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1、泓域咨询/沈阳光刻胶项目申请报告报告说明光刻胶中容量最大的成分，光引发剂和添加剂都是固态物质，为了方便均匀涂覆在器件表面，要将它们加入溶剂进行溶解，形成液态物质，且使之具有良好的流动性。根据谨慎财务估算，项目总投资29271.20万元，其中：建设投资24571.34万元，占项目总投资的83.94%；建设期利息506.33万元，占项目总投资的1.73%；流动资金4193.53万元，占项目总投资的14.33%。项目正常运营每年营业收入50600.00万元，综合总成本费用42713.86万元，净利润5749.36万元，财务内部收益率13.39%，财务净现值-632.09万元，全部投资回收期6.84年
2、。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。由上可见，无论是从产品还是市场来看，本项目设备较先进，其产品技术含量较高、企业利润率高、市场销售良好、盈利能力强，具有良好的社会效益及一定的抗风险能力，因而项目是可行的。本期项目是基于公开的产业信息、市场分析、技术方案等信息，并依托行业分析模型而进行的模板化设计，其数据参数符合行业基本情况。本报告仅作为投资参考或作为学习参考模板用途。目录第一章 项目背景、必要性8一、 半导体光刻胶多样化需求8二、 光刻胶技术壁垒8三、 光刻胶组成9四、 加快沈阳现代化都市圈建设9五、 项目实施的必要性10第二章 行业发展分析12一、 面板光刻
3、胶种类12二、 光刻胶分类12第三章 总论14一、 项目名称及项目单位14二、 项目建设地点14三、 可行性研究范围14四、 编制依据和技术原则15五、 建设背景、规模16六、 项目建设进度16七、 环境影响17八、 建设投资估算17九、 项目主要技术经济指标18主要经济指标一览表18十、 主要结论及建议19第四章 建筑工程方案21一、 项目工程设计总体要求21二、 建设方案21三、 建筑工程建设指标23建筑工程投资一览表23第五章 选址分析25一、 项目选址原则25二、 建设区基本情况25三、 积极参与国际经济合作27四、 以优化营商环境为基础全面深化改革28五、 项目选址综合评价29第六章
4、 运营管理模式31一、 公司经营宗旨31二、 公司的目标、主要职责31三、 各部门职责及权限32四、 财务会计制度36第七章 SWOT分析39一、 优势分析（S）39二、 劣势分析（W）41三、 机会分析（O）41四、 威胁分析（T）43第八章 法人治理48一、 股东权利及义务48二、 董事55三、 高级管理人员60四、 监事62第九章 组织机构、人力资源分析65一、 人力资源配置65劳动定员一览表65二、 员工技能培训65第十章 原辅材料供应、成品管理68一、 项目建设期原辅材料供应情况68二、 项目运营期原辅材料供应及质量管理68第十一章 环境保护方案69一、 编制依据69二、 环境影响合
5、理性分析70三、 建设期大气环境影响分析71四、 建设期水环境影响分析75五、 建设期固体废弃物环境影响分析75六、 建设期声环境影响分析76七、 建设期生态环境影响分析77八、 清洁生产77九、 环境管理分析79十、 环境影响结论80十一、 环境影响建议80第十二章 项目规划进度82一、 项目进度安排82项目实施进度计划一览表82二、 项目实施保障措施83第十三章 项目节能分析84一、 项目节能概述84二、 能源消费种类和数量分析85能耗分析一览表85三、 项目节能措施86四、 节能综合评价88第十四章 投资估算及资金筹措89一、 投资估算的依据和说明89二、 建设投资估算90建设投资估算表
6、92三、 建设期利息92建设期利息估算表92四、 流动资金93流动资金估算表94五、 总投资95总投资及构成一览表95六、 资金筹措与投资计划96项目投资计划与资金筹措一览表96第十五章 项目经济效益评价98一、 经济评价财务测算98营业收入、税金及附加和增值税估算表98综合总成本费用估算表99固定资产折旧费估算表100无形资产和其他资产摊销估算表101利润及利润分配表102二、 项目盈利能力分析103项目投资现金流量表105三、 偿债能力分析106借款还本付息计划表107第十六章 风险评估分析109一、 项目风险分析109二、 项目风险对策111第十七章 项目综合评价114第十八章 附表11
7、6营业收入、税金及附加和增值税估算表116综合总成本费用估算表116固定资产折旧费估算表117无形资产和其他资产摊销估算表118利润及利润分配表118项目投资现金流量表119借款还本付息计划表121建设投资估算表121建设投资估算表122建设期利息估算表122固定资产投资估算表123流动资金估算表124总投资及构成一览表125项目投资计划与资金筹措一览表126第一章 项目背景、必要性一、 半导体光刻胶多样化需求在大规模集成电路的制造过程中，光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺，决定着芯片的最小特征尺寸，占芯片制造时间的40-50%，占制造成本的30%。半导体光刻胶随着市场对半导体产品
8、小型化、功能多样化的要求，而不断通过缩短曝光波长提高极限分辨率，从而达到集成电路更高密度的集积。ArF干法光刻胶和ArF湿法光刻胶均是晶圆制造光刻环节的关键工艺材料，ArF湿法光刻胶常用于更先进的技术节点。传统的干法光刻技术中，光刻机镜头与光刻胶之间的介质是空气，光刻胶直接吸收光源发出的紫外辐射并发生光化学反应，但在此种光刻技术中，光刻镜头容易吸收部分光辐射，一定程度上降低光刻分辨率，因此ArF干法光刻胶主要用于55-90nm技术节点；而湿法光刻技术中，光刻机镜头与光刻胶之间的介质是高折射率的液体（如水或其他化合物液体），光刻光源发出的辐射通过该液体介质后发生折射，波长变短，进而可以提高光刻分
