X荧光光谱仪建立分析报告方法的过程

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1、Axios建立分析方法的过程1. 标准样品的选择和准备采用自制内控标样建立工作曲线,数量不少于io个,且有一定的浓度梯度,可人工配制一些,再 从生产线上自然取得一些。2. 样品制备程序*取样人员应将分析试样研磨至120目以上*准确称量10克样品和0.5克甲基纤维素。*将称好的样品和粘结剂倒入 WC料钵中,再加入3滴三乙醇胺,于振动磨上混合180秒 *压片条件:压力25吨;保压时间30秒。3. 汇编测量条件启动,输入用户名和口令。单击 Application ,再选择 New Application 弹出 New Application 对话框。AddChannelseJ*为新的应用起一个名字,

2、例如Clinker。*单击*单击OK打开汇编条件窗口,例如,添加一个通道设置,建议此名称与应用名一致,例如仍为Clinker。:RF System Set-up - Application - clinkerGeneral*单击*单击*单击-=-=| |=,:标签,定义标签,做一个样品制备描述。标签,定义样品识别方案,一般选择发 free。Airlock抽真空时间(一般选择 8秒)和延迟时间(一般选择Identification scheme秒),将臣Qualitative measurEmerit fir$t前的对勾去掉*单击山心匚心标签,定义样品类型(Pressed Powde)和样品杯(

3、Steel 32mm)。输入样Add Additive.品重量(10g),单击,从化合物表中添加粘结剂名称,在Weight(g)单元格中输入粘结剂的的重量(0.5g),按回车键。Add*单击由|标签,再单击 Smpgid., |按钮打开Add compound对话框,添加要分析的化合 物名称。*单击GT冋*标签,将所有通道的kV和mA修改为50/48。*找一个标准样品来检查角度和 PHD.Check Angle.fy Unload sample after measurement*整行选中一个通道,单击 ,去掉前的对勾,再单击Measure待扫描结束后,确定峰和背景的2,角,以及峰和背景的的测

4、量时间,搜索干扰谱线。悅.XRF System Set-up -匚heck angle For channel SiLl File System Application Monitor Window HelpScan parameters | Background Time$ | Line overlaps | | 21I3OOConQ:Standard: | 三| Peak Bg: |0.000HI上S emit 湎(Kcps/Sft0.1000000LLD(ppm)1.000Peak $|Bgl團Bo4(S)10确定测量时间通常有三种途径: 输入样品中该元素的浓度,给定分析精度,加锁,然后

5、计算其他未加锁的参数。 对于微量成分给定LLD,加锁,然后计算其他未加锁的参数。 根据你的经验直接给定测量时间,加锁,然后计算其他未加锁的参数。加锁的参数在测量过程中是不变化的,未加锁的参数由智能化软件根据试样的浓度自动调整。亠Check PHD.臣 Unload sample after measurement单击,去掉前的对勾,再单击 Measure待扫描结束后,确定LL和UL,要注意逃逸锋、高次荧光及晶体荧光的甄别。4.单击,打开Open sta ndards for applicatior对话框。*选择应用名(例如Clinker),单击OK。Add Standard.*单击二,输入标样

6、名称,点击 Add,待输入最后一个标样名后点 OK*在电子表格中输入元素浓度。*单击保存退出。5.启动单击1打开测量样品窗口。*单击,在窗口的左半部选择量。Application名,在右半部选择标样名,点Measure-开始测*依此将所有的标样测量完毕。6.启动,单击,打开 Open calibration for application 对话框。选择 Application名称,点0K,打开回归窗口falculate,计算回归曲线系数。*单击窗口上半部左上角的全选按钮,选中所有的化合物,点 *依此选中各个通道,点击 0观察回归图。*若回归曲线的RMS不能满足分析要求,可做基体修正。*对于水泥

7、用户,建议采用经验系数法做基体修正打开 Add model coefficient(s)若需作基体修正,点击对话框Lo(O*待所有元素的回归精度都满足要求后,点LoK)或-一栏中选择干扰元素保存退出典型的Alpha系数是:-1Alpha9对于钢铁,铜合金等。-1Alpha40对于氧化物。-1Alpha250对于塑胶,纤维素。光谱重叠系数是:0vLO(c)1古典模型:如果校正标样与未知样品非常相似,古典模型不仅能给出非常好的精度,而且能将其他误差减至最小,例如:基体修正因子中的近似值*样品制备误差样品厚度,如果试样对某些元素不是无限厚,但标样和试样总是相同的FP基体修正模型在下述情况下使用:1.

