非晶硅薄膜厚度均匀性对其透射光谱的影响

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1、非晶硅薄膜厚度均匀性对其透射光谱的影响非晶硅薄膜是一种重要的光电材料,在廉价太阳能电池、薄膜场 效应管和光敏器件中都有广泛的应用.通过测量透射光谱,人们可以 获得折射率、色散关系、膜厚以及光学能隙这些重要的光学参量.但 在测量时,我们注意到样品由于制备条件的限制,厚度难以保证理想 均匀,而且考虑到光衍射、仪器灵敏度等方面的原因,采用的光栏或 狭缝一般不会太细,有一定的照射面积.因此在分析薄膜的透射谱 时,应该顾及膜厚均匀性的影响.已有文献报道在利用光透射谱或反 射谱测定膜厚和吸收时考虑到这个问题,并提出了合理的解决方法来 测定薄膜正确的光学参量。计算过程介绍:W 1师的岸蹒型,a-StH哉部螂

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6、Un6 s&666Q0BDGa =OX芸 Dw5tn1-F15&。=rw四3猿暮蠢卷5MS斗墨M皇零琦结论:综上所述,薄膜厚度的均匀性严重影响着光透射谱的形状,使它 与均匀厚度样品的透射谱有较大差异,主要发生在薄膜的无吸收区和 弱吸收区,对强吸收区影响不大.这种差异表现在峰一峰值变小和振 荡周期畸变上,随着厚度不均匀度增大而越加明显,但是减小照射面 积可有效地降低这种影响.参考文献:陈冶明.非晶半导体材料和器件EM.北京:科学出版社, 1991. 166415.Ying Xuantong, Feldman A , Farabaugh E N. Fitting of tranmission data for determining the optical constants and thicknesses of opticalfilmsEJ. J. App1. Phys.,1990,67(4): 2056.

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