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1、芯片生产废水处理技术一芯片废水来源：集成电路芯片制造生产工艺复杂，包括硅片清洗、化学气相沉积、刻蚀等工序反复交叉，生产中使用了大量的化学试剂如HF、H2S04、NH3 H20等。二芯片废水分类将生产废水处理分为：含氨废水处理系统、含氟废水处理系统、CMP研磨废水处理 系统及酸碱废水处理系统。2.1 含氨废水处理系统 含氨废水有两部分，一部分是浓氨氮废水，主要含氨氮和双氧水，氨氮浓度达4001200mg/L;另一部分是稀氨废水，主要含氟化氨，氨氮浓度低于100mg/L。2.2 含氟废水处理系统工艺中采用CaCl2溶液代替传统去氟采用的消石灰，可减少氟化钙污泥量、原料用量和碱液，同时，可避免粉态消
2、石灰的逸散，防止管道堵塞，易于控制投加量，确保系统的稳定高效运行。2.3CMP 研磨废水处理系统研磨废水处理与含氟废水处理很相近，若从节省投资的角度考虑，可以采用同一系统同时处理含氟和CMP研磨两股废水，否则，将增加额外的投资。三处理工艺3.1二级反应+级助凝十一级沉淀，系统出水氟离子浓度基本达到Zomg/L要求； 若增加一级沉淀，即用二级反应+沉淀+一级反应+沉淀的两阶段沉淀反应，系统出 水氟离子浓度可控制在10mg/L以下。3.2浓氨吹脱吸收工艺一含氟废水两阶段沉淀工艺（含氟废水与CMP研磨废水混合处 理）三级酸碱中和处理工艺。3.3 两级反应池、酸碱原液直接投加，运行出水不稳定且药剂消耗量很大。3.4 反冲洗过滤器，是一种利用滤网直接拦截水中的杂质，去除水体悬浮物、颗粒 物，降低浊度，净化水质，减少系统污垢、菌藻、锈蚀等产生，以净化水质及保护 系统其他设备正常工作的设备。经反冲洗过滤器处理后的水质不但达到了国家规定 的废水排放标准，经反冲洗过滤器处理后的水源可重复、循环利用有效的节省了水 资源。四、芯片生产废水严重的污染的水资源及环境，有效治理芯片生产废水已刻不容缓。