8、 标样数量少2. 标样与试样基体不相似FP模型有以下好处:*该模型本质上允许无标样分析,利用2-3个标样即可建立校正采用FP模型,不要求标样必须与未知样品有相似的基体容许通过外推得到含量7.建立 Instrument Monitor*在 XRF system set-up 窗口中单击 Monitor 菜单,选择 New instrument monitor ,打开 New in strume nt mon itor对话框。*在New instrument monitor字段中输入仪器监控名(与 Application同名),例如 Clinker,点击Channelset下拉框,选择应用所对应的

9、 Channelset名。*点OK确定。uaBia IBI naBa,BI ni n,BJ ft*点if匹竺标签,再单击SZm. |,在对话框中选择Application名,点OK确定。iAdd Sample. .点別呷也|标签,再单击按钮。添加一个或两个监控样(一定是均匀的、稳定的且有定浓度值的样品)。点保存退出。点Application菜单,选择 Open即plication,打开该应用。在 Channel标签下的Monitor栏打开监控开关Ch annels | Quart砧program | Qualitative program匚 hannelfat:CorrectedMeasure

10、dbices Compounds8 .测量 Instrument monitor启动IMmsuic Ar力卽酬,单击,选择Sample下的* 在窗口的左半部选择 Instrument monitor(s)名,在右半部选择 Instrument monitor sample(s名。Measure*单击 开始测量。9.建立一个Daily Monitor Sample(日常检查样)找一个标准样品做日常检查样,其荧光分析值与化学值应吻合得较好。10 .考核分析精度总的分析误差应包括:a. 样品作成再现性误差b. 检量线作成误差c. 仪器不稳定性误差d. 仪器重调误差e. 计数统计误差测量仪器分析精度时

11、,应测量动态精度,而且样品要重新制备,若测量精密度满足生产需要, 则该方法可投入使用。11.启动 Measured Ana |yse | , 分析未知样品12.日常精度管理每月随机抽取一定数量的样品,用化学方法或其它不同原理的仪器进行核对。Magix日常分析过程 一区1. 数据库维护叭金:SuperQ lamagerSoftware for Philips FW24IL PW2404and MagiX PRO XRF Spectrometersby Philips AnaljHicdl B V. - Almelo The Netherlands.Koninklijke Philip! Elee

12、lfonics N.V. All lights reserved.1Q+ToolsCopQuantitativeXFtF System SetupDatabase Compact| database Maintenanci!Database .estoirEDatabase UpdateIQ+ C onver s i onLangTiage C onfi 科ur at arRElts CoTtversi on ud ImportVni qut Int-erface SetnpVni quant Results TraiiEftrZ40 To SuprQ ConvarsiorL2. 输出系统文件

13、3. 输出 Application4. 输出 Standards5. 拷贝结果数据库文件(.rdb文件)5. Backup SuperQ database制作数据CD影响元素的选择分析=1= 元糸谱线overlapa吸收增强增强Y 高次荧光C :KAMo,W,NbIN, O, F, Na, MgB, BeN , O , F , Na , MgOKACa,Na:F, Na,Mg,AlB,C,NF , Na , Mg,AlFKAP,CaNa,Mg,Al,SiO, N, BNa , Mg , Al, SiNa :KAZn 丄a,AIMg,Al,Si,P,SF, O, N, CMg , Al, Si , P , SMgKACa,SeAl,Si,P,SNa, FAl, Si , P , SAlKACr,Ba,BrSi, P, SMg, Na, FSi , P , SSi:KAW,S n,Co:P, S,K,CaAL, Mg, Na, FP , S , K , CaPKAMo,W,Cu,YS,K, Ca, Sc, TiSi, Al, Mg, NaS , K , Ca , Sc, TiSKAMo,Co,Ti,Zr,PtK, Ca, Sc, Ti, VP, Si, Al, Mg,

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