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1、泓域咨询/滁州负性光刻胶项目可行性研究报告目录第一章 行业发展分析7一、 光刻工艺的影响因素7二、 负性光刻胶最传统的光刻胶8三、 芯片短缺，上游原材料供应偏紧，国产材料导入进度加快9第二章 公司基本情况11一、 公司基本信息11二、 公司简介11三、 公司竞争优势12四、 公司主要财务数据14公司合并资产负债表主要数据14公司合并利润表主要数据14五、 核心人员介绍15六、 经营宗旨16七、 公司发展规划16第三章 项目建设背景及必要性分析23一、 DUV光刻胶化学放大型KrF&ArF光刻胶23二、 “半导体材料皇冠上的明珠”光刻胶24三、 市场端乘国内成熟制程产能增长东风，从中低端产品开始
2、发力24四、 完善科技创新体制机制28第四章 项目概况29一、 项目名称及项目单位29二、 项目建设地点29三、 可行性研究范围29四、 编制依据和技术原则30五、 建设背景、规模31六、 项目建设进度32七、 环境影响32八、 建设投资估算32九、 项目主要技术经济指标33主要经济指标一览表33十、 主要结论及建议35第五章 项目选址可行性分析36一、 项目选址原则36二、 建设区基本情况36三、 提高产业链供应链稳定性和现代化水平42四、 激发人才创新活力43五、 项目选址综合评价43第六章 建筑工程方案分析45一、 项目工程设计总体要求45二、 建设方案45三、 建筑工程建设指标45建筑
3、工程投资一览表46第七章 SWOT分析48一、 优势分析（S）48二、 劣势分析（W）50三、 机会分析（O）50四、 威胁分析（T）51第八章 发展规划55一、 公司发展规划55二、 保障措施61第九章 原辅材料供应63一、 项目建设期原辅材料供应情况63二、 项目运营期原辅材料供应及质量管理63第十章 劳动安全生产64一、 编制依据64二、 防范措施65三、 预期效果评价68第十一章 进度实施计划69一、 项目进度安排69项目实施进度计划一览表69二、 项目实施保障措施70第十二章 技术方案71一、 企业技术研发分析71二、 项目技术工艺分析73三、 质量管理74四、 设备选型方案75主要
4、设备购置一览表76第十三章 投资方案77一、 编制说明77二、 建设投资77建筑工程投资一览表78主要设备购置一览表79建设投资估算表80三、 建设期利息81建设期利息估算表81固定资产投资估算表82四、 流动资金83流动资金估算表84五、 项目总投资85总投资及构成一览表85六、 资金筹措与投资计划86项目投资计划与资金筹措一览表86第十四章 经济收益分析88一、 经济评价财务测算88营业收入、税金及附加和增值税估算表88综合总成本费用估算表89固定资产折旧费估算表90无形资产和其他资产摊销估算表91利润及利润分配表93二、 项目盈利能力分析93项目投资现金流量表95三、 偿债能力分析96借
5、款还本付息计划表97第十五章 招标及投资方案99一、 项目招标依据99二、 项目招标范围99三、 招标要求100四、 招标组织方式102五、 招标信息发布104第十六章 项目风险分析105一、 项目风险分析105二、 项目风险对策107第十七章 项目综合评价110第十八章 补充表格112主要经济指标一览表112建设投资估算表113建设期利息估算表114固定资产投资估算表115流动资金估算表116总投资及构成一览表117项目投资计划与资金筹措一览表118营业收入、税金及附加和增值税估算表119综合总成本费用估算表119固定资产折旧费估算表120无形资产和其他资产摊销估算表121利润及利润分配表1
