HDI产品UV雷射制程.doc

上传人:桔**** 文档编号:551135062 上传时间:2023-03-10 格式:DOC 页数:5 大小:38.51KB
返回 下载 相关 举报
HDI产品UV雷射制程.doc_第1页
第1页 / 共5页
HDI产品UV雷射制程.doc_第2页
第2页 / 共5页
HDI产品UV雷射制程.doc_第3页
第3页 / 共5页
HDI产品UV雷射制程.doc_第4页
第4页 / 共5页
HDI产品UV雷射制程.doc_第5页
第5页 / 共5页
亲,该文档总共5页,全部预览完了,如果喜欢就下载吧!
资源描述

《HDI产品UV雷射制程.doc》由会员分享,可在线阅读,更多相关《HDI产品UV雷射制程.doc(5页珍藏版)》请在金锄头文库上搜索。

1、HDI产品UV雷射制程制程参数与系统机器以经过持续性的改善后,波长355nm的UV雷射,将可使未来高密度封装载板类,能够继续得到支援与实现。一、 前言在有机制封装与HDI电路领域中,过去数年中UV雷射的用途已呈现现显着的增加,其主要的推手应归功于微盲孔用途的扩增。此外在还有其他用途的出现,例如:精密切外形与精准烧蚀漆成像之工程,也都带动了UV雷的盛行。本文将举例某些系统机组之工作,以了解其钻孔能力,以及对一般性电路板在制程方面的可行性。二、理论与术语波长:可说明为横波中一种波峰到波峰的距离,在光谱为100nm-10,000nm的范围中,其波长与所显现的颜色有着直接的关系,故可用颜色来表达UV雷

2、射的波长。例如:绿雷射,或紫外雷射等。下Figl即为光谱中颜色与波长的对应关系,而且也显示出某种基频例如波长为1064nm的Nd:YAG紫外雷射,与其谐频谐波之关系。光子:可视为无质量电磁射线的一种粒子,按波长的不同每个光子都有其能位。现就波长为1064nm基本波之Nd:YAG雷射而言,其能位可达1.16v,而其三次谐波之能位为3.49ev。至于另一种C02雷射基本波者,其波长为10600nm,所具有的能位为0.12ev。谐波:每一种雷射都会产生一种基本波长,有如细胞具有分裂的特性,该基本波可分裂成为不同倍率的谐波,例如Nd:YAG雷射的基本波长为1064nm,分裂为两个二次谐波之波长为532

3、nm,三次谐波为355nm,四次谐波266nm。重复率(Repetition Rate或频率):指每种受到能量激动而形成的连续性雷射光都会发出能量。此种连续波也可被进一步切割、加闸、或形成断续的脉冲,而成为分散式的区段,其每秒种所重复出现区段的次数即称为雷射之频率,但此种频率不宜与雷射波长的频率混为一谈。业界所使用脉冲雷射的重复率范围很大,但UV雷射最常用的355nm谐波,其重复率则多在10-100KHz之间。功率:此处所用每秒能量的单位仍为Watt,也就是雷射光源每秒种所辐射出来的总能量或总功能。现今355nm的UV雷射,其功率范围约在3W到10W之间。高期光束:凡雷射光束以TEMoo模式放

4、射者则称为高斯模式,属基本模式或绕射模式。深入探讨时会涉及许多复杂的数学方程式,方得以说明此等共振横波的模式。本文将只简化说明高斯光事为一种表达能量强度的产体造形,特称为高斯分布。下Fig2中即表列出“横波型电磁模式”各种雷射的能量分布情形,Fig3即高斯光束两者在能量强度方面的产体造形所表达的画面。切形光束-系将高斯能量光束造形的峰部削平,而得到切峰后的能量造形,与同级能量强度的高斯造形相比较时,切峰者具有较大的光点半径,可采特殊设计的光学元件以取得此种切峰造形。能量密度:是指雷射光打在单位面积上所呈现的能量,当采用高斯造形或平顶造形的雷射光束加工时,此单位即成为极其重要的参数。每种雷射机器

