硅片清洗不净异常处理流程.doc

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1、光伏科技有限公司 清洗不净异常处理流程编 号:HFC-PE-007版 本:A/0编制人/日期: 审核人/日期: 批准人/日期: 2011-05-23发布 2011-05-31实施 光伏科技有限公司 发布文 件 制 修/ 订 记 录 表制/修订日期制/修订后版本号制/修订内容制/修订人 审核人2011-05-15A/0初次制定庞瑞卿刘玲玲需要培训部门: 会签部门生产部工艺部设备部质量部动力部项目部采购部物流部安环部销售部行政部财务部人力资源部网络信息部清洗不净异常处理流程HFC-PE-007A/01 目的明确去PSG清洗不净标准及异常产生后的处理流程,规范操作。2 范围 本标准适用于设备、工艺、

2、生产以及研发各部门涉及到去PSG清洗的人员和职责要求。3 相关文件无4 定义清洗不净异常分为大面积带水、表面有小水滴两种情况5 职责123455.1 清洗工序生产员工在出现清洗不净时及时向工艺工程师反馈异常信息5.2 工艺工程师在接到反馈后及时调查异常原因,并解决异常至恢复正常生产6 环境无7 职业健康安全无8 管理内容8.1 异常处理8.1.1 出现上述异常后,按照如下流程进行处理:清洗不净表面有部分小水滴表面大面积带水添加部分HF,以小于4L为宜查看换酸记录和换酸时间烘干,下传返回重新清洗 无异常 依然清洗不净 酸无异常且未到换酸时间换酸,走片 已到换酸时间加酸后走试验片恢复生产 实验片无

3、异常依然清洗不净8.1.2 注意事项8.1.3 出现清洗不净后无论何种情况都要及时将硅片表面的水珠吸净并烘干,禁止放在桌上风干8.1.4 对表面有小水滴的清洗不净,需要查找清洗不净的原因,对出现清洗不净的硅片,按照异常处理流程处理8.1.4.1 对表面出现大面积挂水的硅片,返回重新清洗,若无异常,即可烘干后正常下传,若依然清洗不净,则可按照表面有部分小水滴的处理流程继续处理;8.1.4.2 清洗不净产生的返工片,直接返回超净进行处理;8.2 清洗不净异常反馈8.2.1 连续出现400片清洗不净,应立即通知主管工程师8.2.2 连续出现800片清洗不净时,除通知主管工程师外,必要时通知工艺部经理9 客户特殊要求无10 记录无11 附件无 3/3

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