印制电路板各类故障原因及解决方法梳理

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1、印制电路板各类故障原因及解决方法梳理一、 基材部分1 问题:印制板制造过程基板尺寸的变化原因 解决方法(1)经纬方向差异造成基板尺寸变化;由于剪切时,未注意纤维 方向,造成剪切应力残留在基板内,一旦释放,直接影响基板尺寸 的收缩。(1)确定经纬方向的变化规律,按照收缩率在底片上进行补偿(光绘 前进行此项工作)。同时剪切时按纤维方向加工,或按生产厂商在基 板上提供的字符标志进行加工(一般是字符的竖方向为基板的纵方 向)。(2)基板表面铜箔部分被蚀刻掉对基板的变化限 制,当应力消除 时产生尺寸变化。(2)在设计电路时应尽量使整个板面分布均匀。如果不可能也要 必须在空间留下过渡段(不影响电路位置为主

2、)。这由于板材采用玻 璃布结构中经纬纱密度的差异而导致板材经纬向强 度的差异。(3)刷板时由于采用压力过大,致使产生压拉应力导致基板变形。(3)应采用试刷,使工艺参数处在最佳状态,然后进行刷板。对 薄型基材 ,清洁处理时应 采用化学清洗工艺 或电解工艺方法。(4) 采取烘烤方法解决。特别是钻孔前进行烘烤,温度 1200C、4 小时,以确保树脂固化,减少由于冷热的影响,导致基板尺寸的变 形。(5) 特别是多层板在层压前,存放的条件差,使薄基板或半固化 片吸湿,造成尺寸稳定性差。(5) 内层经氧化处理的基材,必须进行烘烤以除去湿气。并将处 理好的基板存放在真空干燥箱内,以免再次吸湿。(6) 多层板

3、经压合时,过度流胶造成玻璃布形变所致。(6) 需进行工艺试压,调整工艺参数然后进行压制。同时还可以 根据半固化片的特性,选择合适的流胶量。2问题:基板或层压后的多层基板产生弯曲(BOW)与翘曲(TWIST)。 原因: 解决方法:(1) 特别是薄基板的放置是垂直式易造成长期应力叠加所致。( 1) 对于薄型基材应采取水平放置确保基板内部任何方向应力均 匀,使基板尺寸变化很小。还必须注意以原包装形式存放在平整的 货架上,切记勿堆高重压。( 2) 热熔或热风整平后,冷却速度太快,或采用冷却工艺不当所 致。(2) 放置在专用的冷却板上自然冷却至室温。(3) 基板在进行处理过程中,较长时间内处于冷热交变的

4、状态下 进行处理,再加基板内应力分布不均,引起基板弯曲或翘曲。(3) 采取工艺措施确保基板在冷热交变时,调节冷、热变换速度, 以避免急骤冷或热。(4) 基板固化不足,造成内应力集中,致使基板本身产生弯曲或 翘曲。(4) A。重新按热压工艺方法进行固化处理。B。为减少基板的残 余应力,改善印制板制造中的尺寸稳定性与产生翘曲形变, 通常采 用预烘工艺即在温度120-1400C 2-4小时(根据板厚、尺寸、数量等 加以选择)。(5) 基板上下面结构的差异即铜箔厚度不同所至。(5) 应根据层压原理,使两面不同厚度的铜箔产生的差异,转成 采取不同的半固化片厚度来解决。3 问题:基板表面出现浅坑或多层板内

5、层有空洞与外来夹杂物。 原因: 解决方法:(1) 铜箔内存有铜瘤或树脂突起及外来颗粒叠压所至。(1) 原材料问题,需向供应商提出更换。( 2) 经蚀刻后发现基板表面透明状,经切片是空洞。( 2) 同上处理方法解决之。(3) 特别是经蚀刻后的薄基材有黑色斑点即粒子状态。( 3) 按上述办法处理。4 问题:基板铜表面常出现的缺陷原因: 解决方法:(1) 铜箔出现凹点或凹坑,这是由于叠层压制时所使用的工具表 面上存有外来杂质。(1) 改善叠层和压合环境,达到洁净度指标要求。(2) 铜箔表面出现凹点与胶点,是由于所采用压板模具压制和叠 层时,存有外来杂质直接影响所至。(2) 认真检查模具表面状态,改善