6、22项目投资现金流量表123借款还本付息计划表124建筑工程投资一览表125项目实施进度计划一览表126主要设备购置一览表127能耗分析一览表127本报告为模板参考范文，不作为投资建议，仅供参考。报告产业背景、市场分析、技术方案、风险评估等内容基于公开信息；项目建设方案、投资估算、经济效益分析等内容基于行业研究模型。本报告可用于学习交流或模板参考应用。第一章 行业发展分析一、 光刻工艺的影响因素在现代半导体光刻工艺中，光源从紫外宽谱（300-450nm）向特定波长光源发展，从436nm的汞灯g线可见光发展到365nm的汞灯i线中的紫外光，再发展到248nm的氟化氪（KrF）及193nm的氟化氩
7、（ArF）准分子激光。在KrF和ArF准分子激光光源后，还曾有对于以氟气分子（F2）为激光媒介的准分子激光器作为光源的探究，该光源的波长为157nm，但由于浸没式193nm光刻技术研发的成功，157nm光刻技术很快就被抛弃。在通过浸没式光刻和多重曝光技术将193nm光刻推向极致后，13.5nm极紫外（EUV）光刻技术的到来又进一步使得更高的分辨率成为可能。另外除可见光及紫外光以外，电子束、X射线、离子束等也都可作为曝光光源进行使用，目前利用X射线和离子束作为曝光光源的技术还处于研究阶段，未能得到商用。电子束光刻虽然能够得到极高的分辨率，但是该技术由于自身工艺的限制等原因无法高效地进行大规模量产
8、，因而通常被用来制作光刻工艺中所需的掩膜版。在传统的干法光刻工艺中，光在光刻镜头与光刻胶之间的传播介质是空气，因此最大的数值孔径为1.0，也就是光线和光轴的最大张角为90，分辨率在NA=1.0时就达到了极限。而浸没式光刻（也称为湿法光刻）其光刻镜头和光刻胶之间被填充了水（折射率大于空气），因此光能够以更大角度在光刻胶中成像，也就是等效于更加大的数值孔径，由此进一步提高了光刻工艺的分辨率。其实浸没式成像技术最早于19世纪就被提出来了，其目的是提高光学显微镜的分辨率。而这项技术真正大规模应用到现代光刻工艺中是在2007-2009年间，随着荷兰ASML公司推出数值孔径为1.35NA的XT1900i系
9、列光刻机，193nm浸没式光刻才真正地接替193nm干法光刻。随后，再叠加一些辅助的光刻技术，比如分辨率增强技术（RET）、偏振照明、自定义照明、双/多重曝光（多重图案化技术）、自对准空间频率倍增、单方向布线设计等技术，一同推动193nm浸没式光刻技术一直延续到了10nm、7nm的半导体工艺节点。二、 负性光刻胶最传统的光刻胶光刻胶在经过曝光后，被曝光区域变得可溶于显影剂的为正性光刻胶，反之被曝光区域变得不溶于显影剂的则被称为负性光刻胶。早期的光刻胶材料，如犹太沥青、重铬明胶及其他重铬酸盐胶，都是负性光刻胶。在早期的接触式光刻时代，负性光刻胶因其较高的化学稳定性和较好的成像能力，广泛应用于集成
10、电路板和微电子器件的制造领域。最早的用于电子工业上的光刻胶是由Eastman-Kodak公司于1954年生产出来的聚乙烯醇肉桂酸酯系负性光刻胶，而负性光刻胶中应用最为广泛的则是环化橡胶-双叠氮系负性光刻胶。环化橡胶-双叠氮系负性光刻胶由Kodak公司于1958年研发成功，其感光范围为280460nm。该类光刻胶在硅片上具有良好的粘附性，同时具有感光速度快、感光范围宽、抗湿法刻蚀能力强等优点。该类光刻胶以环化橡胶为成膜树脂，以芳香族双叠氮化合物作为交联剂，在紫外光照射下，交联剂发生光化学反应产生自由基使得不同成膜聚合物分子间发生交联，从而变为具有不溶性的聚合物，展现出负性光刻胶的特质。虽然称负性