9、辨率，故ArF湿法光刻胶常用于更先进的技术节点，如20-45nm。二、 光刻胶技术壁垒在PCB领域内，主要使用的光刻胶包括干膜光刻胶、湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨。干膜光刻胶是由预先配置好的液体光刻胶在精密的涂布机上和高清洁度的条件下均匀涂布在载体聚酯薄膜（PET膜）上，经过烘干、冷却后，在覆上PE膜，收卷而成卷的薄膜型光刻胶。三、 光刻胶组成光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成，在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下，其溶解度发生变化，经适当溶剂处理，溶去可溶性部分，最
10、终得到所需图像。在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶中容量最大的成分，光引发剂和添加剂都是固态物质，为了方便均匀涂覆在器件表面，要将它们加入溶剂进行溶解，形成液态物质，且使之具有良好的流动性。四、 加快沈阳现代化都市圈建设围绕全省构建“一圈一带两区”区域发展格局，深化与鞍山、抚顺、本溪、辽阳、铁岭、沈抚示范区等的联动发展，科学控制发展边界，防止“摊大饼”式扩张，推动统一市场建设、基础设施一体高效、公共服务共建共享、产业专业化分工协作、生态环境共保共治、城乡融合发展、重点领域智
11、慧应用，增强经济和人口承载能力，打造新型工业化的示范区、东北振兴发展的增长极。加快推进都市圈重大基础设施建设，积极主动加强与周边城市对接，打造便捷、高效的一体化城际交通网。以全产业链深度协作为纽带，构建协同发展现代产业体系。有效引导人口流入，增强对年轻人口的吸引力，改善人口结构，提高人口素质。积极推动与以大连为龙头的辽宁沿海经济带开发开放良性互动，在规划衔接、打造物流通道、促进产业发展、推动科技创新、搭建开放平台等方面加强对接协作。加强与辽西融入京津冀协同发展战略先导区、辽东绿色经济区的互动发展。加强与哈长城市群主要城市的多层次、宽领域协同配合。五、 项目实施的必要性（一）提升公司核心竞争力项
12、目的投资，引入资金的到位将改善公司的资产负债结构，补充流动资金将提高公司应对短期流动性压力的能力，降低公司财务费用水平，提升公司盈利能力，促进公司的进一步发展。同时资金补充流动资金将为公司未来成为国际领先的产业服务商发展战略提供坚实支持，提高公司核心竞争力。第二章 行业发展分析一、 面板光刻胶种类彩色滤光片一般由玻璃基板（GlassSubstrate）、黑色光刻胶（BM，即BlackMatrix）、彩色光刻胶层（ColorLayer）、保护层（OverCoat）以及ITO导电膜所组成。彩色光刻胶层RGB排列在玻璃基板上，为了提高不同颜色的对比度和防止不同颜色体之间的背景光的影响，RGB被黑色光
13、刻胶分开。触摸屏用光刻胶主要用于在玻璃基板上沉积ITO制作触摸电极；TFT-LCD正性光刻胶主要用于微细图形加工。彩色光刻胶和黑色光刻胶技术要求很高。彩色光刻胶和黑色光刻胶是由成膜树脂、光引发剂、颜料、溶剂和添加剂组成。一般彩色光刻胶和黑色光刻胶是负性胶，形成的图形与掩模板相反，且彩色光刻胶和黑色光刻胶将留在CF基板上，故对它们的性能要求很高。此外彩色光刻胶和黑色光刻胶含有颜料，和不含颜料的光刻胶体系相比，制造技术要求更高，要求有效的颜料分散稳定技术，还由于颜料具有遮光性，需要高感度光刻树脂体系，高感度光引发剂和树脂的性能起着决定性作用。二、 光刻胶分类光刻胶按显示的效果，可分为正性光刻胶和负
14、性光刻胶。如果显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶；如果显影时曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。由于负性光刻胶显影时易变形和膨胀，分辨率通常只能达到2微米，因此正性光刻胶的应用更为普及。按照应用领域，光刻胶可以划分为半导体用光刻胶、平板显示用光刻胶、PCB光刻胶。随着科技的发展，现代电子电路越发向细小化集成化方向发展，随着对线宽的不同要求，光刻胶的配方有所不同，但应用相同，都是用于微细图形的加工，按照应用领域，光刻胶可以划分为半导体用光刻胶、平板显示用光刻胶、PCB光刻胶。第三章 总论一、 项目名称及项目单位项目名称：沈阳光刻胶项目项
15、目单位：xxx集团有限公司二、 项目建设地点本期项目选址位于xx，占地面积约71.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越，交通便利，规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备，非常适宜本期项目建设。三、 可行性研究范围1、项目背景及市场预测分析；2、建设规模的确定；3、建设场地及建设条件；4、工程设计方案；5、节能；6、环境保护、劳动安全、卫生与消防；7、组织机构与人力资源配置；8、项目招标方案；9、投资估算和资金筹措；10、财务分析。四、 编制依据和技术原则（一）编制依据1、国家和地方关于促进产业结构调整的有关政策决定；2、建设项目经济评价方法与参数；3、投资项目可行性研究指南；4、项目建设地国民经济发展规划；5、其他相关资料。（二）技术原则1、