5、均有其功率与能量的上限,且其光束之大小将成为各种材料能否顺利加工的重要因素,每种材料进行加工时,均需到达起码的“能量密度”,否则加工效率将不够好。高斯光束即具有极大的能量密度,从其造形即可看出能量集中的效果,故可用以切铜箔与玻纤等材料。至于平顶式光束具备较大的总能量,得以在较大面积中有效施工。但其能量密度却低于高斯光束,故只可用于较均质的树脂,薄膜与绿漆以及微盲孔等制程的加工制程。三、有机板材概述均质材料:是指单一成份的材料而言,不含添加剂(Filler)与补强材,可能是一种混合式的聚合物,但整体上仍呈现均匀与稳定性质的材料。例如软质的聚亚醯胺薄膜、背胶铜箔(PCC)、铁氟龙以及液晶树脂等。添

6、充式树脂材料:以高分了聚合物为主体母体,为了机械性与电性的良好起见,可另行加某些有机质或无机性之填充添加料,例如加入陶瓷料的Teflon,短玻纤或醯胺纤,或玻纤环氧树脂等材料。编织式补强材:常指树脂母体中为了机械强度而中加补强之生的复合材料而言,此等连续性或规律性的补强材料,多为无机性的织物(例如:玻纤布),标准的FR-4或BT板材等即为其典型例子。披覆与无披覆式材料:除了上述各种介质材料外,PCB板材还需要铜箔的披覆,做为成线与互连的基础。四、能量的吸收板材是否能顺利接受雷射加工,应端视其是否能对特定之波长进行吸收。当所发射之脉冲雷射光,虽具有很高的能量但却无法被板材吸收时,则所期待之加工定

7、为之徒然。Fig4即列举出数种板材之等级,以及对波长的吸收范围。从电路板材料对雷射光的吸收曲线分析中可看出,并非每种板材均可吸收所有的波长,因而须对特定波长加以选择,以适应待加工的板材,此点已成为极其重要的基本知识。然而针对复合式板材而言,还须做好兼顾彼此的吸收性,做为制程开发的指标。五、雷射制程与热效应之关系UV雷射制程不但会产生化学反应,同时也会散发光与热的作用。至于波长较长的C02雷射,则在光热反应方面还占了更大的比率。此种事实对于无铅化的补强材尤为重要。Fig5中即列出数种板材的熔融或裂解温度,表中所列举铜箔基板的三种材料,其熔点范围却都相距很远。六、各种板材雷射钻孔的实例以聚亚醯胺薄

8、膜与液晶树脂等均质性基板为例,说明雷射钻孔。多数PI基质的薄膜都很容易被355nm的UV雷射所烧蚀加工。此种材料所需的能量密度相当低,并可采用较大型的光点进行快速作业,对于软质电路板已可轻松进行切外形的工作,并对保护膜的开口与板材的导通孔等也都容易加工。针对软板其较困难者不在PI薄膜本身,而是在复合板材结合用的接着层或铜箔层。业界常用的接着剂有环氧树脂与亚克力树脂,前者较易被烧除,但亚克力接着层则对UV雷射却很敏感,须小心找出正确的加工条件,以减少加工边缘的退缩与形成侧蚀。只要找以正确的作业参数,此二缺点即可避免。多层软板的材料叠构中,含PI薄膜以及环氧树脂与亚克力树脂等两种接着剂层。 而且U

9、V雷射也可用于微波板类,且某种可耐高温及吸瀝率很低的新型“液晶树脂”,也正在进行UV雷射加工的评估工作。并确知也可利用355nm的UV雷射去进行加工,右Fig9即为例。七、具有填充料的聚合物板材用于覆晶载板的ABF薄膜即为填充者之一例,所谓ABF是指其某种配方,曾在其环氧树脂中另行填充有二氧化矽的粒子(Silica Particle),做为增层用途的补强板材。可利用平顶造形的雷射光束对此种板材进行微盲孔的加工,也就是有如衡切式的做法,即可取得高品质的导孔。其现行口径50m的微盲孔,平均有95%以上是利用平顶造形光束的UV雷射所制作的。Fig10即为典型(50m微盲孔)在电子显微镜中的俯视画面。

