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1、泓域咨询/上海半导体光刻胶项目可行性研究报告目录第一章 项目投资背景分析7一、 光刻胶技术壁垒7二、 光刻胶组成7三、 国内光刻胶市场规模8四、 强化科技创新策源功能9第二章 行业、市场分析11一、 面板光刻胶种类11二、 光刻胶分类11第三章 项目绪论13一、 项目概述13二、 项目提出的理由15三、 项目总投资及资金构成17四、 资金筹措方案17五、 项目预期经济效益规划目标18六、 项目建设进度规划18七、 环境影响18八、 报告编制依据和原则19九、 研究范围20十、 研究结论20十一、 主要经济指标一览表21主要经济指标一览表21第四章 选址分析23一、 项目选址原则23二、 建设区
2、基本情况23三、 强化高端产业引领功能25四、 项目选址综合评价26第五章 建筑技术分析27一、 项目工程设计总体要求27二、 建设方案27三、 建筑工程建设指标28建筑工程投资一览表28第六章 SWOT分析说明30一、 优势分析（S）30二、 劣势分析（W）32三、 机会分析（O）32四、 威胁分析（T）34第七章 法人治理结构42一、 股东权利及义务42二、 董事49三、 高级管理人员53四、 监事56第八章 运营模式分析58一、 公司经营宗旨58二、 公司的目标、主要职责58三、 各部门职责及权限59四、 财务会计制度62第九章 项目进度计划68一、 项目进度安排68项目实施进度计划一览
3、表68二、 项目实施保障措施69第十章 劳动安全评价70一、 编制依据70二、 防范措施72三、 预期效果评价75第十一章 环境保护方案76一、 编制依据76二、 环境影响合理性分析77三、 建设期大气环境影响分析77四、 建设期水环境影响分析79五、 建设期固体废弃物环境影响分析79六、 建设期声环境影响分析80七、 环境管理分析80八、 结论及建议82第十二章 组织机构、人力资源分析84一、 人力资源配置84劳动定员一览表84二、 员工技能培训84第十三章 原辅材料成品管理86一、 项目建设期原辅材料供应情况86二、 项目运营期原辅材料供应及质量管理86第十四章 项目投资分析88一、 投资
4、估算的编制说明88二、 建设投资估算88建设投资估算表90三、 建设期利息90建设期利息估算表90四、 流动资金91流动资金估算表92五、 项目总投资93总投资及构成一览表93六、 资金筹措与投资计划94项目投资计划与资金筹措一览表94第十五章 项目经济效益评价96一、 经济评价财务测算96营业收入、税金及附加和增值税估算表96综合总成本费用估算表97固定资产折旧费估算表98无形资产和其他资产摊销估算表99利润及利润分配表100二、 项目盈利能力分析101项目投资现金流量表103三、 偿债能力分析104借款还本付息计划表105第十六章 项目招标、投标分析107一、 项目招标依据107二、 项目
5、招标范围107三、 招标要求108四、 招标组织方式110五、 招标信息发布112第十七章 风险评估分析113一、 项目风险分析113二、 项目风险对策115第十八章 总结分析117第十九章 附表附录118主要经济指标一览表118建设投资估算表119建设期利息估算表120固定资产投资估算表121流动资金估算表121总投资及构成一览表122项目投资计划与资金筹措一览表123营业收入、税金及附加和增值税估算表124综合总成本费用估算表125利润及利润分配表126项目投资现金流量表127借款还本付息计划表128本报告基于可信的公开资料，参考行业研究模型，旨在对项目进行合理的逻辑分析研究。本报告仅作为
6、投资参考或作为参考范文模板用途。第一章 项目投资背景分析一、 光刻胶技术壁垒在PCB领域内，主要使用的光刻胶包括干膜光刻胶、湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨。干膜光刻胶是由预先配置好的液体光刻胶在精密的涂布机上和高清洁度的条件下均匀涂布在载体聚酯薄膜（PET膜）上，经过烘干、冷却后，在覆上PE膜，收卷而成卷的薄膜型光刻胶。二、 光刻胶组成光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成，在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射下，其溶解度发生变化，经适当溶剂处理，溶去可溶性部分，最终得到所需
7、图像。在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶中容量最大的成分，光引发剂和添加剂都是固态物质，为了方便均匀涂覆在器件表面，要将它们加入溶剂进行溶解，形成液态物质，且使之具有良好的流动性。三、 国内光刻胶市场规模下游需求推动国内光刻胶市场规模持续加大。国内光刻胶市场规模自2015年以来增速加快，2019年国内光刻胶市场规模达159亿元，增速15.22%。随着下游需求发展，带动光刻胶行业快速发展，光刻胶市场规模逐步扩大。从产品结构来看，中国本土光刻胶以PCB用光刻胶为主，平板显示、半
8、导体用光刻胶供应量占比很低。PCB光刻胶市场规模趋缓，高端市场仍依赖进口。PCB光刻胶技术壁垒较半导体光刻胶和面板光刻胶较低，率先实现国产化替代，而干膜光刻胶产品高度依赖进口。2019年国内PCB光刻胶市场规模为82亿元，增速3.8%。从企业类型来看，2020年我国PCB光刻胶国产企业占比达61%。彩色和黑色光刻胶市场国产化率较低，触控屏光刻胶逐步实现国产化替代。根据中商产业研究院数据，2020年我国LCD光刻胶国产企业占比较小，达35%。从产品类型来看，我国彩色和黑色光刻胶市场国产化率较低，仅为5%左右，主要日本和韩国外资品牌占领，触控屏光刻胶技术上有所突破，国产化率在30%-40%左右。国
