《多功能磁控溅射镀膜装置设计方案、设备配置及概算》由会员分享，可在线阅读，更多相关《多功能磁控溅射镀膜装置设计方案、设备配置及概算（2页珍藏版）》请在金锄头文库上搜索。
1、磁控溅射镀膜机/电子束蒸发镀膜仪技术参数、电子束蒸发镀膜仪技术要求：1. 整机需采用柜式一体化集成封闭结构。高压强电系统需密封在柜内。2. 镀膜技术：采用高真空电子束镀膜和电阻式热蒸发镀膜两种技术。3. 电子枪及热蒸发源：3.1）1台E型电子枪（功率8KW）3.2）四穴水冷坩埚（无氧铜材料）。与基片的距离必须350400mm可调。3.3）3套水冷电极柱3.4）3套电阻热蒸发源3.5）4套挡板。4. 真空腔体：4.1）需用真空专用奥氏体，304不锈钢。立式D形前开门结构；4.2 ）真空室内外全部电化学抛光。4.3）必须预留膜厚仪接口及两个CF35接口；4.4）腔体上要有O100mm观察窗，需配不
2、锈钢挡板。观察窗。4.5 ）极限真空 8x10-5Pa4.6）不锈钢金属波纹管路，真空规管用金属规，需用微机型复合真空计。5. 真空系统：真空系统需采用分子泵（抽速1200L/S） +机械泵真空机组（抽速8L/S）。6. 控制系统：采用PLC控制。同时具有手动操控方式和半自动运行方式。7. 电源系统：恒流，0300A，可控可调。能在三套热蒸发源之间切换使用。8. 基片台：8.1）需配1套尺寸不小于200mm可水冷样品台。8.2）4块独立挡板，可通过磁控拉杆独立控制4部分区域镀膜；8.3）基片转速220转/分，可控可调。基片台可旋转、可升降。9. 膜厚仪：四通道，分辨率0.1埃；至少配1支水冷膜
3、厚探头。10. 水冷系统：需配1台循环制冷恒温水箱，确保能满足冷却要求。11. 动力气源：需配1台低噪声气泵，确保系统能正常工作。12. 安全及报警系统：具有完善的真空互锁及保护系统，对泵、电极等缺水、过流过压、断路等 异常情况报警并执行相应保护措施。至少配6台水流流量计，观察窗必须 加装铅玻璃和滤光片。二、磁控溅射镀膜机技术要求：1. 整机需采用柜式一体化集成封闭结构。高压强电系统需密封在柜内。2. 镀膜形式：三个磁控溅射靶向心溅射镀膜。3. 磁控溅射靶：需配3套2英寸圆形平面磁控溅射靶及挡板，靶头可调角度。挡板需气动 驱动控制。4. 真空腔体：4.1需用真空专用奥氏体，304不锈钢，立式D
4、形前开门结构；4.2真空室内外全部电化学抛光；4.3必须预留膜厚仪接口及两个CF35接口；4.4腔体上要有0100mm观察窗，配不锈钢挡板；4.5极限真空7x10-5Pa；大气到7x10-4Pa,30分钟。4.6采用不锈钢金属波纹管路，真空规管用金属规，需用微机型复合真空计。5. 真空系统：需采用分子泵（抽速600L/S） +机械泵真空机组（抽速8L/S）O插板阀手动电控两用，CF 刀口密封结构。旁抽阀由气动或电动驱动。6. 控制系统：计算机+ PLC两级控制系统1套。7. 电源系统：配智能型直流溅射电源及智能型射频溅射电源各1台，电源与电脑控制系统可互联通讯，可形成溅 射过程的反馈控制。8.
5、 基片台：8.1可放置基片尺寸英寸。需加挡板8.2基片转速220转/分，可控可调。8.3膜厚均匀性：5%。8.4加热器需用进口铠装加热丝，范围：室温600ClC，可控可调8.5基片台可旋转、可加热、可升降。9. 气路系统：质量流量控制器：氮气（200sccm）、氩气（100sccm）、氧气（50sccm）。10. 水冷系统：需配循环制冷恒温水箱，确保能满足冷却要求。11. 动力气源：需配1台低噪声气泵，确保系统能正常工作。12. 安全及报警系统：完善的真空互锁及保护系统，对泵、电极等缺水、过流 过压、断路等异常情况报警并执行相应保护措施。至少配4台水流流量计。三、安装与售后服务要求1. 开标之前，投标方需提前到用户实验室进行实地调研，根据实际情况，给出仪器放置及水电规划图。2. 交货期：签订合同后，3个月内到货并安装调试完毕。3. 需提供免费的培训。4. 售后服务：免费保修至少一年，终身维护。原厂服务响应时间：不超过24小时。