6、叠层间和压制间工作环境达到工艺 要求的指标。(3) 在制造过程中,所使用的工具不适合导致铜箔表面状态差。(3) 改进操作方法,选择合适的工艺方法。(4) 经压制的多层板表面铜箔出现折痕,是因为叠层在压制时滑动与 流胶不当所至。(4) 叠层时要特别注意层与层间的位置准确性,避免送入压机过程中 滑动。直接接触铜箔表面的不锈钢板,要特小心放置并保持平整.(5) 基板表面出现胶点,可能是叠层时胶屑落在钢板表面或铜表面上 所造成的。(5) 为防止胶屑脱落,可将半固化片边缘进行热合处理。(6) 铜箔表面有针孔造成压制时熔融的胶向外溢出所至。(6) 首先对进厂的铜箔进行背光检查,合格后必须严格的保管,避免

7、折痕或撕裂等。5 问题:板材内出现白点或白斑原因: 解决方法:(1) 板材经受不适当的机械外力的冲击造成局部树脂与玻璃纤维的 分离而成白斑。(1) 从工艺上采取措施,尽量减少或降低机械加工过度的振动现象以 减少机械外力的作用。(2) 局部板材受到含氟化学药品的渗入,而对玻璃纤维布织点的浸蚀 形成有规律性的白点(较为严重时可看出呈方形)。(2) 特别是在退锡铅合金镀层时,易发生在镀金插头片与插头片之间 须注意选择适宜的退锡铅药水及操作工艺。(3) 板材受到不当的热应力作用也会造成白点、白斑。(3) 特别是热风整平、红外热熔等如控制失灵,会造成热应力的作用 导致基板内产生缺陷。二 照相底片制作工艺

8、A .光绘制作底片1. 问题:底片发雾,反差不好原因 解决方法(1) 旧显影液,显影时间过长。(1) 采用新显影液,显影时间短,底片反差好(即黑度好)。(2) 显影时间过长。(2) 缩短显影时间。2. 问题:底片导线边缘光晕大 原因 解决方法(1)显影液温度过高造成过显。 (1)控制显影液温度在工艺范围内。3. 问题:底片透明处显得不够与发雾 原因 解决方法(1) 定影液过旧银粉沉淀加重底片发雾。(1) 更换新定影液。(2) 定影时间不足,造成底色不够透明。(2) 定影时间保持 60 秒以上。4. 问题:照相底片变色原因 解决方法(1) 定影后清洗不充分。(1) 定影后需用大量流动水清洗,最好

9、保持 20 分钟以上。B.原片复制作业1. 问题:经翻制的重氮底片图形变形即全部导线变细而不整齐 原因 解决方法(1) 曝光参数选择不当。(1) 根据底片状态,进行优化曝光时间。(2)原底片的光密度未达到工艺数据。(2)测定光密度,使明处达到 Dmax4.0 数据以上;未要求透明部 分其光密在 Dmin0.2 以下。2. 问题:经翻制的重氮底片其边缘局部导线宽度变细而不整齐 原因 解决方法(1)曝光机光源的工艺参数不正确。(1)采用仪器测量紫外光源灯能量的衰减,如超过使用寿命应进行更 换。(2)需翻的重氮片面积超出曝光框之最佳范围。(2)根据生产情况缩小拼版面积或由于光源太近,将光源提高以拉开

10、 与曝光台面的适当的距离,确保大尺寸的底片处于良好的感光区域 内。3. 问题:经翻制的重氮片全部或局部解像度不良原因 解决方法(1)原采用的底片品质差。(1)检查原底片线路边缘的成像状态,采取工艺措施改进。(2)曝光机台面抽真空系统发生故障。(2)认真检查导气管道是否有气孔或破损。(3)曝光过程中底片有气泡存在。(3)检查曝光机台面是否沾有灰粒;检查子片与曝光机台面所垫黑纸是否有凹蚀或折痕。4问题:经翻制的重氮底片导线变宽,透明区域不足(即Dmin数据过大)原因 解决方法( 1) 选择的曝光工艺参数不当。(1) A.选择适当的曝光时间。B.可能重氮片存放环境接近氨水或有氨气存在,造成不同程度的

