X射线荧光光谱分析实验

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1、实验报告内容、实验目的1. 了解X射线荧光光谱仪的结构和工作原理;2. 掌握X射线荧光分析法用于物质成分分析方法和步骤;3. 用X荧光分析方法确定样品中的主要成分。二、实验原理利用初级X射线光子或其他微观离子激发待测物质中的原子,使之产生荧光(次级X射线)而进行物质成分分析和化学态研究的方法。按激发、色散和探测方法的不同,分为X射线光谱法(波长色散)和X射线能谱法(能量色散)。三、实验仪器X射线荧光分析仪序号仪器名称仪器型号件数1Si(Li)探测器SLP-10-190P12高压电源ORTEC5561355FeX射线源几十微居14238PU激发源毫居级15能谱放大器CANBERRA202616微

2、机组装17多功能多道卡ORTEC8K18测量架加工1套9分析用标准样品配置1套10二维步进电机控制器SC-2B111超薄电控平移台TAS30C1四、实验步骤(一)实验参数选择1.阳极靶的选择:选择阳极靶的基本要求:尽可能避免靶材产生的特征X射线激发样品的荧光辐射,以降低衍射花样的背底,使图样清晰。不同靶材的使用范围见表1-1。表1-1不同靶材的使用范围靶的材料经常使用的条件Cu除了黑色金属试样以外的一般无机物、有机物Co黑色金属试样(强度高,但背底也高,最好计数器和单色器联用)Fe黑色金属试样(缺点是靶的允许负荷小)Cr黑色金属试样(用于应力测定)Mo测定钢铁试样或利用透射法测定吸收系数大的试

3、样W单晶的劳厄照相必须根据试样所含元素的种类来选择最适宜的特征X射线波长(靶)。当X射线的波长稍短于试样成分元素的吸收限时,试样强烈地吸收X射线,并激发产生成分元素的荧光X射线,背底增高。其结果是峰背比(信噪比)P/B低(P为峰强度,B为背底强度),衍射图谱难以分清。X射线衍射所能测定的d值范围,取决于所使用的特征X射线的波长。X射线衍射所需测定的d值范围大都在1nm至O.lnm之间。为了使这一范围内的衍射峰易于分离而被检测,需要选择合适波长的特征X射线。详见表1-2。一般测试使用铜靶,但因X射线的波长与试样的吸收有关,可根据试样物质的种类分别选用Co、Fe,或Cr靶。此外还可选用钼靶,这是由

4、于钼靶的特征X射线波长较短,穿透能力强,如果希望在低角处得到高指数晶面衍射峰,或为了减少吸收的影响等,均可选用钼靶。表1-2不同靶材的特征X射线波长元糸原子序数波长(A)激发电压(kv)K1K2K*KPCu291.540501.544341.54181.392178.68Co271.788901.792791.79021.620767.71Fe261.935971.939911.93731.756547.10Cr242.289712.293612.29102.084875.98Ni281.657831.661681.65911.392173.292.管电压和管电流的选择工作电压设定为35倍的靶

5、材临界激发电压。选择管电流时功率不能超过X射线管额定功率,较低的管电流可以延长X射线管的寿命。X射线管经常使用的负荷(管压和管流的乘积)选为最大允许负荷的80左右。但是,当管压超过激发电压5倍以上时,强度的增加率将下降。所以,在相同负荷下产生X射线时,在管压约为激发电压5倍以内时要优先考虑管压,在更高的管压下其负荷可用管流来调节。靶元素的原子序数越大,激发电压就越高。由于连续X射线的强度与管压的平方呈正比,特征X射线与连续X射线的强度之比,随着管压的增加接近一个常数,当管压超过激发电压的45倍时反而变小,所以,管压过高,信噪比P/B将降低,这是不可取得的。具体数据见表1-3:衍射仪测试条件参数

