SEM二次电子成像和背散射电子成像

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1、扫描电镜二次电子及背散射电子成像技术 扫描电镜成像主要是利用样品表面的微区特征,如形貌、原子序数、化学成分、 晶体结构或位向等差异,在电子束作用下产生不同强度的物理信号,使阴极射线 管荧光屏上不同的区域呈现出不同的亮度,从而获得具有一定衬度的图像,常用 的包括主要由二次电子(SE, seco ndary electro n)信号所形成的形貌衬度像和由 背散射电子(BSE, backscattered electron)信号所形成的原子序数衬度像。1. 二次电子(SE)像一形貌衬度二次电子是被入射电子轰击出的原子的核外电子,其主要特点是:能量小于50eV,在固体样品中的平均自由程只有10100n

2、m,在这样浅的表层里, 入射电子与样品原子只发出有限次数的散射,因此基本上未向侧向扩散;(2)二次电子的产额强烈依赖于入射束与试样表面法线间的夹角a , a大的面发射的二 次电子多,反之则少。根据上述特点,二次电子像主要是反映样品表面10 nm左右的形貌特征,像的衬度是形 貌衬度,衬度的形成主要取于样品表面相对于入射电子束的倾角。如果样品表面光滑平 整(无形貌特征),则不形成衬度;而对于表面有一定形貌的样品,其形貌可看成由许多 不同倾斜程度的面构成的凸尖、台阶、凹坑等细节组成,这些细节的不同部位发射的二 次电子数不同,从而产生衬度。二次电子像分辨率高、无明显阴影效应、场深大、立体 感强,是扫描

3、电镜的主要成像方式,特别适用于粗糙样品表面的形貌观察,在材料及生 命科学等领域有着广泛的应用。2. 背散射电子(BSE)像一原子序数衬度背散射电子是由样品反射出来的初次电子,其主要特点是:(1) 能量高,从50eV到接近入射电子的能量,穿透能力比二次电子强得多,可从样品中 较深的区域逸出(微米级),在这样的深度范围,入射电子已有相当宽的侧向扩展,因此 在样品中产生的范围大;(2) 被散射电子发射系数n随原子序数Z的增大而增加,如下图所示。由以上特点可以看出,背散射电子主要反映样品表面的成分特征,即样品平均原子序数 Z大的部位产生较强的背散射电子信号,在荧光屏上形成较亮的区域;而平均原子序数 较低的部位则产生较少的背散射电子,在荧光屏上形成较暗的区域,这样就形成原子序 数衬度(成分衬度)。与二次电子像相比,背散射像的分辨率要低,主要应用于样品表面 不同成分分布情况的观察,比如有机无机混合物、合金等。如上图所示,在铅/锡合金样品的二次电子图像上,可观察到表面起伏的形貌信息;在 被散射电子图像中,可观察到不同组分的分布情况,在铅(原子序数为82)富集的区域亮 度高,而锡(原子序数为 50)富集的区域相对较暗。友情提示:本资料代表个人观点,如有帮助请下载,谢谢您的浏览!

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