11、显影所至。5问题:经翻制的重氮底片遮光区域不足(Dmax数据过低)原因 解决方法(1) 翻制重氮底片时,显影不正确。(1) A.检查显影机是否发生故障。B.检查氨水供应系统,测定浓度是否在Be 26 (即比重为1.22)以上。(2) 原重氮片材质差。(2) 测定原底片材料的光密度Dmax是否在4.0以上。6问题:经翻制的重氮底片暗区遮光性能低Dmax偶而不足原因 解决方法(1) 经翻制重氮片显影不正确。(1) 检查氨气显影机故障状态,并进行调整。(2) 原底片材料存放环境不良。(2)按底片材料说明书要求存放,特别要避免光直照或接近氨水 存放处。(3)操作显影机不当。(3)特别要检查显影机输送带

12、的温度,采用感温变色的特用贴纸 检测,应符合工艺要求(非氨水槽中控温器)。7. 问题:经翻制的重氮片图形区域出现针孔或破洞原因 解决方法(1)曝光区域内有灰尘或尘粒存在。(1)特别要仔细检查曝光台面、原始底片及新重氮片表面干净情 况,并进行擦试。(2)原始底片品质不良。(2)在透图台面检查,并进行仔细的修补(需要证明原始底片质 量时可采取重新翻制第二张,核查对比如相同,可证明之)。(3)所使用的重氮片品质有问题。(3)采取将未曝光的原始重氮片直接氨气显影,使全片呈遮光的 深棕色,再仔细检查是否有针孔与破洞,如有,就可证明之。8. 问题:经翻制的重氮片发生变形走样原因 解决方法(1)环境温湿度控

13、制不严。A.加装温湿度控制器,调节室内达到工艺要求范围内。B.作业环 境温湿度控制:温度为20-270C;湿度40-70%。精度要求高的底片,其湿度控制在 55-60RH。(2)经显定影后,干燥过程控制不当。(2)按照工艺要求将底片水平放置进行吹风、干燥。不宜吊挂晾干, 这样,易变形。(3)翻制前重氮片稳定处理不当。(3)应在底片存放间环境下存放 24 小时,进行稳定处理。C.黑白底片翻制工艺1. 问题:经翻制的黑白底片全部导线宽度变细而不齐原因 解决方法(1)曝光工艺参数选择不当。(1)检查氨气显影机故障状态,并进行调整。(2)原底片品质不良。(2)按底片材料说明书要求存放,特别要避免光直照

14、或接近氨水存 放处。(3)翻制过程显影控制有问题。(3)特别要检查显影机输送带的温度,采用感温变色的特用贴纸检 测,应符合工艺要求(非氨水槽中控温器)。2. 问题:经翻制的底片其外缘导线宽度变细而不整齐原因 解决方法(1)曝光设备校验过期。(1)重新根据工艺要求进行校验,检查光源能量是否在技术要求之 内。(2)光源太接近较大尺寸底片。(2)重新调整光源距离或改用大型曝光机。(3)光源反射器距离与角度失调。(3)重新调节“反射罩面”的距离与角度。3. 问题:经翻制底片解像度不理想,全片导线边缘不锐利原因 解决方法(1)原底片品质不佳。(1)检查原始底片导线边缘状态。(2)曝光机抽真空系统功能性差

15、。(2)A.特别要检查密接部分是否密封及与底片密接部分。B.如抽气 不足,要检查抽气软管是否破损。4. 问题:经翻制的底片局部解像度不良原因 解决方法( 1 ) 原始底片品质不佳。(1)检查原始底片导线边缘的不良情形。( 2) 曝光机抽真空系统功能性差。(2)A.检查抽真空系统的密接处及翻制底片的密接部分。B.检查 气路软管是否有破损部分。(3)曝光过程中底片间有气泡存在。(3)曝光机台面存有灰粒,必须强化抽气系统。5. 问题:经翻制的底片光密度不足(主要指暗区的遮光程度不足) 原因 解决方法(1) 经翻制底片显影过程不正确。(1) 检查显影工艺条件及显影液浓度。(2) 原装底片存放条件不良。(2) 需要存放在符合工艺要求的室内,特别要避免见光。(3)显影设备功能变差。(3)检查与修理,特别是温度及时间控制系统。6. 问题:经翻制的底片图形面出现针孔或破洞原因 解决方法(1) 曝光机

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