6、选择。表1-3衍射仪测试条件参数选择未知式样的简单相分析铁化合物的相分析有机高分子测定微量项分析定量点阵参数确定靶CuCr,Fe,CoCuCuCuCu,CoKB滤波片NiV,Mn,FeNiNiNiNi,Fe管压(KV)354530403545354535453545管流(mA)304020403040304030403040扫描速度(2,42,41,21/2,11/4,1/21/81/2/min)发散狭缝DS111/2,111/2,1,21()接受狭缝0.30.30.15,0.30.3,0.60.15,0.3,0.60.15,0.3(mm)扫描范围()90(70)212010602(5010)

7、90(70)2需要的衍射线尽可能咼角的衍射线3. 滤波片的选择:Z滤vZ靶一(12)Z靶40,Z滤=乙靶一1Z靶40,Z滤=乙靶一24. 扫描范围的确定不同的测定目的,其扫描范围也不同。当选用Cu靶进行无机化合物的相分析时,扫描范围一般为902(20);对于高分子,有机化合物的相分析,其扫描范围一般为602;在定量分析、点阵参数测定时,一般只对欲测衍射峰扫描几度。5. 扫描速度的确定常规物相定性分析常采用每分钟2或4的扫描速度,在进行点阵参数测定,微量分析或物相定量分析时,常采用每分钟1/2或1/4的扫描速度。(二)样品制备X射线衍射分析的样品主要有粉末样品、块状样品、薄膜样品、纤维样品等。样

8、品不同,分析目的不同(定性分析或定量分析),则样品制备方法也不同。1.粉末样品X射线衍射分析的粉末试样必需满足这样两个条件:晶粒要细小,试样无择优取向(取向排列混乱)。所以,通常将试样研细后使用,可用玛瑙研钵研细。定性分析时粒度应小于40微米(350目),定量分析时应将试样研细至10微米左右。较方便地确定10微米粒度的方法是,用拇指和中指捏住少量粉末,并碾动,两手指间没有颗粒感觉的粒度大致为10微米。常用的粉末样品架为玻璃试样架,在玻璃板上蚀刻出试样填充区为20x18平方毫米。玻璃样品架主要用于粉末试样较少时(约少于500立方毫米)使用。充填时,将试样粉末一点一点地放进试样填充区,重复这种操作

9、,使粉末试样在试样架里均匀分布并用玻璃板压平实,要求试样面与玻璃表面齐平。如果试样的量少到不能充分填满试样填充区,可在玻璃试样架凹槽里先滴一薄层用醋酸戊酯稀释的火棉胶溶液,然后将粉末试样撒在上面,待干燥后测试。2. 块状样品先将块状样品表面研磨抛光,大小不超过20x18平方毫米,然后用橡皮泥将样品粘在铝样品支架上,要求样品表面与铝样品支架表面平齐。3. 微量样品取微量样品放入玛瑙研钵中将其研细,然后将研细的样品放在单晶硅样品支架上(切割单晶硅样品支架时使其表面不满足衍射条件),滴数滴无水乙醇使微量样品在单晶硅片上分散均匀,待乙醇完全挥发后即可测试。4. 薄膜样品制备将薄膜样品剪成合适大小,用胶

10、带纸粘在玻璃样品支架上即可。(三)样品测试1. 开机前的准备和检查将制备好的试样插入衍射仪样品台,盖上顶盖关闭防护罩;开启水龙头,使冷却水流通;X光管窗口应关闭,管电流管电压表指示应在最小位置;接通总电源。2. 开机操作开启衍射仪总电源,启动循环水泵;待数分钟后,打开计算机X射线衍射仪应用软件,设置管电压、管电流至需要值,设置合适的衍射条件及参数,开始样品测试。3. 停机操作测量完毕,关闭X射线衍射仪应用软件;取出试样;15分钟后关闭循环水泵,关闭水源;关闭衍射仪总电源及线路总电源。4. 数据处理测试完毕后,可将样品测试数据存入磁盘供随时调出处理。原始数据需经过曲线平滑,谱峰寻找等数据处理步骤,最后打印出待分析试样衍射曲线和d值、20、强度、衍射峰宽等数据供分析鉴定。五、实验现象及结果处理

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