11、光刻胶的曝光区具有“不溶性”、非曝光区具有“可溶性”，但是实际上通过曝光引起的化学交联作用不足以完全抑制曝光区光刻胶与溶剂之间的相互作用，曝光区光刻胶在显影过程中会发生溶胀现象。由于溶胀现象的产生，导致光刻胶对于衬底的附着力降低，同时也会使得曝光区光刻胶的图案变形。在微米级别的光刻工艺中，溶胀现象所导致的图案变形问题可以通过选择合适的显影液或其他手段来进行控制，对于整体微观图案的尺寸影响程度不大。然而随着光刻工艺分辨率需求的不断提升，特征尺寸在不断缩小，负性光刻胶的溶胀问题的负面影响更加凸显，导致其难以应用于分辨率在2m以下的光刻工艺中。三、 芯片短缺，上游原材料供应偏紧，国产材料导入进度加快
12、自2020年开始，由于新冠疫情在全球蔓延，部分工厂曾暂时关闭相关产能，导致了半导体产业链供应端的短缺。而伴随着疫情常态化运行，全球工业、汽车、消费电子等需求开始复苏，同时叠加多种崭新芯片应用需求的兴起，全球市场对于半导体芯片的需求量大幅增加，全球半导体芯片开始出现供不应求的局面。近期，多家半导体企业纷纷上调产品价格，芯片涨价情况不断向上游延伸，中游的封测和晶圆厂商以及上游的半导体材料厂商也都不同程度地上调了产品价格。此外，由于疫情、地震等不可抗力原因，国外某些厂商的光刻胶等关键半导体材料也出现了供应问题，加剧了半导体材料的短缺问题。这导致了国内的晶圆代工厂商开始积极寻找其他产品供应商，同时也明
13、显加快了对上游原材料产品的验证速度。在这一背景下，以北京科华为代表的国产光刻胶产品也在近期相继实现了在某些制程工艺的成功导入。第二章 公司基本情况一、 公司基本信息1、公司名称：xx有限责任公司2、法定代表人：王xx3、注册资本：770万元4、统一社会信用代码：xxxxxxxxxxxxx5、登记机关：xxx市场监督管理局6、成立日期：2013-6-137、营业期限：2013-6-13至无固定期限8、注册地址：xx市xx区xx9、经营范围：从事负性光刻胶相关业务（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类
14、项目的经营活动。）二、 公司简介公司注重发挥员工民主管理、民主参与、民主监督的作用，建立了工会组织，并通过明确职工代表大会各项职权、组织制度、工作制度，进一步规范厂务公开的内容、程序、形式，企业民主管理水平进一步提升。围绕公司战略和高质量发展，以提高全员思想政治素质、业务素质和履职能力为核心，坚持战略导向、问题导向和需求导向，持续深化教育培训改革，精准实施培训，努力实现员工成长与公司发展的良性互动。公司满怀信心，发扬“正直、诚信、务实、创新”的企业精神和“追求卓越，回报社会” 的企业宗旨，以优良的产品服务、可靠的质量、一流的服务为客户提供更多更好的优质产品及服务。三、 公司竞争优势（一）工艺技
15、术优势公司一直注重技术进步和工艺创新，通过引入国际先进的设备，不断加大自主技术研发和工艺改进力度，形成较强的工艺技术优势。公司根据客户受托产品的品种和特点，制定相应的工艺技术参数，以满足客户需求，已经积累了丰富的工艺技术。经过多年的技术改造和工艺研发，公司已经建立了丰富完整的产品生产线，配备了行业先进的设备，形成了门类齐全、品种丰富的工艺，可为客户提供一体化综合服务。（二）节能环保和清洁生产优势公司围绕清洁生产、绿色环保的生产理念，依托科技创新，注重从产品结构和工艺技术的优化来减少三废排放，实现污染的源头和过程控制，通过引进智能化设备和采用自动化管理系统保障清洁生产，提高三废末端治理水平，保障环境绩效。经过持续加大环保投入，公司已在节能减排和清洁生产方面形成了较为明显的竞争优势。（三）智能生产优势
