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1、泓域咨询/邵阳光刻胶研发项目建议书目录第一章 总论6一、 项目名称及项目单位6二、 项目建设地点6三、 建设背景6四、 项目建设进度6五、 建设投资估算6六、 项目主要技术经济指标7主要经济指标一览表7七、 主要结论及建议9第二章 行业分析和市场营销10一、 半导体光刻胶多样化需求10二、 光刻胶技术壁垒11三、 国内光刻胶市场规模11四、 面板光刻胶种类13五、 光刻胶分类13六、 关系营销及其本质特征14七、 光刻胶组成16八、 体验营销的主要原则16九、 市场细分的原则17十、 关系营销的流程系统19十一、 4C观念与4R理论21第三章 发展规划24一、 公司发展规划24二、 保障措施2
2、5第四章 公司组建方案28一、 公司经营宗旨28二、 公司的目标、主要职责28三、 公司组建方式29四、 公司管理体制29五、 部门职责及权限30六、 核心人员介绍34七、 财务会计制度35第五章 公司治理方案42一、 股东权利及股东（大）会形式42二、 董事长及其职责46三、 公司治理与公司管理的关系49四、 内部控制的相关比较51五、 公司治理的特征54六、 企业内部控制规范的基本内容57七、 公司治理的主体68第六章 经营战略分析71一、 营销组合战略的类型71二、 企业品牌战略的典型类型74三、 企业技术创新战略的概念及特点75四、 企业融资战略的概念76五、 企业经营战略的作用78六
3、、 企业人才及其所需类型79第七章 运营管理模式85一、 公司经营宗旨85二、 公司的目标、主要职责85三、 各部门职责及权限86四、 财务会计制度89第八章 企业文化管理96一、 企业文化是企业生命的基因96二、 品牌文化的塑造99三、 企业文化的创新与发展109四、 企业文化理念的定格设计120五、 品牌文化的基本内容126六、 企业文化的研究与探索144七、 企业文化投入与产出的特点162第九章 人力资源管理165一、 员工福利的概念165二、 薪酬体系165三、 企业劳动定员管理的作用170四、 培训教学设计程序与形成方案171五、 企业组织机构设置的原则176第十章 投资估算181一
4、、 建设投资估算181建设投资估算表182二、 建设期利息182建设期利息估算表183三、 流动资金184流动资金估算表184四、 项目总投资185总投资及构成一览表185五、 资金筹措与投资计划186项目投资计划与资金筹措一览表186第十一章 财务管理188一、 应收款项的管理政策188二、 企业财务管理体制的设计原则192三、 计划与预算196四、 存货成本197五、 财务可行性要素的特征199六、 应收款项的概述200第十二章 经济效益203一、 经济评价财务测算203营业收入、税金及附加和增值税估算表203综合总成本费用估算表204利润及利润分配表206二、 项目盈利能力分析207项目
5、投资现金流量表208三、 财务生存能力分析210四、 偿债能力分析210借款还本付息计划表211五、 经济评价结论212第一章 总论一、 项目名称及项目单位项目名称：邵阳光刻胶研发项目项目单位：xx投资管理公司二、 项目建设地点本期项目选址位于xx（待定），区域地理位置优越，设施条件完备。三、 建设背景彩色和黑色光刻胶市场国产化率较低，触控屏光刻胶逐步实现国产化替代。根据中商产业研究院数据，2020年我国LCD光刻胶国产企业占比较小，达35%。从产品类型来看，我国彩色和黑色光刻胶市场国产化率较低，仅为5%左右，主要日本和韩国外资品牌占领，触控屏光刻胶技术上有所突破，国产化率在30%-40%左右
6、。四、 项目建设进度结合该项目的实际工作情况，xx投资管理公司将项目的建设周期确定为12个月。五、 建设投资估算（一）项目总投资构成分析本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算，项目总投资2114.61万元，其中：建设投资1330.50万元，占项目总投资的62.92%；建设期利息16.36万元，占项目总投资的0.77%；流动资金767.75万元，占项目总投资的36.31%。（二）建设投资构成本期项目建设投资1330.50万元，包括工程费用、工程建设其他费用和预备费，其中：工程费用981.40万元，工程建设其他费用321.23万元，预备费27.87万元。六、 项目主要技
7、术经济指标（一）财务效益分析根据谨慎财务测算，项目达产后每年营业收入8000.00万元，综合总成本费用6061.69万元，纳税总额873.09万元，净利润1421.66万元，财务内部收益率53.19%，财务净现值4236.63万元，全部投资回收期3.52年。（二）主要数据及技术指标表主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1总投资万元2114.611.1建设投资万元1330.501.1.1工程费用万元981.401.1.2其他费用万元321.231.1.3预备费万元27.871.2建设期利息万元16.361.3流动资金万元767.752资金筹措万元2114.612.1自筹资金万元1446.842