9、内半导体规模持续扩大。2020-2022年是中国大陆晶圆厂投产高峰期，以长江存储等新兴晶圆厂和以中芯国际、华虹为代表的老牌晶圆厂正处于产能扩张期，未来3年将迎来密集投产。光刻胶作为半导体制造的核心材料之一，对半导体光刻胶需求不断增长，据前瞻产业研究院援引美国半导体协会数据显示，中国半导体光刻胶市场从2015年1.3亿美元增长至2020年的3.5亿美元，复合增速达22%。半导体光刻胶应用以高端产品为主。半导体市场上主要使用的光刻胶包括g线、i线、KrF、ArF四类光刻胶，从我国半导体光刻胶的市场结构来看，2020年ArF光刻胶占比40%,KrF光刻胶占比39%，G/I线光刻胶占比20%。从企业类
10、型来看，我国半导体光刻需求主要由外资企业来满足，根据前瞻产业研究院引用新材料在线数据，2020年外资企业市场份额达到71%。从不同光刻胶产品的自给率来看，根据晶瑞电材公告数据，目前适用于6英寸硅片的g线、i线光刻胶的自给率约为10%，适用于8英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足5%，而适用于12寸硅片的ArF光刻胶基本依靠进口。四、 强化科技创新策源功能坚持创新在发展全局中的核心地位，把科技自立自强作为战略支撑，面向世界科技前沿、面向经济主战场、面向国家重大需求、面向人民生命健康，深入实施创新驱动发展战略，勇做科技创新的开路先锋，敢创世界和未来之新，成为科学新发现、技术新发明、产业新方向、发展新
11、理念的重要策源地，源源不断提供高水平科技供给。突出国家重大战略任务需求导向，进一步提高张江综合性国家科学中心的集中度和显示度，加紧布局一批国家技术创新中心，牵头和参与实施一批国际大科学计划和大科学工程，加强重大科学问题前瞻研究和重要基础学科专业建设，下大力气提升原始创新能力，形成一批基础研究和应用基础研究重大原创成果，推行科技攻关“揭榜挂帅”制度，打好关键核心技术攻坚战。加快构建顺畅高效的技术创新和转移转化体系，鼓励企业与高校、科研院所共建创新平台，支持企业牵头组建创新联合体，打造一批以市场为导向的新型研发机构，探索建立产学研用深度融合的新机制、新模式，完善共性基础技术供给体系，加强共性技术平
12、台建设，大力推动应用场景和公共资源开放共享，推动产业链上中下游、大中小企业融通创新，加速科技成果向现实生产力转化，提高创新链整体效能。加快实施新一轮全面创新改革试验，整合优化科技资源配置，优化基础研究领域多元投入方式，深化对高校、科研机构“放权松绑”，依法坚持和完善科研人员职务发明成果权益分享机制，强化对创新人才、创新团队的分配激励，培育一批具有国际竞争力的创新领军企业和高成长性的科技型中小企业，实现高新技术企业数量大幅增长，打造一批各具特色、充满活力的创新载体，弘扬科学精神和工匠精神，形成更加开放包容、更具吸引力竞争力的创新创业生态。第二章 行业、市场分析一、 面板光刻胶种类彩色滤光片一般由
13、玻璃基板（GlassSubstrate）、黑色光刻胶（BM，即BlackMatrix）、彩色光刻胶层（ColorLayer）、保护层（OverCoat）以及ITO导电膜所组成。彩色光刻胶层RGB排列在玻璃基板上，为了提高不同颜色的对比度和防止不同颜色体之间的背景光的影响，RGB被黑色光刻胶分开。触摸屏用光刻胶主要用于在玻璃基板上沉积ITO制作触摸电极；TFT-LCD正性光刻胶主要用于微细图形加工。彩色光刻胶和黑色光刻胶技术要求很高。彩色光刻胶和黑色光刻胶是由成膜树脂、光引发剂、颜料、溶剂和添加剂组成。一般彩色光刻胶和黑色光刻胶是负性胶，形成的图形与掩模板相反，且彩色光刻胶和黑色光刻胶将留在CF
14、基板上，故对它们的性能要求很高。此外彩色光刻胶和黑色光刻胶含有颜料，和不含颜料的光刻胶体系相比，制造技术要求更高，要求有效的颜料分散稳定技术，还由于颜料具有遮光性，需要高感度光刻树脂体系，高感度光引发剂和树脂的性能起着决定性作用。二、 光刻胶分类光刻胶按显示的效果，可分为正性光刻胶和负性光刻胶。如果显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶；如果显影时曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。由于负性光刻胶显影时易变形和膨胀，分辨率通常只能达到2微米，因此正性光刻胶的应用更为普及。按照应用领域，光刻胶可以划分为半导体用光刻胶、平板显示用光刻胶、PC
15、B光刻胶。随着科技的发展，现代电子电路越发向细小化集成化方向发展，随着对线宽的不同要求，光刻胶的配方有所不同，但应用相同，都是用于微细图形的加工，按照应用领域，光刻胶可以划分为半导体用光刻胶、平板显示用光刻胶、PCB光刻胶。第三章 项目绪论一、 项目概述（一）项目基本情况1、项目名称：上海半导体光刻胶项目2、承办单位名称：xxx有限公司3、项目性质：扩建4、项目建设地点：xxx（待定）5、项目联系人：黎xx（二）主办单位基本情况公司坚持诚信为本、铸就品牌，优质服务、赢得市场的经营理念，秉承以人为本，始终坚持 “服务为先、品质为本、创新为魄、共赢为道”的经营理念，遵循“以客户需求为中心，坚持高端精品战略，提高最高的服务价值”的服务理念，奉行“唯才是用，唯德重用”的人才理念，致力于为客户量身定制出完美解决方案，满足高端市场高品质的需求。展望未来，
