.0 2 2 101.556.0 2 2 ) 2 (2 ) 2 (21.7 得 )根据( 求 NC NV 8. 利用题 7 所给的 Nc和 NV数值及 Eg=0.67eV,求温度为 300K 和 500K 时,含施 主浓度 ND=510 15cm-3,受主浓度 N A=210 9cm-3的锗中电子及空穴浓度为多少? 317 18 17 17 0 0 37772 76. 0 2 1 1718 3133002 67. 0 2 1 1819 22 1 /1017. 1) 1037. 1 1

6、0 067. 0 01. 0 21 (10)21 ( 21 21exp21 /1098. 1)1008. 51037. 1 (77 /107 . 1)109 . 31005. 1 ( )()3( 000 0 0 cme N n koT E enN e N e NN nn cmenK cmen eNNn C oD D N n Tk E D Tk EEEE D Tk EE D D k i k i koT Eg vci C oDFCcDFD 时, 室温: 315 0 315 0 310 0 315 0 2 1 22 0 2 1 22 0 2 0 2 0 2 00 00 315 2 1 3132 2

7、1 /1084.4 /1084.9 500 /108 /105 300 ) 2 ( 2 ) 2 ( 2 0)( 0 /109.6)(500 /100.2)(300.8 0 2 0 cmp cmn Kt cmp cmn KT n NNNN p n NNNN n nNNnn npn NNpn cmeNNnK cmeNNnK i DADA i ADAD iAD i AD VCi Tk E Vci Tk g e g 时: 时: 根据电中性条件: 时: 时: 求本征载流子浓度 电子浓度 空穴浓度 电中性条件 施主浓度 14.14. 计算含有施主杂质浓度为计算含有施主杂质浓度为 N ND D=9=9 10

8、10 1515cm cm -3-3, ,及受主杂质浓度为及受主杂质浓度为 Na=Na=1.11.1 1010 1 16 6cm cm 3 3, , 的硅在的硅在 33K33K 时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。 eV n p TkEE eV N p TkEE cm p n n cmNNp cmnSiKT i iF v VF i DA i 336. 0 105 . 1 102 ln026. 0ln 224. 0 101 . 1 102 ln026. 0ln 10125. 1 102 ,105 . 1300 10 15 0 0 61 15 0 0 35 0

9、 2 0 315 0 310 或: 饱和区流子浓度,处于强电离掺杂浓度远大于本征载 的本征载流子浓度时,解: 18.18. 掺磷的掺磷的 n n 型硅型硅,已知磷的电离能为已知磷的电离能为. .eVeV,求室温下杂质一半电离时求室温下杂质一半电离时 费米能级的位置和浓度。费米能级的位置和浓度。 3 18 026. 0 062. 0 19 00 0 0 /191015. 5%50 31054. 2108 . 2 534. 0,12. 1: 062. 0 2ln026. 0044. 02ln2ln 2ln . 2 2 1 2 1 1 .18 0 cmNNn cmeeNn eVEEeVEsi eVE

10、 ETkEETkEE TkEE eNn Tk EE e N n DD Tk EE c iFg c CDCDF DF koT EE DD FD D D FC FD 则有 解: 空穴浓度 电子浓度 费米能级位置 电离公式 能级位置 浓度 第四章习题及答案第四章习题及答案 2.试计算本征 Si 在室温时的电导率,设电子和空穴迁移率分别为 1350cm2/Vs 和 500 cm2/Vs。当掺入百万分之一的 As 后,设杂质全部电离,试计算其电导率。 掺杂后的电导率比本征 Si 的电导率增大了多少倍? 解: 将室温下 Si 的本征载流子密度 1.51010/cm3及题设电子和空穴的迁移率代入电导率公式

11、() iinp nq 即得: 10196 1.5 101.6 10(1350500)4.44 10 s/cm i ; 已知室温硅的原子密度为 51022/cm3,掺入 1ppm 的砷,则砷浓度 226163 5 10105 10 cm D N 在此等掺杂情况下可忽略少子对材料电导率的贡献,只考虑多子的贡献。这时,电子密 度 n0因杂质全部电离而等于 ND;电子迁移率考虑到电离杂质的散射而有所下降,查表 4-14 知 n-Si 中电子迁移率在施主浓度为 51016/cm3时已下降为 800 cm2/Vs。于是得 1619 5 101.6 108006.4 s cm n nq / 该掺杂硅与本征硅

12、电导率之比 8 6 6.4 1.44 10 4.44 10 i 即百万分之一的砷杂质使硅的电导率增大了 1.44 亿倍 8. 截面积为 0.001cm 2圆柱形纯 Si 样品,长 1mm,接于 10V 的电源上,室温下 希望通过 0.1A 的电流,问: 样品的电阻是多少? 样品的电阻率应是多少? 应该掺入浓度为多少的施主? 解: 样品电阻为100 10 10 .I V R 样品电阻率为cm l Rs 1 10 0010100 . . 查表 4-15(b)知,室温下,电阻率cm1的 n 型 Si 掺杂的浓度应该为 315 105 cm。 有效杂质中心特点 回旋共振实验及目的 实验:将半导体样品置

13、于均匀恒定的磁场,以电磁波通过半导体样品,当交变电磁场频率 w 等于某一频率就会发生共振吸收,这个频率是回旋频率。 目的是测出有效质量,确定能带 结构。 画出导体、半导体、绝缘体的能带结构,并分析导电性能差别的原因。 三者的主要区别: 禁带宽度和导带填充程度 金属导带半满;半导体禁带宽度在 1eV 左右;绝缘体禁带宽且导带空 以 As 掺入 Ge 中为例,说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和 n 型半导体。 As 有 5 个价电子,其中的四个价电子与周围的四个 Ge 原子形成共价键,还剩余一个电子, 同时 As 原子所在处也多余一个正电荷,称为正离子中心,所以,一个 As 原子取代一个 Ge

14、 原子,其效果是形成一个正电中心和一个多余的电子.多余的电子束缚在正电中心,但这种 束缚很弱,很小的能量就可使电子摆脱束缚,成为在晶格中导电的自由电子,而 As 原子形成 一个不能移动的正电中心。 这个过程叫做施主杂质的电离过程。 能够施放电子而在导带中产 生电子并形成正电中心,称为施主杂质或 N 型杂质,掺有施主杂质的半导体叫 N 型半导体。 以 Ga 掺入 Ge 中为例,说明什么是受主杂质、受主杂质电离过程和 p 型半导体。 Ga 有 3 个价电子,它与周围的四个 Ge 原子形成共价键,还缺少一个电子,于是在 Ge 晶体 的共价键中产生了一个空穴, 而 Ga 原子接受一个电子后所在处形成一个负离子中心, 所以, 一个 Ga 原子取代一个 Ge 原子,其效果是形成一个负电中心和一个空穴,空穴束缚在 Ga 原子附近,但这种束缚很弱,很小的能量就可使空穴摆脱束缚,成为在晶格中自由运动的导 电空穴,而 Ga 原子形成一个不能移动的负电中心。这个过程叫做受主杂质的电离过程,能 够接受电子而在价带中产生空穴,并形成负电中心的杂质,称为受主杂质,掺有受主型杂质 的半导体叫 P 型半导体。 以 Si

展开阅读全文
相关资源
相关搜索

当前位置:首页 > 学术论文 > 其它学术论文

电脑版 |金锄头文库版权所有
经营许可证:蜀ICP备13022795号 | 川公网安备 51140202000112号