8、.2银行贷款万元667.773营业收入万元8000.00正常运营年份4总成本费用万元6061.695利润总额万元1895.546净利润万元1421.667所得税万元473.888增值税万元356.449税金及附加万元42.7710纳税总额万元873.0911盈亏平衡点万元2287.05产值12回收期年3.5213内部收益率53.19%所得税后14财务净现值万元4236.63所得税后七、 主要结论及建议通过分析，该项目经济效益和社会效益良好。从发展来看公司将面向市场调整产品结构，改变工艺条件以高附加值的产品代替目前产品的产业结构。第二章 行业分析和市场营销一、 半导体光刻胶多样化需求在大规模集成
9、电路的制造过程中，光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺，决定着芯片的最小特征尺寸，占芯片制造时间的40-50%，占制造成本的30%。半导体光刻胶随着市场对半导体产品小型化、功能多样化的要求，而不断通过缩短曝光波长提高极限分辨率，从而达到集成电路更高密度的集积。ArF干法光刻胶和ArF湿法光刻胶均是晶圆制造光刻环节的关键工艺材料，ArF湿法光刻胶常用于更先进的技术节点。传统的干法光刻技术中，光刻机镜头与光刻胶之间的介质是空气，光刻胶直接吸收光源发出的紫外辐射并发生光化学反应，但在此种光刻技术中，光刻镜头容易吸收部分光辐射，一定程度上降低光刻分辨率，因此ArF干法光刻胶主要用于55-90
10、nm技术节点；而湿法光刻技术中，光刻机镜头与光刻胶之间的介质是高折射率的液体（如水或其他化合物液体），光刻光源发出的辐射通过该液体介质后发生折射，波长变短，进而可以提高光刻分辨率，故ArF湿法光刻胶常用于更先进的技术节点，如20-45nm。二、 光刻胶技术壁垒在PCB领域内，主要使用的光刻胶包括干膜光刻胶、湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨。干膜光刻胶是由预先配置好的液体光刻胶在精密的涂布机上和高清洁度的条件下均匀涂布在载体聚酯薄膜（PET膜）上，经过烘干、冷却后，在覆上PE膜，收卷而成卷的薄膜型光刻胶。三、 国内光刻胶市场规模下游需求推动国内光刻胶市场规模持续加大。国内光刻胶市场规模自2015年以来
11、增速加快，2019年国内光刻胶市场规模达159亿元，增速15.22%。随着下游需求发展，带动光刻胶行业快速发展，光刻胶市场规模逐步扩大。从产品结构来看，中国本土光刻胶以PCB用光刻胶为主，平板显示、半导体用光刻胶供应量占比很低。PCB光刻胶市场规模趋缓，高端市场仍依赖进口。PCB光刻胶技术壁垒较半导体光刻胶和面板光刻胶较低，率先实现国产化替代，而干膜光刻胶产品高度依赖进口。2019年国内PCB光刻胶市场规模为82亿元，增速3.8%。从企业类型来看，2020年我国PCB光刻胶国产企业占比达61%。彩色和黑色光刻胶市场国产化率较低，触控屏光刻胶逐步实现国产化替代。根据中商产业研究院数据，2020年
12、我国LCD光刻胶国产企业占比较小，达35%。从产品类型来看，我国彩色和黑色光刻胶市场国产化率较低，仅为5%左右，主要日本和韩国外资品牌占领，触控屏光刻胶技术上有所突破，国产化率在30%-40%左右。国内半导体规模持续扩大。2020-2022年是中国大陆晶圆厂投产高峰期，以长江存储等新兴晶圆厂和以中芯国际、华虹为代表的老牌晶圆厂正处于产能扩张期，未来3年将迎来密集投产。光刻胶作为半导体制造的核心材料之一，对半导体光刻胶需求不断增长，据前瞻产业研究院援引美国半导体协会数据显示，中国半导体光刻胶市场从2015年1.3亿美元增长至2020年的3.5亿美元，复合增速达22%。半导体光刻胶应用以高端产品为
13、主。半导体市场上主要使用的光刻胶包括g线、i线、KrF、ArF四类光刻胶，从我国半导体光刻胶的市场结构来看，2020年ArF光刻胶占比40%,KrF光刻胶占比39%，G/I线光刻胶占比20%。从企业类型来看，我国半导体光刻需求主要由外资企业来满足，根据前瞻产业研究院引用新材料在线数据，2020年外资企业市场份额达到71%。从不同光刻胶产品的自给率来看，根据晶瑞电材公告数据，目前适用于6英寸硅片的g线、i线光刻胶的自给率约为10%，适用于8英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足5%，而适用于12寸硅片的ArF光刻胶基本依靠进口。四、 面板光刻胶种类彩色滤光片一般由玻璃基板（GlassSubstrat
14、e）、黑色光刻胶（BM，即BlackMatrix）、彩色光刻胶层（ColorLayer）、保护层（OverCoat）以及ITO导电膜所组成。彩色光刻胶层RGB排列在玻璃基板上，为了提高不同颜色的对比度和防止不同颜色体之间的背景光的影响，RGB被黑色光刻胶分开。触摸屏用光刻胶主要用于在玻璃基板上沉积ITO制作触摸电极；TFT-LCD正性光刻胶主要用于微细图形加工。彩色光刻胶和黑色光刻胶技术要求很高。彩色光刻胶和黑色光刻胶是由成膜树脂、光引发剂、颜料、溶剂和添加剂组成。一般彩色光刻胶和黑色光刻胶是负性胶，形成的图形与掩模板相反，且彩色光刻胶和黑色光刻胶将留在CF基板上，故对它们的性能要求很高。此外彩色光刻胶和黑色光刻胶含有颜料，和不含颜料的光刻胶体系相比，制造技术要求更高，要求有效的颜料分散稳定技术，还由于颜料具有遮光性，需要高感度光刻树脂体系，高感度光引发剂和树脂的性能起着决定性作用。五、 光刻胶分类光刻胶按显示的效果，可分为正性光刻胶和负性光刻胶。如果显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶；如果显影时曝光部
