《压电超声换能器简单介绍》由会员分享，可在线阅读，更多相关《压电超声换能器简单介绍（1页珍藏版）》请在金锄头文库上搜索。
压电超声换能器（PMUT ）简单介绍作者：王蕾硕孙文斌来源：科学与财富2020年第33期摘要：本文介绍了什么是压电超声换能器，压电超声换能器的优点及其作用，以及实际 生活中的应用，以及结构设计中两种常见的薄膜结构的分析，对其核心技术MEMS （微电子 技术）也有所概括。关键词:PMUT; MEMS ；氮化铝薄膜一.MEMS技术部分微细加工技术（MEMS）基于平面技术，其中两个主要方面的关键微制作技术：圆盘级工 艺（包括圆片键合）和图形转移（包括各向异性和各向同性刻蚀），图形转换包括两步：光学 曝光过程和物理/化学方法形成图形的过程。圆片级工艺 衬底：可选择单晶硅，单晶石英，玻璃，熔（非晶）石英，碑化镓 圆片清洗：1. 强氧化剂（如7：3混合的浓硫酸和双氧水）去除所有有机污染。2. 用比例5 ： 1 ： 1的水，双氧水和氢氧化铵组成的混合溶液去除无机剩余物污染，这一步 会产生薄氧化层，如有必要则用HF去除。3. 用6 ： 1 ： 1的水，盐酸和双氧水混合溶液去除各种离子型污染。 硅片氧化：硅可以表面形成一层高质量的氧化物（在纯氧，850-1150度进行），随着氧 化层增长，氧化速度越来越慢。 局部氧化：硅片局部覆盖氮化硅时该区域不会氧化，其他部分会覆盖上氧化硅。 掺杂：把少量杂质加到半导体晶体里替换原来位置原子的工艺，可改变材料的导电特 性。 薄膜积淀：