10、由于板材中的二氧化矽粒子比起孔径来仍然非常微小,故采平顶造形光束的衡切(Punch)方式,即可快速进行加工,每秒种可得到900孔的极高速率。八、编织工补强材以FR-4与BT板材为例,其复合组成的数种材料,在熔点与气化温度方面都有着极大的差距。玻璃的熔点可达1700,但环氧树脂却只到260而已。此等在热性方面的巨大差异,不免会对雷射钻孔带来技术上的烦恼。再加上玻纤在编织材料上的复杂性,而使得雷射烧蚀或钻孔的工程变得十分复杂。为了了解IC载板上常见微盲孔的制作难度起见,特将其玻纤布的结构加以说明。Fig11为典型1080玻纤布结构之外观,画面中出现6个小红圈处,即分别代表6个50m微盲孔的位置,因

11、而可看出此等微盲孔可能会落在玻纤纱交织区(Glass Knuckle)的正中央(亦即含有两层玻纤纱),但也可能会落在全无玻纤的树脂区,或介乎两者之间不同密度玻纤纱的组配状态区。而此种局部出现玻纤的配合区,其成孔生的孔壁品质,想要在底铜面上呈现良好圆度与玻纤免于突出两种品质上,做到完美无缺者并不容易。九、铜箔基板铜箔对远红外线领域的C02雷射光,其吸收情况并不好,为了让C02雷射也能直接钻通铜箔基板起见,其铜箔表面必须另备能够吸收雷射的处理层才行。然而UV雷射光却极易被铜面所吸收而得以钻通,即使得厚的铜箔也可利用强大能量的高斯光束予以钻通。事实上在铜箔基板上钻出小径通孔并不困难,由于移除铜材质所

12、需雷射的能量密度,比起一般树脂来要高出很多,因而在完工生其孔壁几乎不会呈现有机物的残留。下Fig14即为铜箔与PI软板中所钻出直径仅30m的通孔,此等对铜箔的高效切除法,已使得在钻孔之外还可在其领域执行加工,例如切外形或对封装板测试线路的切除工作等。UV雷射不但可以烧穿铜箔,而且也可烧透各种介质补强材料,因而经常会被问到:当UV雷射烧透介质而到达内层铜垫表面之际,如何能及时停止而不致伤及铜面?答案就是对UV雷射在能量方面的良好控制,需执行数种不同的步骤,每个步骤均须对其能量密度小心控制。其第一步是利用甬一密度很高的高斯光束,对表面铜箔与下层补强材进行切除。第二步则换成光点较大能量密度降低,且攻

13、击性不强的雷射光清除剩余的树脂,进而得到清洁甚至便于电镀的底铜表现。下两图Fig15及Fig16即为铜箔基板经过两段步骤所完成盲孔的切片图。十、其他用途 UV雷射的其他用途中,以对绿漆烧蚀成像最为成功,此种无需任何底处与沥式化学步骤,而直接以雷射光的能量将无需绿漆的区域直接烧蚀开来,因而可达到高精度的成像水准。而且还可进行绿漆重工,其品质也远超过其他各种困难方法,此乃由于绿漆非常容易吸收UV的波长,并在很低的能量密度下即能完成工作。实做中可采能量密度较低的平顶光束,进行绿漆的加工以防铜面受伤,并可在其较大光点中获致更均匀的能量分布。例如在封装工业中,某些铜垫上进行局部绿漆精准小面积的开窗方面,UV雷射即可驾轻就熟精确施工。下Fig17即呈现铜垫上绿漆被精准移除的画面,请注意铜面的刷痕仍清楚可见,即表UV雷射并非对铜面造成任何伤害,而此等洁净的铜面也大大方便了后续的表面处理工作。且当SMT之脚距愈来愈密时,其各间距处所必须的绿漆阻堤也变得异常困难。Fig18即为UV雷射所烧蚀成像的绿漆阻堤画面,由于并未经过沥式化学品的反应,不但狭窄绿漆对板面的附着力仍然十分良好,且精准度更是令了激赏。

展开阅读全文
相关资源
正为您匹配相似的精品文档
相关搜索

最新文档


当前位置:首页 > 生活休闲 > 社会民生

电脑版 |金锄头文库版权所有
经营许可证:蜀ICP备13022795号 | 川公网安备 51140202000112号